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1. (WO2008018272) MATÉRIAU POUR PLAQUE LITHOGRAPHIQUE PHOTOSENSIBLE
Dernières données bibliographiques dont dispose le Bureau international   

N° de publication :    WO/2008/018272    N° de la demande internationale :    PCT/JP2007/064160
Date de publication : 14.02.2008 Date de dépôt international : 18.07.2007
CIB :
G03F 7/00 (2006.01), G03F 7/027 (2006.01), G03F 7/031 (2006.01)
Déposants : Konica Minolta Medical & Graphic, Inc. [JP/JP]; 1, Sakura-machi, Hino-shi, Tokyo 1918511 (JP) (Tous Sauf US).
KATAOKA, Emiko [JP/JP]; (JP) (US Seulement)
Inventeurs : KATAOKA, Emiko; (JP)
Données relatives à la priorité :
2006-216775 09.08.2006 JP
Titre (EN) PHOTOSENSITIVE LITHOGRAPHIC PLATE MATERIAL
(FR) MATÉRIAU POUR PLAQUE LITHOGRAPHIQUE PHOTOSENSIBLE
(JA) 感光性平版印刷版材料
Abrégé : front page image
(EN)A photosensitive lithographic plate material which comprises a substrate and, formed thereon, a photosensitive layer comprising a polymerization initiator, a polymerizable compound having an ethylenic double bond, a sensitizing dye, and a polymeric binder, characterized in that the sensitizing dye comprises a compound represented by the following general formula (1-1) or (1-2). It is suitable for exposure to a laser light having a wavelength of 350-450 nm and has high sensitivity and storability. It is less apt to form a sludge upon development and is reduced in scumming in non-image areas.
(FR)La présente invention concerne un matériau pour plaque lithographique photosensible qui comprend un substrat et, sur le substrat, une couche photosensible comprenant un initiateur de polymérisation, un composé polymérisable comportant une double liaison éthylénique, un colorant sensibilisant et un liant polymère, caractérisé en ce que le colorant sensibilisant comprend un composé représenté par les formules générales suivantes (1-1) ou (1-2). Il convient à une exposition à la lumière laser dont la longueur d'onde est comprise entre 350 et 450 nm et sa sensibilité et son aptitude au stockage sont élevées. Il est moins susceptible de former une boue au développement et est moins sujet au graissage dans les zones sans image.
(JA)figure
États désignés : AE, AG, AL, AM, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IS, JP, KE, KG, KM, KN, KP, KR, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LT, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PG, PH, PL, PT, RO, RS, RU, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, SV, SY, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW.
Organisation régionale africaine de la propriété intellectuelle (ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LS, MW, MZ, NA, SD, SL, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Office eurasien des brevets (OEAB) (AM, AZ, BY, KG, KZ, MD, RU, TJ, TM)
Office européen des brevets (OEB) (AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MT, NL, PL, PT, RO, SE, SI, SK, TR)
Organisation africaine de la propriété intellectuelle (OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
Langue de publication : japonais (JA)
Langue de dépôt : japonais (JA)