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1. (WO2008017304) SOURCE DE PLASMA ECR
Dernières données bibliographiques dont dispose le Bureau international   

N° de publication :    WO/2008/017304    N° de la demande internationale :    PCT/DE2007/001441
Date de publication : 14.02.2008 Date de dépôt international : 08.08.2007
CIB :
H01J 37/32 (2006.01)
Déposants : ROTH & RAU AG [DE/DE]; Gewerbering 3, 09337 Hohenstein-Ernstthal (DE) (Tous Sauf US).
MAI, Joachim [DE/DE]; (DE) (US Seulement).
FELL, Valeri [DE/DE]; (DE) (US Seulement).
RAU, Bernd [DE/DE]; (DE) (US Seulement)
Inventeurs : MAI, Joachim; (DE).
FELL, Valeri; (DE).
RAU, Bernd; (DE)
Mandataire : PÄTZELT, Peter; Pätzelt-Seltmann-Hofmann, Windmühlenstr. 44i, 01257 Dresden (DE)
Données relatives à la priorité :
10 2006 037 144.5 09.08.2006 DE
Titre (DE) ECR-PLASMAQUELLE
(EN) ECR PLASMA SOURCE
(FR) SOURCE DE PLASMA ECR
Abrégé : front page image
(DE)Die Erfindung betrifft eine ECR-Plasmaquelle bestehend aus einer koaxialen Mikrowellenzuführung (1) mit einem Innenleiter ( 2 ) und einem Außenleiter ( 3 ), wobei der Innenleiter (2) mit einem Ende als Antenne (7) isoliert einen Vakuumflansch (5) durchdringt, der eine Öffnung in der Wand zum Plasmaraum (6) abschließt. Koaxial zur Mikrowellenzuführung (1) ist eine Multipolmagnetanordnung (8) vorgesehen, deren Magnetfelder den Vakuumflansch (5) durchdringen und im Plasmaraum ( 6 ) koaxial zur Antenne ( 7 ) ein Ringspalt-Magnetfeld (12) ausbilden. Die Antenne (7) ragt direkt in den Plasmaraum (6) und gegenüber dem Innenleiter (2) weist sie einen radial größeren Antennenkopf (14) auf, an dem parallel zum Vakuumflansch (5) eine Unterseite (15) vorgesehen ist, derart dass zwischen dem Vakuumflansch (5) und der Unterseite (15) ein Ringspalt (16) ausgebildet wird, und dass der Plasmaraum (6) koaxial zur Antenne (7) und radial außerhalb des Ringspalt-Magnetf eldes ( 12 ) durch eine Abschirmung (13) begrenzt wird, deren dem Vakuumflansch abgewandte Stirnseite die Plasmaaustrittsöffnung (25) definiert.
(EN)The invention relates to an ECR plasma source comprising a coaxial microwave supply line (1) with an internal conductor (2) and an external conductor (3), wherein the internal conductor (2) with one end as the antenna (7) passes through a vacuum flange (5) in insulated fashion, which vacuum flange (5) closes off an opening in the wall to the plasma space (6). A multipole magnet arrangement (8) is provided coaxially with respect to the microwave supply line (1) and its magnetic fields pass through the vacuum flange (5) and form an annular-gap magnetic field (12) in the plasma space (6) coaxially with respect to the antenna (7). The antenna (7) protrudes directly into the plasma space (6) and, in comparison with the internal conductor (2), it has a radially larger antenna head (14) at which an underside (15) is provided parallel to the vacuum flange (5) in such a way that an annular gap (16) is formed between the vacuum flange (5) and the underside (15) and that the plasma space (6) is delimited coaxially with respect to the antenna (7) and radially outside the annular-gap magnetic field (12) by means of a shield (13), whose end side facing away from the vacuum flange defines the plasma outlet opening (25).
(FR)L'invention concerne une source de plasma ECR constituée d'une conduite à micro-ondes (1) coaxiale avec un conducteur interne (2) et un conducteur externe (3). Le conducteur interne (2) traverse une bride à vide (5) avec une extrémité servant d'antenne (7) isolée, ladite bride refermant une ouverture dans la paroi pour l'espace à plasma (6). Selon l'invention, il est prévue une installation d'aimants multipôles (8) coaxiale à la conduite à micro-ondes (1), dont les champs magnétiques traversent la bride à vide (5) et constituent, dans l'espace à plasma (6), un champ magnétique (12) en fente annulaire coaxial à l'antenne (7). L'antenne (7) s'élève directement dans l'espace à plasma (6) et comporte une tête d'antenne (14) plus grande que le conducteur interne (2), ladite tête comportant parallèlement à la bride à vide (5) une face inférieure (15) de telle sorte qu'une fente annulaire (16) est située entre la bride à vide (5) et la face inférieure (15), et que l'espace à plasma est limité coaxialement à l'antenne (7) et radialement à l'extérieur du champ magnétique (12) en fente annulaire par un blindage (13) dont la face avant tournée vers la bride à vide définit une ouverture de sortie (25) du plasma.
États désignés : AE, AG, AL, AM, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CN, CO, CR, CU, CZ, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IS, JP, KE, KG, KM, KN, KP, KR, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LT, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PG, PH, PL, PT, RO, RS, RU, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, SV, SY, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW.
Organisation régionale africaine de la propriété intellectuelle (ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LS, MW, MZ, NA, SD, SL, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Office eurasien des brevets (OEAB) (AM, AZ, BY, KG, KZ, MD, RU, TJ, TM)
Office européen des brevets (OEB) (AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MT, NL, PL, PT, RO, SE, SI, SK, TR)
Organisation africaine de la propriété intellectuelle (OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
Langue de publication : allemand (DE)
Langue de dépôt : allemand (DE)