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1. (WO2008020558) PROCÉDÉ DE TRAITEMENT D'UN MATÉRIAU POUR PLAQUE D'IMPRESSION LITHOGRAPHIQUE PHOTOSENSIBLE
Dernières données bibliographiques dont dispose le Bureau international   

N° de publication :    WO/2008/020558    N° de la demande internationale :    PCT/JP2007/065521
Date de publication : 21.02.2008 Date de dépôt international : 08.08.2007
CIB :
G03F 7/30 (2006.01), G03F 7/00 (2006.01), G03F 7/11 (2006.01), G03F 7/32 (2006.01)
Déposants : Konica Minolta Medical & Graphic, Inc. [JP/JP]; 1, Sakura-machi, Hino-shi, Tokyo 1918511 (JP) (Tous Sauf US).
SUZUKI, Toshitsugu [JP/JP]; (JP) (US Seulement)
Inventeurs : SUZUKI, Toshitsugu; (JP)
Données relatives à la priorité :
2006-223156 18.08.2006 JP
Titre (EN) METHOD OF PROCESSING MATERIAL FOR PHOTOSENSITIVE LITHOGRAPHIC PRINTING PLATE
(FR) PROCÉDÉ DE TRAITEMENT D'UN MATÉRIAU POUR PLAQUE D'IMPRESSION LITHOGRAPHIQUE PHOTOSENSIBLE
(JA) 感光性平版印刷版材料の処理方法
Abrégé : front page image
(EN)A method of processing a material for photosensitive lithographic printing plate having a support and, superimposed thereon, a photopolymerizable photosensitive layer and an oxygen barrier layer containing a water soluble polymer and a chelating agent, including the sequentially performed steps of imagewise exposure, washing with a preliminary washing water to thereby remove the oxygen barrier layer, developing with a developer of 10 to 12 pH containing none of silicates and post-development water washing with a washing water, characterized in that the preliminary washing water used in the step of removing the oxygen barrier layer is reutilized to replenish the post-development washing water. The thus provided method of processing a material for photosensitive lithographic printing plate prevents sticking of foreign matter to nonimage areas and staining thereof and reduces stop staining.
(FR)Procédé de traitement d'un matériau pour plaque d'impression lithographique photosensible ayant un support et sur laquelle sont superposées une couche photosensible photopolymérisable et une couche formant une barrière contre l'oxygène contenant un polymère soluble dans l'eau et un agent chélatant. Le procédé comprend les étapes réalisées successivement d'exposition dans le sens de l'image, de lavage avec une eau de lavage préliminaire pour enlever de cette manière la couche formant une barrière contre l'oxygène, de développement avec un révélateur de pH 10 à 12 ne contenant pas de silicates et de lavage à l'eau après le développement avec une eau de lavage. Le procédé est caractérisé en ce que l'eau du lavage préliminaire utilisée dans l'étape d'élimination de la couche formant une barrière contre l'oxygène est réutilisée pour régénérer l'eau de lavage après le développement. Le procédé de traitement d'un matériau pour plaque d'impression lithographique photosensible ainsi fourni empêche le collage d'une substance étrangère aux zones de non-image ainsi que la coloration de celles-ci, et réduit la coloration à l'arrêt.
(JA) 本発明は、支持体上に光重合型感光層および、水溶性ポリマーおよびキレート剤を含有する酸素遮断層を有する感光性平版印刷版材料を処理する処理方法であって、画像露光する工程、前水洗水で水洗して酸素遮断層を除去する工程、pHが10~12で珪酸塩を含有しない現像液で現像する工程および現像後水洗水で水洗する工程をこの順に有し、酸素遮断層を除去する工程に用いられた前水洗水を現像後水洗水に補充して再利用することを特徴とし、非画像部への異物付着汚れを防止し、ストップ汚れを低減した感光性平版印刷版材料の処理方法が提供できる。
États désignés : AE, AG, AL, AM, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IS, JP, KE, KG, KM, KN, KP, KR, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LT, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PG, PH, PL, PT, RO, RS, RU, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, SV, SY, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW.
Organisation régionale africaine de la propriété intellectuelle (ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LS, MW, MZ, NA, SD, SL, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Office eurasien des brevets (OEAB) (AM, AZ, BY, KG, KZ, MD, RU, TJ, TM)
Office européen des brevets (OEB) (AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MT, NL, PL, PT, RO, SE, SI, SK, TR)
Organisation africaine de la propriété intellectuelle (OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
Langue de publication : japonais (JA)
Langue de dépôt : japonais (JA)