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1. (WO2008013310) PROCÉDÉ DE TRAITEMENT DE SUBSTRATS, PROGRAMME, SUPPORT DE STOCKAGE LISIBLE PAR ORDINATEUR ET SYSTÈME DE TRAITEMENT DE SUBSTRATS
Dernières données bibliographiques dont dispose le Bureau international   

N° de publication :    WO/2008/013310    N° de la demande internationale :    PCT/JP2007/065037
Date de publication : 31.01.2008 Date de dépôt international : 25.07.2007
CIB :
H01L 21/027 (2006.01)
Déposants : TOKYO ELECTRON LIMITED [JP/JP]; 3-6, Akasaka 5-chome, Minato-ku, Tokyo, 1078481 (JP) (Tous Sauf US).
YAMADA, Yoshiaki [JP/JP]; (JP) (US Seulement).
YAMAGUCHI, Tadayuki [JP/JP]; (JP) (US Seulement).
YAMAMOTO, Yuuichi [JP/JP]; (JP) (US Seulement).
SAIGA, Yasuhito [JP/JP]; (JP) (US Seulement).
SAWAI, Kazuo [JP/JP]; (JP) (US Seulement)
Inventeurs : YAMADA, Yoshiaki; (JP).
YAMAGUCHI, Tadayuki; (JP).
YAMAMOTO, Yuuichi; (JP).
SAIGA, Yasuhito; (JP).
SAWAI, Kazuo; (JP)
Mandataire : KANEMOTO, Tetsuo; Hazuki International, Shinjuku Akebonobashi Building, 1-12, Sumiyoshi-cho, Shinjuku-ku, Tokyo 1620065 (JP)
Données relatives à la priorité :
2006-205643 28.07.2006 JP
2007-133807 21.05.2007 JP
Titre (EN) SUBSTRATE PROCESSING METHOD, PROGRAM, COMPUTER-READABLE STORAGE MEDIUM AND SUBSTRATE PROCESSING SYSTEM
(FR) PROCÉDÉ DE TRAITEMENT DE SUBSTRATS, PROGRAMME, SUPPORT DE STOCKAGE LISIBLE PAR ORDINATEUR ET SYSTÈME DE TRAITEMENT DE SUBSTRATS
Abrégé : front page image
(EN)In the present invention, patterning for the first time is performed on a film to be worked above the front surface of a substrate, and the actual dimension of the pattern formed by the patterning for the first time is measured. Based on the dimension measurement result of the patterning or the first time, the condition of patterning for the second time is then set. In this event, the condition of the patterning for the second time is set so that a difference between the dimension of the patterning for the first time and its target dimension is equal to a difference between the dimension of the patterning for the second time and its target dimension. Thereafter, the patterning for the second time is performed under the set patterning condition.
(FR)La présente invention concerne un procédé qui consiste : à effectuer une première formation de motif sur un film destiné à être traité au-dessus de la surface avant d'un substrat, et à mesurer la taille réelle du motif formé par ladite formation de motif; à déterminer, en fonction du résultat donné par la mesure de la taille du premier motif formé, une condition pour une seconde formation de motif, ladite condition étant déterminée de manière que la différence entre la taille du premier motif formé et la taille cible de ce dernier soit égale à la différence entre la taille du second motif formé et la taille cible de ce dernier; et à effectuer la seconde formation de motif sur la base de ladite condition de formation de motif déterminée.
États désignés : AE, AG, AL, AM, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IS, KE, KG, KM, KN, KP, KR, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LT, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PG, PH, PL, PT, RO, RS, RU, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, SV, SY, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW.
Organisation régionale africaine de la propriété intellectuelle (ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LS, MW, MZ, NA, SD, SL, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Office eurasien des brevets (OEAB) (AM, AZ, BY, KG, KZ, MD, RU, TJ, TM)
Office européen des brevets (OEB) (AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MT, NL, PL, PT, RO, SE, SI, SK, TR)
Organisation africaine de la propriété intellectuelle (OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
Langue de publication : anglais (EN)
Langue de dépôt : anglais (EN)