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1. (WO2008014512) NETTOYAGE FACS EN MATIÈRE DE CAPTURE DE MOUVEMENT
Dernières données bibliographiques dont dispose le Bureau international   

N° de publication :    WO/2008/014512    N° de la demande internationale :    PCT/US2007/074744
Date de publication : 31.01.2008 Date de dépôt international : 30.07.2007
CIB :
G06K 9/00 (2006.01)
Déposants : SONY CORPORATION [JP/JP]; 1-7-1 Konan, Minato-ku, Tokyo, Tokyo 108-0075 (JP) (Tous Sauf US).
SONY PICTURES ENTERTAINMENT INC. [US/US]; 10202 West Washington Boulevard, Culver City, CA 90232-3195 (US) (Tous Sauf US)
Inventeurs : GORDON, Demian; (US).
HAVALDAR, Parag; (US)
Mandataire : LEE, Samuel, S.; Procopio, Cory, Hargreaves & Savitch LLP, 530 B. Street, Suite 2100, San Diego, California 92101 (US)
Données relatives à la priorité :
60/834,132 28.07.2006 US
11/829,711 27.07.2007 US
Titre (EN) FACS CLEANING IN MOTION CAPTURE
(FR) NETTOYAGE FACS EN MATIÈRE DE CAPTURE DE MOUVEMENT
Abrégé : front page image
(EN)A method of cleaning facial marker data, the method comprising: decimating frames of survey facial marker data into representative frames of key facial poses; generating a facial pose matrix using the representative frames of key facial poses; and cleaning incoming frames of facial marker data using the facial pose matrix.
(FR)L'invention concerne un procédé de nettoyage de données de marqueurs faciaux, ce procédé consistant à décimer des trames de données de marqueurs faciaux d'étude pour obtenir des trames représentatives de poses faciales clés, à générer une matrice de poses faciales au moyen des trames représentatives de poses faciales clés, puis à nettoyer les trames d'entrée de données de marqueurs faciaux au moyen de la matrice de poses faciales.
États désignés : AE, AG, AL, AM, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IS, JP, KE, KG, KM, KN, KP, KR, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LT, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PG, PH, PL, PT, RO, RS, RU, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, SV, SY, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW.
Organisation régionale africaine de la propriété intellectuelle (ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LS, MW, MZ, NA, SD, SL, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Office eurasien des brevets (OEAB) (AM, AZ, BY, KG, KZ, MD, RU, TJ, TM)
Office européen des brevets (OEB) (AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MT, NL, PL, PT, RO, SE, SI, SK, TR)
Organisation africaine de la propriété intellectuelle (OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
Langue de publication : anglais (EN)
Langue de dépôt : anglais (EN)