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1. (WO2008021500) MODIFICATION DE SURFACES AVEC DES POLYMÈRES
Dernières données bibliographiques dont dispose le Bureau international   

N° de publication :    WO/2008/021500    N° de la demande internationale :    PCT/US2007/018268
Date de publication : 21.02.2008 Date de dépôt international : 17.08.2007
CIB :
C08F 8/00 (2006.01), C08F 255/02 (2006.01), C08F 255/00 (2006.01), C08F 293/00 (2006.01)
Déposants : UNIVERSITY OF PITTSBURGH-OF THE COMMONWEALTH SYSTEM OF HIGHER EDUCATION [US/US]; 200 Gardner Steel Conference Center, Thackeray & O'Hara Streets, Pittsburgh, PA 15260 (US) (Tous Sauf US).
CARNEGIE MELLON UNIVERSITY [US/US]; 5000 Forbes Avenue, Pittsburgh, PA 15213 (US) (Tous Sauf US).
HUANG, Jinyu [CN/US]; (US) (US Seulement).
RUSSELL, Alan, J. [US/US]; (US) (US Seulement).
TSAREVSKY, Nicolay, V. [BG/US]; (US) (US Seulement).
MATYJASZEWSKI, Krzysztof [US/US]; (US) (US Seulement)
Inventeurs : HUANG, Jinyu; (US).
RUSSELL, Alan, J.; (US).
TSAREVSKY, Nicolay, V.; (US).
MATYJASZEWSKI, Krzysztof; (US)
Mandataire : BARTONY, Henry, E., Jr.; Bartony & Hare, LLP, 1806 Frick Building, 437 Grant Street, Pittsburgh, PA 15219-6101 (US)
Données relatives à la priorité :
60/838,337 17.08.2006 US
Titre (EN) MODIFICATION OF SURFACES WITH POLYMERS
(FR) MODIFICATION DE SURFACES AVEC DES POLYMÈRES
Abrégé : front page image
(EN)A polymer formed by controlled radical polymerization includes groups that can be modified after controlled radical polymerization to form a radical. The polymer can be the reaction product of a controlled radical polymerization of radically polymerizable monomers, wherein at least one of the radically polymerizable monomers includes at least one group that can be modified after the controlled radical polymerization to form a radical. A compound includes a first group that is stimulated upon application of energy to the molecule to tether the molecule to a surface or to another polymer chain and a second group comprising a controlled radical polymerization initiator functionality. A block copolymer includes at least a first segment to impart a predetermined functionality to a target surface and at least a second segment including functional groups to interact with the targeted surface to attach the block copolymer to the surface. The first segment can free of functional groups that interact with the surface to attach the block copolymer to the surface.
(FR)La présente invention concerne un polymère formé par polymérisation radicalaire contrôlée comprenant des groupes pouvant être modifiés après la polymérisation radicalaire contrôlée pour former un radical. Le polymère peut être le produit réactionnel d'une polymérisation radicalaire contrôlée de monomères polymérisables radicalement ; au moins un des monomères polymérisables radicalement comprend au moins un groupe qui peut être modifié après la polymérisation radicalaire pour former un radical. Un composé comprend un premier groupe qui est stimulé lors d'application d'énergie à la molécule pour fixer la molécule à la surface ou à une chaîne de polymères et un second groupe comportant une fonctionnalité d'initiateur de polymérisation radicalaire contrôlée. Un copolymère bloc comprend au moins un premier segment pour procurer une fonctionnalité prédéterminée à une surface cible et au moins un second segment comprenant des groupes fonctionnels pour une interaction avec la surface ciblée pour lier le copolymère bloc à la surface. Le premier segment peut être exempt de groupes fonctionnels qui sont en interaction avec la surface pour lier le copolymère bloc à la surface.
États désignés : AE, AG, AL, AM, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IS, JP, KE, KG, KM, KN, KP, KR, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LT, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PG, PH, PL, PT, RO, RS, RU, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, SV, SY, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW.
Organisation régionale africaine de la propriété intellectuelle (ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LS, MW, MZ, NA, SD, SL, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Office eurasien des brevets (OEAB) (AM, AZ, BY, KG, KZ, MD, RU, TJ, TM)
Office européen des brevets (OEB) (AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MT, NL, PL, PT, RO, SE, SI, SK, TR)
Organisation africaine de la propriété intellectuelle (OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
Langue de publication : anglais (EN)
Langue de dépôt : anglais (EN)