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1. (WO2008013243) PROCÉDÉ DE FABRICATION D'UN PRÉCURSEUR DE PHOSPHORE
Dernières données bibliographiques dont dispose le Bureau international   

N° de publication :    WO/2008/013243    N° de la demande internationale :    PCT/JP2007/064711
Date de publication : 31.01.2008 Date de dépôt international : 26.07.2007
CIB :
C09K 11/08 (2006.01), C09K 11/56 (2006.01)
Déposants : KURARAY LUMINAS CO., LTD. [JP/JP]; 1-3, Ohtemachi 1-chome, Chiyoda-ku, Tokyo 1008115 (JP) (Tous Sauf US).
TSUJI, Yoshihisa [JP/JP]; (JP) (US Seulement).
IWASAKI, Hideharu [JP/JP]; (JP) (US Seulement)
Inventeurs : TSUJI, Yoshihisa; (JP).
IWASAKI, Hideharu; (JP)
Mandataire : SHAMOTO, Ichio; YUASA AND HARA, Section 206 New Ohtemachi Bldg. 2-1, Ohtemachi 2-chome Chiyoda-ku, Tokyo 1000004 (JP)
Données relatives à la priorité :
2006-204843 27.07.2006 JP
Titre (EN) PHOSPHOR PRECURSOR MANUFACTURING METHOD
(FR) PROCÉDÉ DE FABRICATION D'UN PRÉCURSEUR DE PHOSPHORE
(JA) 蛍光体前駆体の製造方法
Abrégé : front page image
(EN)Provided is a phosphor precursor manufacturing method wherein discretionary doping of a dopant having a large ion radius can be performed so as to manufacture phosphor for providing high luminance and high energy efficiency. In the phosphor precursor manufacturing method, a phosphor base material is doped with the dopant, under existence of a particle growth accelerator operating also as dopant, by applying an impact pressure of 0.1GPa or more to a mixture composed of the phosphor base material, the dopant and the particle growth accelerator operating also as dopant.
(FR)L'invention concerne un procédé de fabrication d'un précurseur de phosphore, dans lequel on effectue un dopage limité d'un dopant présentant un grand rayon ionique, afin de fabriquer un phosphore qui présente une luminance élevée et une grande efficacité énergétique. Dans le procédé de fabrication d'un précurseur de phosphore, on dope un matériau de base du phosphore à l'aide du dopant, en présence d'un accélérateur de croissance de particules agissant également comme un dopant, en appliquant une pression d'impact de 0,1 GPa ou plus à un mélange composé du matériau à base de phosphore, du dopant et de l'accélérateur de croissance de particules agissant également comme un dopant.
(JA) 高輝度・高エネルギー効率を与える蛍光体を製造するために、大きなイオン半径の付活剤を任意にドーピングすることのできる蛍光体前駆体の製造方法を提供すること。  蛍光体母体、付活剤および共付活剤兼用粒成長促進剤からなる混合物に0.1GPa以上の衝撃圧力を加えて付活剤を共付活剤兼用粒成長促進剤の存在下に蛍光体母体にドーピングすることを特徴とする蛍光体前駆体の製造方法によって上記課題を解決する。                                                                                 
États désignés : AE, AG, AL, AM, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IS, JP, KE, KG, KM, KN, KP, KR, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LT, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PG, PH, PL, PT, RO, RS, RU, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, SV, SY, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW.
Organisation régionale africaine de la propriété intellectuelle (ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LS, MW, MZ, NA, SD, SL, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Office eurasien des brevets (OEAB) (AM, AZ, BY, KG, KZ, MD, RU, TJ, TM)
Office européen des brevets (OEB) (AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MT, NL, PL, PT, RO, SE, SI, SK, TR)
Organisation africaine de la propriété intellectuelle (OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
Langue de publication : japonais (JA)
Langue de dépôt : japonais (JA)