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1. (WO2008014115) ARTICLE RÉTRORÉFLÉCHISSANT COMPRENANT UNE COUCHE DE COMPOSITION D'ÉTHER DE COPOLYESTER ET SON PROCÉDÉ DE FABRICATION
Dernières données bibliographiques dont dispose le Bureau international   

N° de publication :    WO/2008/014115    N° de la demande internationale :    PCT/US2007/073196
Date de publication : 31.01.2008 Date de dépôt international : 11.07.2007
CIB :
B32B 27/28 (2006.01), B32B 27/14 (2006.01)
Déposants : 3M INNOVATIVE PROPERTIES COMPANY [US/US]; 3M Center, Post Office Box 33427, Saint Paul, MN 55133-3427 (US) (Tous Sauf US)
Inventeurs : BACON, Chester A. Jr.,; (US)
Mandataire : EINERSON, Nicole J.,; 3M Center, Office of Intellectual Property Counsel, Post Office Box 33427, Saint Paul, MN 55133-3427 (US)
Données relatives à la priorité :
11/460,749 28.07.2006 US
Titre (EN) RETROREFLECTIVE ARTICLE COMPRISING A COPOLYESTER ETHER COMPOSITION LAYER AND METHOD OF MAKING SAME
(FR) ARTICLE RÉTRORÉFLÉCHISSANT COMPRENANT UNE COUCHE DE COMPOSITION D'ÉTHER DE COPOLYESTER ET SON PROCÉDÉ DE FABRICATION
Abrégé : front page image
(EN)A retroreflective article that includes a first layer that includes a copolyester ether composition, and a second layer that includes a retroreflective structure juxtaposed in at least a partially overlying relationship to the first layer is disclosed. Also disclosed is a method of forming a retroreflective article that includes providing at least a copolyester ether composition layer, and providing a retroreflective structure in a juxtaposed and at least partially overlying relationship to the composition layer.
(FR)L'invention concerne un article rétroréfléchissant qui comprend une première couche comprenant une composition d'éther de copolyester et une seconde couche comprenant une structure rétroréfléchissante juxtaposée dans une relation de chevauchement au moins partiel sur la première couche. L'invention concerne également un procédé de formation d'un article rétroréfléchissant qui comprend les opérations consistant à disposer au moins une couche de composition d'éther de copolyester et à disposer une structure rétroréfléchissante dans une relation juxtaposée et de chevauchement au moins partiel sur la couche de composition.
États désignés : AE, AG, AL, AM, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IS, JP, KE, KG, KM, KN, KP, KR, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LT, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PG, PH, PL, PT, RO, RS, RU, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, SV, SY, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW.
Organisation régionale africaine de la propriété intellectuelle (ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LS, MW, MZ, NA, SD, SL, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Office eurasien des brevets (OEAB) (AM, AZ, BY, KG, KZ, MD, RU, TJ, TM)
Office européen des brevets (OEB) (AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MT, NL, PL, PT, RO, SE, SI, SK, TR)
Organisation africaine de la propriété intellectuelle (OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
Langue de publication : anglais (EN)
Langue de dépôt : anglais (EN)