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1. (WO2008016614) DISPOSITIF D'ENTRÉE BASÉ SUR LA FORCE AYANT UNE SURFACE DE CONTACT ÉLEVÉE
Dernières données bibliographiques dont dispose le Bureau international   

N° de publication :    WO/2008/016614    N° de la demande internationale :    PCT/US2007/017127
Date de publication : 07.02.2008 Date de dépôt international : 31.07.2007
CIB :
G09G 5/00 (2006.01), G06F 3/037 (2006.01), G06F 3/041 (2006.01)
Déposants : QSI CORPORATION [US/US]; 2212 S West Temple, Suite 50, Salt Lake City, UT 84115 (US) (Tous Sauf US).
ELWELL, James, K. [US/US]; (US) (US Seulement).
MULLINS, James, R. [US/US]; (US) (US Seulement).
SOSS, David, A. [US/US]; (US) (US Seulement).
STANLEY, Karen [US/US]; (US) (US Seulement)
Inventeurs : ELWELL, James, K.; (US).
MULLINS, James, R.; (US).
SOSS, David, A.; (US).
STANLEY, Karen; (US)
Mandataire : JOHNSON, Christopher. L.; Thorpe North & Western, Llp, P.P. Box 1219, Sandy, UT 84091-1219 (US)
Données relatives à la priorité :
60/834,663 31.07.2006 US
Titre (EN) FORCE-BASED INPUT DEVICE HAVING AN ELEVATED CONTACTING SURFACE
(FR) DISPOSITIF D'ENTRÉE BASÉ SUR LA FORCE AYANT UNE SURFACE DE CONTACT ÉLEVÉE
Abrégé : front page image
(EN)A projected force-based input device comprising a projected or elevated contacting element configured to receive an applied force, a sensing element located in a different plane with respect to the contacting element, and a sensing portion operably supported to displace in response to the applied force. The sensing element further comprises a plurality of sensors operable to output sensor data corresponding to the applied force, wherein the sensor data facilitates the determination of a location of the applied force occurring about the contacting element, as well as the profile of the applied force over time (e.g., waveform), otherwise known as the force profile. One or more transfer elements may also be present, which function to relate the contacting element to the sensing portion of the sensing element so as to transfer substantially all of the applied force from the contacting element to the sensing element. Adequate rigidity between the elevated contacting element, and transfer elements, and the sensing element is intended to be maintained in order to prevent interference with any mounting or other structures or objects, and to permit the input device to operate properly.
(FR)L'invention concerne un dispositif d'entrée basée sur la force projetée comprenant un élément de contact en saillie ou élevé configuré pour recevoir une force appliquée, un élément de détection situé dans un plan différent par rapport à l'élément de contact, et une partie de détection supportée de manière opérationnelle pour se déplacer en réponse à la force appliquée. L'élément de détection comprend en outre une pluralité de capteurs actionnables pour émettre des données de capteur correspondant à la force appliquée, les données de capteur facilitant la détermination de la localisation de la force appliquée se produisant sur l'élément de contact, ainsi que le profil de la force appliquée au cours du temps (par exemple, forme d'onde), autrement connu comme étant le profil de force. Un ou plusieurs éléments de transfert peuvent également être présents, qui fonctionnent pour relier l'élément de contact à la partie de détection de l'élément de détection afin de transférer sensiblement toute la force appliquée de l'élément de contact à l'élément de détection. Une rigidité adéquate entre l'élément de contact élevé et les éléments de transfert, et l'élément de détection est destinée à être maintenue afin d'empêcher une interférence avec tout bâti ou autres structures ou objets, et pour permettre au dispositif d'entrée de fonctionner correctement.
États désignés : AE, AG, AL, AM, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IS, JP, KE, KG, KM, KN, KP, KR, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LT, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PG, PH, PL, PT, RO, RS, RU, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, SV, SY, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW.
Organisation régionale africaine de la propriété intellectuelle (ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LS, MW, MZ, NA, SD, SL, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Office eurasien des brevets (OEAB) (AM, AZ, BY, KG, KZ, MD, RU, TJ, TM)
Office européen des brevets (OEB) (AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MT, NL, PL, PT, RO, SE, SI, SK, TR)
Organisation africaine de la propriété intellectuelle (OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
Langue de publication : anglais (EN)
Langue de dépôt : anglais (EN)