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1. (WO2008016302) Compositions pour membranes poreuses et supports d'enregistrement
Dernières données bibliographiques dont dispose le Bureau international   

N° de publication :    WO/2008/016302    N° de la demande internationale :    PCT/NL2007/050389
Date de publication : 07.02.2008 Date de dépôt international : 03.08.2007
CIB :
C09D 4/00 (2006.01), B41M 5/50 (2006.01), B41M 5/52 (2006.01)
Déposants : FUJIFILM MANUFACTURING EUROPE B.V. [NL/NL]; Oudenstaart 1, NL-5047 TK Tilburg (NL) (Tous Sauf US).
VAN BAAK, Willem Johannes [NL/NL]; (NL) (US Seulement).
KASE, Akira [JP/NL]; (NL) (US Seulement)
Inventeurs : VAN BAAK, Willem Johannes; (NL).
KASE, Akira; (NL)
Mandataire : HATZMANN, Drs. M., J.; Johan de Wittlaan 7, Vereenigde, NL-2517 JR Den Haag (NL)
Données relatives à la priorité :
06076533.6 04.08.2006 EP
Titre (EN) COMPOSITIONS FOR POROUS MEMBRANES AND RECORDING MEDIA
(FR) Compositions pour membranes poreuses et supports d'enregistrement
Abrégé : front page image
(EN)The present invention relates to a curable composition comprising at least one type of non-charged curable monomer, at least one type of anionic curable monomer, at least one type of cationic compound haying a molecular weight of at least 150 Da and a solvent. The invention further relates to porous membranes made from these curable compositions and to image recording materials, in which these porous membranes are used.
(FR)La présente invention concerne une composition durcissable comprenant au moins un type de monomère durcissable non chargé, au moins un type de monomère durcissable anionique, au moins un type de composé cationique ayant un poids moléculaire d'au moins 150 Da, et un solvant. L'invention concerne en outre des membranes poreuses fabriquées à partir de ces compositions durcissables et des matériaux d'enregistrement d'image dans lesquels ces membranes poreuses sont utilisées.
États désignés : AE, AG, AL, AM, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IS, JP, KE, KG, KM, KN, KP, KR, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LT, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PG, PH, PL, PT, RO, RS, RU, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, SV, SY, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW.
Organisation régionale africaine de la propriété intellectuelle (ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LS, MW, MZ, NA, SD, SL, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Office eurasien des brevets (OEAB) (AM, AZ, BY, KG, KZ, MD, RU, TJ, TM)
Office européen des brevets (OEB) (AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MT, NL, PL, PT, RO, SE, SI, SK, TR)
Organisation africaine de la propriété intellectuelle (OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
Langue de publication : anglais (EN)
Langue de dépôt : anglais (EN)