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1. (WO2008018390) PROCÉDÉ DE FORMATION D'UN MOTIF DE CELLULES
Dernières données bibliographiques dont dispose le Bureau international   

N° de publication :    WO/2008/018390    N° de la demande internationale :    PCT/JP2007/065294
Date de publication : 14.02.2008 Date de dépôt international : 03.08.2007
Demande présentée en vertu du Chapitre 2 :    06.03.2008    
CIB :
C12N 5/00 (2006.01), C12N 5/06 (2006.01), C12M 1/42 (2006.01), C12M 3/00 (2006.01)
Déposants : TOHOKU UNIVERSITY [JP/JP]; 1-1, Katahira 2-chome, Aoba-ku, Sendai-shi Miyagi 9808577 (JP) (Tous Sauf US).
YASUKAWA, Tomoyuki [JP/JP]; (JP) (US Seulement).
SUZUKI, Masato [JP/JP]; (JP) (US Seulement).
SHIKU, Hitoshi [JP/JP]; (JP) (US Seulement).
HORI, Yoshio [JP/JP]; (JP) (US Seulement).
INAGAKI, Akiko [JP/JP]; (JP) (US Seulement).
KOMABAYASHI, Mariko [JP/JP]; (JP) (US Seulement).
MATSUE, Tomokazu [JP/JP]; (JP) (US Seulement)
Inventeurs : YASUKAWA, Tomoyuki; (JP).
SUZUKI, Masato; (JP).
SHIKU, Hitoshi; (JP).
HORI, Yoshio; (JP).
INAGAKI, Akiko; (JP).
KOMABAYASHI, Mariko; (JP).
MATSUE, Tomokazu; (JP)
Mandataire : NAGAHAMA, Noriaki; NAGAHAMA INTERNATIONAL PATENT FIRM Kimpodo Bldg. 9th Floor, 2-8-21, Kyobashi Chuo-ku, Tokyo 1040031 (JP)
Données relatives à la priorité :
2006-218280 10.08.2006 JP
Titre (EN) CELL PATTERNING METHOD
(FR) PROCÉDÉ DE FORMATION D'UN MOTIF DE CELLULES
(JA) 細胞のパターニング方法
Abrégé : front page image
(EN)A cell patterning method which comprises: using an electrode baseboard provided with a plural number of electrodes and a cell culture baseboard located facing to the above-described electrode baseboard; supplying a cell suspension containing cells into the area between the above-described electrode baseboard and the above-described cell culture baseboard; applying a voltage to the above-described electrodes; thus generating a non-uniform electrical field in the above-described area; aligning the above-described cells at a site with a weak electrical field strength on the above-described cell culture baseboard with the use of negative dielectrophoresis; and thus obtaining a cell culture baseboard on which the above-described cells have been aligned in a definite pattern.
(FR)L'invention concerne un procédé de formation d'un motif de cellules, ledit procédé comprenant les étapes consistant à : utiliser une plaquette à électrodes dotée d'une pluralité d'électrodes et une plaquette à culture cellulaire disposée en regard de ladite plaquette à électrodes ; introduire une suspension cellulaire contenant des cellules dans la région comprise entre ladite plaquette à électrodes et ladite plaquette à culture cellulaire ; appliquer une tension auxdites électrodes ; créer ainsi un champ électrique non uniforme dans ladite région ; aligner sur ladite plaquette à culture cellulaire, par diélectrophorèse négative, lesdites cellules en un site au niveau duquel le champ électrique possède une faible intensité ; et obtenir ainsi une plaquette à culture cellulaire sur laquelle lesdites cellules ont été alignées suivant un motif déterminé.
(JA) 複数の電極を備える電極基板と、前記電極基板と対向して配置された細胞培養基板とを用い、前記電極基板と前記細胞培養基板との間の領域に細胞を含有する細胞懸濁液を導入し、前記電極に電圧を印加し、前記領域に不均一電場を発生させ、負の誘電泳動を利用して前記細胞培養基板上の電場強度の弱い位置に前記細胞を配列させ、所定のパターンで前記細胞が配列された細胞培養基板を得る、細胞のパターニング方法。
États désignés : AE, AG, AL, AM, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IS, JP, KE, KG, KM, KN, KP, KR, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LT, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PG, PH, PL, PT, RO, RS, RU, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, SV, SY, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW.
Organisation régionale africaine de la propriété intellectuelle (ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LS, MW, MZ, NA, SD, SL, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Office eurasien des brevets (OEAB) (AM, AZ, BY, KG, KZ, MD, RU, TJ, TM)
Office européen des brevets (OEB) (AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MT, NL, PL, PT, RO, SE, SI, SK, TR)
Organisation africaine de la propriété intellectuelle (OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
Langue de publication : japonais (JA)
Langue de dépôt : japonais (JA)