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1. (WO2008013314) ARTICLE MOULÉ EN MATIÈRE PLASTIQUE COMPRENANT UN FILM DE DÉPÔT EN PHASE VAPEUR FORMÉ PAR UN PROCÉDÉ DE DÉPÔT CHIMIQUE EN PHASE VAPEUR SOUS PLASMA
Dernières données bibliographiques dont dispose le Bureau international   

N° de publication :    WO/2008/013314    N° de la demande internationale :    PCT/JP2007/065112
Date de publication : 31.01.2008 Date de dépôt international : 26.07.2007
CIB :
B32B 9/00 (2006.01), B65D 23/02 (2006.01), B65D 25/14 (2006.01), C23C 16/42 (2006.01)
Déposants : TOYO SEIKAN KAISHA, LTD. [JP/JP]; 3-1, Uchisaiwai-cho 1-chome, Chiyoda-ku, Tokyo 1008522 (JP) (Tous Sauf US).
YAMADA, Kouji [JP/JP]; (JP) (US Seulement).
IEKI, Toshihide [JP/JP]; (JP) (US Seulement).
AIHARA, Takeshi [JP/JP]; (JP) (US Seulement)
Inventeurs : YAMADA, Kouji; (JP).
IEKI, Toshihide; (JP).
AIHARA, Takeshi; (JP)
Mandataire : ONO, Hisazumi; Nippon Shuzo bldg. 1-21, Nishi-shimbashi 1-chome Minato-ku, Tokyo 1050003 (JP)
Données relatives à la priorité :
2006-205915 28.07.2006 JP
Titre (EN) PLASTIC MOLDED ARTICLE COMPRISING VAPOR DEPOSITION FILM FORMED BY PLASMA CVD METHOD
(FR) ARTICLE MOULÉ EN MATIÈRE PLASTIQUE COMPRENANT UN FILM DE DÉPÔT EN PHASE VAPEUR FORMÉ PAR UN PROCÉDÉ DE DÉPÔT CHIMIQUE EN PHASE VAPEUR SOUS PLASMA
(JA) プラズマCVD法による蒸着膜を備えたプラスチック成形品
Abrégé : front page image
(EN)Disclosed is a plastic molded article wherein a vapor deposition film is formed on the surface of a plastic substrate by a plasma CVD method. The vapor deposition film is composed of an organosilicon vapor deposition layer formed on the front surface of a plastic substrate (1) and containing no oxygen, and a silicon oxide vapor deposition layer formed on the organosilicon vapor deposition layer. This plastic molded article has good gas barrier property, while being effectively prevented from generation of odor during film formation. In addition, the plastic molded article has excellent flavor-retaining property.
(FR)L'invention concerne un article moulé en matière plastique dans lequel un film de dépôt en phase vapeur est formé sur la surface d'un substrat en matière plastique par un procédé de dépôt chimique en phase vapeur sous plasma. Le film de dépôt en phase vapeur est composé d'une couche de dépôt en phase vapeur d'organosilicium formée sur la surface avant d'un substrat en matière plastique (1) et ne contenant pas d'oxygène, et d'une couche de dépôt en phase vapeur d'oxyde de silicium formée sur la couche de dépôt en phase vapeur d'organosilicium. Ledit article moulé en matière plastique est doté d'une propriété de barrière aux gaz satisfaisante,et ne génère pas d'odeur pendant la formation du film. De plus, l'article moulé en matière plastique est doté d'une excellente propriété de conservation du parfum.
(JA)本発明のプラスチック成形品は、プラスチック基板表面にプラズマCVD法により形成された蒸着膜が形成されており、この蒸着膜は、プラスチック基板1の表面側に形成された酸素を含有していない有機ケイ素系蒸着層と、有機ケイ素系蒸着層上に形成されたケイ素酸化物系蒸着層とからなる。このプラスチック成形品は、ガスバリア性が良好であるばかりか、成膜時での臭気の発生も有効に防止され、さらにはフレーバー性にも優れている。
États désignés : AE, AG, AL, AM, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IS, JP, KE, KG, KM, KN, KP, KR, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LT, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PG, PH, PL, PT, RO, RS, RU, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, SV, SY, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW.
Organisation régionale africaine de la propriété intellectuelle (ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LS, MW, MZ, NA, SD, SL, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Office eurasien des brevets (OEAB) (AM, AZ, BY, KG, KZ, MD, RU, TJ, TM)
Office européen des brevets (OEB) (AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MT, NL, PL, PT, RO, SE, SI, SK, TR)
Organisation africaine de la propriété intellectuelle (OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
Langue de publication : japonais (JA)
Langue de dépôt : japonais (JA)