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1. (WO2008020082) PROCÉDÉ ET DISPOSITIF POUR LA FABRICATION D'UN REVÊTEMENT
Dernières données bibliographiques dont dispose le Bureau international   

N° de publication :    WO/2008/020082    N° de la demande internationale :    PCT/EP2007/058594
Date de publication : 21.02.2008 Date de dépôt international : 17.08.2007
CIB :
B05D 7/24 (2006.01), B05D 7/14 (2006.01)
Déposants : FRAUNHOFER-GESELLSCHAFT ZUR FÖRDERUNG DER ANGEWANDTEN FORSCHUNG E.V. [DE/DE]; Hansastr. 27 c, 80686 München (DE) (Tous Sauf US).
IHDE, Jörg [DE/DE]; (DE) (US Seulement).
DEGENHARDT, Jost [DE/DE]; (DE) (US Seulement).
SALZ, Dirk [DE/DE]; (DE) (US Seulement).
WÜBBEN, Thomas [DE/DE]; (DE) (US Seulement).
LOMMATZSCH, Uwe [DE/DE]; (DE) (US Seulement)
Inventeurs : IHDE, Jörg; (DE).
DEGENHARDT, Jost; (DE).
SALZ, Dirk; (DE).
WÜBBEN, Thomas; (DE).
LOMMATZSCH, Uwe; (DE)
Mandataire : SENDROWSKI, Heiko; Eisenführ, Speiser & Partner, Postfach 10 60 78, 28060 Bremen (DE)
Données relatives à la priorité :
10 2006 038 780.5 18.08.2006 DE
Titre (DE) VERFAHREN UND VORRICHTUNG ZUM HERSTELLEN EINER BESCHICHTUNG
(EN) METHOD AND DEVICE FOR PRODUCING A COATING
(FR) PROCÉDÉ ET DISPOSITIF POUR LA FABRICATION D'UN REVÊTEMENT
Abrégé : front page image
(DE)Die vorliegende Erfindung betrifft eine Beschichtungsvorrichtung, umfassend einen Plasmaerzeugungsraum mit einem Gehäuse zur Aufnahme eines darin erzeugten Plasmas, einem vom Gehäuse gebildeten Düsenkanal mit einem Austritt aus dem Gehäuse, einer im Düsenkanal angeordneten Elektrode, einer lonisationsgaszufuhr zum Zuführen eines im Plasmaerzeugungsraum zu ionisierenden Gases mit einem Volumenstrom von 15 bis 50 l/min, einem Relaxationsraum, umfassend eine Precursoreinspeisung, die vom Austritt des Gehäuses des Plasmaerzeugungsraumes 1 bis 25 mm, bevorzugt 1 bis 7 mm, beabstandet ist.
(EN)The present invention relates to a coating device, comprising a plasma generating chamber with a housing for the collection of the plasma produced therein, a nozzle duct formed by the housing with an outlet from the housing, an electrode arranged in the nozzle duct, an ionized gas inlet for the inlet of a gas to be ionized in the plasma generating chamber with a volume flow of 15 to 50 l/min, a relaxation chamber, comprising a precursor feed, being spaced 1 to 25 mm, preferably 1 to 7 mm from the outlet of the housing of the plasma generating chamber.
(FR)La présente invention concerne un dispositif de revêtement, comprenant une chambre de production de plasma avec un boîtier pour recueillir un plasma généré à l'intérieur du boîtier, un canal d'injection formé par le boîtier avec une sortie du boîtier, une électrode disposée dans le canal d'injection, une amenée de gaz d'ionisation pour amener un gaz à ioniser dans la chambre de production de plasma avec un flux de 15 à 50l/min, une chambre de relaxation, comprenant une alimentation en précurseurs, qui est distante de la sortie du boîtier de la chambre de production de plasma de 1 à 25mm, de préférence de 1 à 7mm.
États désignés : AE, AG, AL, AM, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IS, JP, KE, KG, KM, KN, KP, KR, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LT, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PG, PH, PL, PT, RO, RS, RU, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, SV, SY, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW.
Organisation régionale africaine de la propriété intellectuelle (ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LS, MW, MZ, NA, SD, SL, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Office eurasien des brevets (OEAB) (AM, AZ, BY, KG, KZ, MD, RU, TJ, TM)
Office européen des brevets (OEB) (AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MT, NL, PL, PT, RO, SE, SI, SK, TR)
Organisation africaine de la propriété intellectuelle (OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
Langue de publication : allemand (DE)
Langue de dépôt : allemand (DE)