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1. (WO2008013206) CUIR SYNTHÉTIQUE, BASE À UTILISER DANS LE CUIR ET PROCÉDÉS POUR LEUR PRODUCTION
Dernières données bibliographiques dont dispose le Bureau international   

N° de publication :    WO/2008/013206    N° de la demande internationale :    PCT/JP2007/064602
Date de publication : 31.01.2008 Date de dépôt international : 25.07.2007
CIB :
D04H 1/498 (2012.01), D06N 3/00 (2006.01), D04H 1/4382 (2012.01)
Déposants : TRADIK CO., LTD. [JP/JP]; 26-30, Shitamachi, Kinugasa, Ryoanji, Ukyo-ku, Kyoto-shi, Kyoto 6168002 (JP) (Tous Sauf US).
OKADA, Hozuma; (US Seulement).
ICHIHASHI, Kunio; (US Seulement)
Inventeurs : OKADA, Hozuma; .
ICHIHASHI, Kunio;
Mandataire : IKEUCHI SATO & PARTNER PATENT ATTORNEYS; 26th Floor, OAP TOWER 8-30, Tenmabashi 1-chome Kita-ku, Osaka-shi Osaka 5306026 (JP)
Données relatives à la priorité :
2006-204930 27.07.2006 JP
Titre (EN) SYNTHETIC LEATHER, BASE TO BE USED IN THE LEATHER, AND PROCESSES FOR PRODUCTION OF BOTH
(FR) CUIR SYNTHÉTIQUE, BASE À UTILISER DANS LE CUIR ET PROCÉDÉS POUR LEUR PRODUCTION
(JA) 人工皮革及びそれに用いる基体、並びにそれらの製造方法
Abrégé : front page image
(EN)A base sheet for synthetic leather comprising (1) a facer nonwoven fabric (A) and (2) a backer nonwoven fabric (B), wherein the facer nonwoven fabric (A) is a nonwoven fabric of synthetic fiber which is made by a wet papermaking method and has a fineness of constituent fiber of 0.005 to 1.1dtex, a fiber length of 3 to 10mm, a basis weight of 20 to 150g/m2, a density of 0.30 to 0.50g/cm3 and the backer nonwoven fabric (B) is a nonwoven fabric of synthetic fiber which has a fineness of constituent fiber exceeding that of the nonwoven fabric (A) and up to 4.5dtex, a fiber length of 2 to 15mm, a basis weight of 50 to 400g/m2, and a density of 0.15g/cm3 to less than 0.28g/cm3 and wherein the nonwoven fabrics (A) and (B) are unified by lamination of both fabrics and entanglement of the fibers constituting both fabrics with each other and impregnated with an elastic polymer. Thus, the invention provides synthetic leather having texture similar to that of natural leather and a base to be used in the synthetic leather at low costs.
(FR)Nappe de base pour du cuir synthétique comprenant (1) un non-tissé d'endroit (A) et (2) un non-tissé d'envers (B), le non-tissé d'endroit (A) étant un non-tissé en fibre synthétique qui est fabriqué par un procédé de fabrication de papier en voie humide et a un titre de la fibre constituante de 0,005 à 1,1 dtex, une longueur de fibre de 3 à 10 mm, une masse surfacique de 20 à 150 g/m2, une densité de 0,30 à 0,50 g/cm3, le non-tissé d'envers (B) étant un non-tissé en fibre synthétique qui a un titre de la fibre constituante supérieur à celui du non-tissé (A) et allant jusqu'à 4,5 dtex, une longueur de fibre de 2 à 15 mm, une masse surfacique de 50 à 400 g/m2 et une densité de 0,15 g/cm3 à moins de 0,28 g/cm3 et les non-tissés (A) et (B) étant unis par stratification des deux non-tissés, entrelacement des fibres constituant les deux non-tissés les unes avec les autres et imprégnation d'un polymère élastique. Ainsi, l'invention produit un cuir synthétique ayant une texture similaire à celle du cuir naturel et une base à utiliser dans le cuir synthétique à de faibles coûts.
(JA) 上層不織布A(1)と、基部不織布B(2)を含む人工皮革用基体シートであって、上層不織布A(1)は、構成繊維の繊度0.005~1.1dtex、繊維長3~10mm、目付け20~150g/m2、密度0.30~0.50g/cm3の範囲からなる湿式抄造された合成繊維製不織布であり、基部不織布B(2)は、構成繊維の繊度が前記上層不織布Aの構成繊度よりも大きくかつ4.5dtex以下であり、繊維長2~15mm、目付け50~400g/m2、密度0.15g/cm3以上0.28g/cm3未満の合成繊維製不織布層であり、上層不織布A(1)及び基部不織布B(2)が積層され両層を構成する繊維が互いに交絡されることにより一体化され、弾性高分子が含浸されている。これにより、天然皮革に近似した風合いの人工皮革及びそれに用いる基体を低コストで提供する。                                                                                        
États désignés : AE, AG, AL, AM, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IS, JP, KE, KG, KM, KN, KP, KR, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LT, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PG, PH, PL, PT, RO, RS, RU, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, SV, SY, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW.
Organisation régionale africaine de la propriété intellectuelle (ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LS, MW, MZ, NA, SD, SL, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Office eurasien des brevets (OEAB) (AM, AZ, BY, KG, KZ, MD, RU, TJ, TM)
Office européen des brevets (OEB) (AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MT, NL, PL, PT, RO, SE, SI, SK, TR)
Organisation africaine de la propriété intellectuelle (OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
Langue de publication : japonais (JA)
Langue de dépôt : japonais (JA)