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1. (WO2008022259) SOLUTION SERVANT À FORMER UNE BOUE DE POLISSAGE, BOUE DE POLISSAGE ET PROCÉDÉS CORRESPONDANTS
Dernières données bibliographiques dont dispose le Bureau international   

N° de publication :    WO/2008/022259    N° de la demande internationale :    PCT/US2007/076098
Date de publication : 21.02.2008 Date de dépôt international : 16.08.2007
CIB :
C09K 13/00 (2006.01)
Déposants : INTERNATIONAL BUSINESS MACHINES CORPORATION [US/US]; New Orchard Road, Armonk, NY 10504 (US) (Tous Sauf US).
COMEAU, Joseph, K.V. [US/US]; (US) (US Seulement).
KATSNELSON, Marina, M. [US/US]; (US) (US Seulement).
TIERSCH, Matthew, T. [US/US]; (US) (US Seulement).
WHITE, Eric, J. [US/US]; (US) (US Seulement)
Inventeurs : COMEAU, Joseph, K.V.; (US).
KATSNELSON, Marina, M.; (US).
TIERSCH, Matthew, T.; (US).
WHITE, Eric, J.; (US)
Mandataire : CANALE, Anthony, J.; International Business Machines Corporation, Intellectual Property Law-Zip 972-E, 1000 River Street, Essex Junction, VT 05452 (US)
Données relatives à la priorité :
11/465,176 17.08.2006 US
Titre (EN) SOLUTION FOR FORMING POLISHING SLURRY, POLISHING SLURRY AND RELATED METHODS
(FR) SOLUTION SERVANT À FORMER UNE BOUE DE POLISSAGE, BOUE DE POLISSAGE ET PROCÉDÉS CORRESPONDANTS
Abrégé : front page image
(EN)A solution for forming a polishing slurry, the polishing slurry and related methods are disclosed. The solution for forming a polishing slurry may include 1 H- benzotriazole (BTA) dissolved in an ionic surfactant such as a sodium alkyl sulfate solution, and perhaps a polyacrylic acid (PAA) solution. The solution can be filtered and used in a polishing slurry. This approach to solubilizing BTA results in a high BTA concentration in a polishing slurry without addition of foreign components to the slurry or increased safety hazard. In addition, the solution is easier to ship because it is very stable (e.g., can be frozen and thawed) and has less volume compared to conventional approaches. Further, the polishing slurry performance is vastly improved due to the removal of particles that can cause scratching.
(FR)L'invention concerne une solution servant à former une boue de polissage, la boue de polissage et les procédés correspondants. La solution servant à former une boue de polissage peut comprendre du 1H-benzotriazole (BTA) dissous dans un tensioactif ionique tel qu'une solution d'alkylsulfate de sodium et éventuellement une solution d'acide polyacrylique (PAA). La solution peut être filtrée et utilisée dans une boue de polissage. Cette approche de la solubilisation du BTA entraîne une concentration élevée du BTA dans une boue de polissage sans ajout de composants étrangers à la boue ni risques accrus pour la sécurité. En plus, la solution est plus facile à transporter parce qu'elle est très stable (par exemple elle peut être congelée et dégelée) et qu'elle a un volume inférieur par rapport aux approches classiques. En outre, les performances de la boue de polissage sont grandement améliorées à cause de l'élimination de particules qui peuvent provoquer des rayures.
États désignés : AE, AG, AL, AM, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IS, JP, KE, KG, KM, KN, KP, KR, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LT, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PG, PH, PL, PT, RO, RS, RU, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, SV, SY, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW.
Organisation régionale africaine de la propriété intellectuelle (ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LS, MW, MZ, NA, SD, SL, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Office eurasien des brevets (OEAB) (AM, AZ, BY, KG, KZ, MD, RU, TJ, TM)
Office européen des brevets (OEB) (AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MT, NL, PL, PT, RO, SE, SI, SK, TR)
Organisation africaine de la propriété intellectuelle (OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
Langue de publication : anglais (EN)
Langue de dépôt : anglais (EN)