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1. (WO2008015973) APPAREIL DE DÉTECTION DE DÉFAUTS ET PROCÉDÉ DE DÉTECTION DE DÉFAUTS
Dernières données bibliographiques dont dispose le Bureau international   

N° de publication :    WO/2008/015973    N° de la demande internationale :    PCT/JP2007/064764
Date de publication : 07.02.2008 Date de dépôt international : 27.07.2007
CIB :
G01N 21/956 (2006.01), G01B 11/30 (2006.01), H01L 21/66 (2006.01)
Déposants : NIKON CORPORATION [JP/JP]; 2-3, Marunouchi 3-Chome, Chiyoda-ku, Tokyo 1008331 (JP) (Tous Sauf US).
ENDO, Kazumasa [JP/JP]; (JP) (US Seulement).
MOCHIDA, Daisaku [JP/JP]; (JP) (US Seulement).
YOSHIKAWA, Toru [JP/JP]; (JP) (US Seulement).
SHIBATA, Hiromasa [JP/JP]; (JP) (US Seulement).
KAWAI, Akitoshi [JP/JP]; (JP) (US Seulement)
Inventeurs : ENDO, Kazumasa; (JP).
MOCHIDA, Daisaku; (JP).
YOSHIKAWA, Toru; (JP).
SHIBATA, Hiromasa; (JP).
KAWAI, Akitoshi; (JP)
Mandataire : OKADA, FUSHIMI AND HIRANO, PC; NE Kudan Bldg., 2-7, Kudan-minami 3-chome Chiyoda-ku, Tokyo 1020074 (JP)
Données relatives à la priorité :
2006-211075 02.08.2006 JP
2007-134968 22.05.2007 JP
Titre (EN) DEFECT DETECTING APPARATUS AND DEFECT DETECTING METHOD
(FR) APPAREIL DE DÉTECTION DE DÉFAUTS ET PROCÉDÉ DE DÉTECTION DE DÉFAUTS
(JA) 欠陥検出装置及び欠陥検出方法
Abrégé : front page image
(EN)A defect inspecting apparatus inspects defects of a sample having a pattern formed on the surface. The defect inspecting apparatus is provided with a stage (11) which has a sample (10) placed thereon and linearly moves and turns; a light source (1); an illuminating optical system, which selects a discretionary wavelength region from the light source and epi-illuminates the sample surface through a polarizer (7) and an objective lens (9); a detecting optical system, which obtains a pupil image, by passing through reflection light applied by the illuminating optical system from the surface of the sample through the objective lens (9) and an analyzer (12) which satisfies the cross-nichols conditions with the polarizer; and a detecting section which detects defects of the sample by comparing the obtained pupil image with a previously stored pupil image. Conformity of the pattern on a substrate to be inspected can be judged in a short time.
(FR)Un appareil d'inspection de défauts inspecte les défauts d'un échantillon comportant un motif formé sur la surface. L'appareil d'inspection de défauts est équipé d'une plate-forme (11) sur laquelle est placée un échantillon (10) et qui se déplace linéairement et tourne ; une source lumineuse (1) ; un système optique d'éclairage, qui sélectionne une région sélective de longueurs d'ondes provenant de la source lumineuse et qui éclaire par éclairage incident la surface de l'échantillon à travers un polariseur (7) et une lentille d'objectif (9) ; un système optique de détection, qui obtient une image de pupille, en passant à travers une lumière de réflexion appliquée par le système optique d'éclairage à partir de la surface de l'échantillon au travers de la lentille d'objectif (9) et d'un analyseur qui satisfait aux conditions de filtre polarisant (cross-nichols) avec le polariseur ; et une section de détection qui détecte des défauts de l'échantillon en comparant l'image de pupille obtenue à une image de pupille précédemment stockée. La conformité du motif sur un substrat à inspecter peut être évaluée en peu de temps.
(JA) 表面にパターンが形成された試料の欠陥を検査する装置であって、試料10を載置し直線移動及び回転が可能なステージ11と、光源1と、光源からの任意の波長域を選択して、偏光子7と対物レンズ9を通して試料面を落射照明する照明光学系と、その照射による前記試料の表面からの反射光を前記対物レンズ9と、偏光子とクロスニコルス条件を満足する検光子12を通して瞳像を得る検出光学系と、得られた瞳像を予め記憶しておいた瞳像と比較して前記試料の欠陥を検出する検出部を有することを特徴とする欠陥検査装置。被検査基板上のパターン形状の良否を短時間で判別することができる。
États désignés : AE, AG, AL, AM, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IS, JP, KE, KG, KM, KN, KP, KR, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LT, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PG, PH, PL, PT, RO, RS, RU, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, SV, SY, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW.
Organisation régionale africaine de la propriété intellectuelle (ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LS, MW, MZ, NA, SD, SL, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Office eurasien des brevets (OEAB) (AM, AZ, BY, KG, KZ, MD, RU, TJ, TM)
Office européen des brevets (OEB) (AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MT, NL, PL, PT, RO, SE, SI, SK, TR)
Organisation africaine de la propriété intellectuelle (OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
Langue de publication : japonais (JA)
Langue de dépôt : japonais (JA)