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1. (WO2008015842) PROCÉDÉ PERMETTANT DE PRODUIRE UN MOULE
Dernières données bibliographiques dont dispose le Bureau international   

N° de publication :    WO/2008/015842    N° de la demande internationale :    PCT/JP2007/061760
Date de publication : 07.02.2008 Date de dépôt international : 11.06.2007
CIB :
B29C 59/04 (2006.01), B29C 33/38 (2006.01), B29C 43/46 (2006.01)
Déposants : ASAHI GLASS COMPANY, LIMITED [JP/JP]; 12-1, Yurakucho 1-chome, Chiyoda-ku, Tokyo 1008405 (JP) (Tous Sauf US).
KAWAGUCHI, Yasuhide [JP/JP]; (JP) (US Seulement).
ASAKAWA, Akihiko [JP/JP]; (JP) (US Seulement).
NONAKA, Fumiko [JP/JP]; (JP) (US Seulement)
Inventeurs : KAWAGUCHI, Yasuhide; (JP).
ASAKAWA, Akihiko; (JP).
NONAKA, Fumiko; (JP)
Mandataire : SENMYO, Kenji; 4th Floor, SIA Kanda Square, 17, Kanda-konyacho, Chiyoda-ku, Tokyo 1010035 (JP)
Données relatives à la priorité :
2006-211906 03.08.2006 JP
Titre (EN) PROCESS FOR PRODUCING MOLD
(FR) PROCÉDÉ PERMETTANT DE PRODUIRE UN MOULE
(JA) モールドの製造方法
Abrégé : front page image
(EN)A process by which a mold in a hollow cylinder or solid cylinder form having a seamless patterned layer comprising a fluoropolymer can be produced. The process, which is for producing a mold comprising a base (12) in a hollow cylinder or solid cylinder form and a patterned layer which comprises a fluoropolymer and bears a pattern formed on the surface thereof, comprises: a step in which a film (32) comprising a fluoropolymer is formed so as to coat the peripheral surface of the base (12) therewith to obtain a mold precursor (30); and a step in which the peripheral surface of the mold precursor (30) is pushed against a surface of a heated original mold (40) having a pattern reverse to the pattern of the patterned layer and the mold precursor (30) is rolled in the state of being pushed to thereby transfer the reversal pattern of the original mold (40) to the film (32) comprising a fluoropolymer and form the patterned layer.
(FR)L'invention concerne un procédé pour la fabrication d'un moule de forme cylindrique creuse ou pleine ayant une couche façonnée sans soudure comprenant un fluoropolymère. Le procédé qui permet de fabriquer un moule comprenant une base (12) de forme cylindrique creuse ou pleine et une couche façonnée sans soudure comprenant un fluoropolymère et portant un motif sur sa surface, comprend : une étape qui consiste à former un film (32) comprenant un fluoropolymère de manière à revêtir la surface périphérique de la base (12) pour obtenir un précurseur de moule (30) ; une étape qui consiste à pousser la surface périphérique du précurseur de moule (30) contre une surface d'un moule original chauffé (40) dotée d'un motif inverse au motif de la couche façonnée et à faire rouler le précurseur de moule (30) dans un état à être poussé pour de ce fait transférer le motif d'inversion du moule original (40) vers le film (32) comprenant un fluoropolymère pour former la couche façonnée.
(JA) 含フッ素重合体を含むパターン層に継ぎ目のない円筒状または円柱状のモールドを製造できる方法を提供する。  円筒状または円柱状の基材12と、含フッ素重合体を含み、表面にパターンが形成されたパターン層とを有するモールドを製造する方法であって、基材12の外周面側を覆うように含フッ素重合体を含む膜32を形成し、モールド前駆体30を得る工程と、パターン層のパターンに対応する反転パターンを有する、加熱されたオリジナルモールド40表面にモールド前駆体30の外周面を押しあてた状態で、モールド前駆体30を回転させ、オリジナルモールド40の反転パターンを含フッ素重合体を含む膜32に転写してパターン層を形成する工程と、を有するモールドの製造方法。
États désignés : AE, AG, AL, AM, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IS, JP, KE, KG, KM, KN, KP, KR, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LT, LU, LY, MA, MD, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PG, PH, PL, PT, RO, RS, RU, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, SV, SY, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW.
Organisation régionale africaine de la propriété intellectuelle (ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LS, MW, MZ, NA, SD, SL, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Office eurasien des brevets (OEAB) (AM, AZ, BY, KG, KZ, MD, RU, TJ, TM)
Office européen des brevets (OEB) (AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MT, NL, PL, PT, RO, SE, SI, SK, TR)
Organisation africaine de la propriété intellectuelle (OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
Langue de publication : japonais (JA)
Langue de dépôt : japonais (JA)