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1. (WO2008013087) UNITÉ DE MESURE D'ONDES STATIONNAIRES DANS UN GUIDE D'ONDES, PROCÉDÉ DE MESURE D'ONDES STATIONNAIRES, DISPOSITIF UTILISANT DES ONDES ÉLECTROMAGNÉTIQUES, ET DISPOSITIF ET PROCÉDÉ DE TRAITEMENT AU PLASMA
Dernières données bibliographiques dont dispose le Bureau international   

N° de publication :    WO/2008/013087    N° de la demande internationale :    PCT/JP2007/064177
Date de publication : 31.01.2008 Date de dépôt international : 18.07.2007
CIB :
G01R 29/08 (2006.01), C23C 16/511 (2006.01), G01R 21/04 (2006.01), G01R 27/06 (2006.01), H01L 21/205 (2006.01), H01L 21/3065 (2006.01), H01P 1/00 (2006.01), H01P 1/30 (2006.01), H01P 3/12 (2006.01), H05H 1/46 (2006.01)
Déposants : TOKYO ELECTRON LIMITED [JP/JP]; 3-6, Akasaka 5-chome, Minato-ku, Tokyo 1078481 (JP) (Tous Sauf US).
TOHOKU UNIVERSITY [JP/JP]; 1-1, Katahira 2-chome, Aoba-ku, Sendai-shi, Miyagi 9808577 (JP) (Tous Sauf US).
HIRAYAMA, Masaki [JP/JP]; (JP) (US Seulement).
OHMI, Tadahiro [JP/JP]; (JP) (US Seulement)
Inventeurs : HIRAYAMA, Masaki; (JP).
OHMI, Tadahiro; (JP)
Mandataire : HAGIWARA, Yasushi; Hazuki International, Shinjuku Akebonobashi Building, 1-12, Sumiyoshi-cho, Shinjuku-ku, Tokyo 1620065 (JP)
Données relatives à la priorité :
2006-206168 28.07.2006 JP
Titre (EN) STANDING WAVE MEASURING UNIT IN WAVEGUIDE AND STANDING WAVE MEASURING METHOD, ELECTROMAGNETIC WAVE USING DEVICE, PLASMA PROCESSING DEVICE, AND PLASMA PROCESSING METHOD
(FR) UNITÉ DE MESURE D'ONDES STATIONNAIRES DANS UN GUIDE D'ONDES, PROCÉDÉ DE MESURE D'ONDES STATIONNAIRES, DISPOSITIF UTILISANT DES ONDES ÉLECTROMAGNÉTIQUES, ET DISPOSITIF ET PROCÉDÉ DE TRAITEMENT AU PLASMA
(JA) 導波管内の定在波測定部および定在波測定方法、電磁波利用装置、プラズマ処理装置およびプラズマ処理方法
Abrégé : front page image
(EN)[PROBLEMS] To accurately measure a standing wave as an index to identify the waveguide length λg in a waveguide. [MEANS FOR SOLVING PROBLEMS] By detecting temperature distribution of a conductive member constituting at least a part of a pipe wall of a waveguide in the longitudinal direction of the waveguide for propagation of an electromagnetic wave, a standing wave generated in the waveguide is measured according to the temperature distribution. The temperature distribution of the conductive member in the longitudinal direction of the waveguide can be accurately measured by temperature sensors arranged in the longitudinal direction of the waveguide, or a temperature sensor moving in the longitudinal direction of the waveguide, or an infrared camera.
(FR)L'objectif de l'invention est de mesurer avec précision une onde stationnaire comme un indice permettant d'identifier la longueur λg d'un guide d'ondes. La détection de la répartition de la température d'un élément conducteur constituant au moins une partie d'une paroi de tuyau d'un guide d'ondes dans la direction longitudinale de ce guide d'ondes pour propager une onde électromagnétique, permet de mesurer une onde stationnaire générée dans ledit guide d'ondes en fonction de la répartition de la température. La répartition de la température de l'élément conducteur dans la direction longitudinale du guide d'ondes peut être mesurée avec précision par des capteurs de température agencés dans la direction longitudinale du guide d'ondes, ou par un capteur de température se déplaçant dans la direction longitudinale du guide d'ondes, ou par une caméra infrarouge.
(JA)【課題】導波管内の管内波長λgなどを把握するために指標となる定在波を正確に測定することにある。 【解決手段】電磁波を伝播させる導波管の長手方向に対する、導波管の管壁の少なくとも一部を構成する導電性部材の温度の分布を検出し、その温度分布に基づいて、導波管内に生じる定在波を測定する。導波管の長手方向に対する導電性部材の温度分布は、導波管の長手方向に沿って複数配列した温度センサ、導波管の長手方向に沿って移動する温度センサ、もしくは、赤外線カメラによって、正確に測定することができる。
États désignés : AE, AG, AL, AM, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IS, KE, KG, KM, KN, KP, KR, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LT, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PG, PH, PL, PT, RO, RS, RU, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, SV, SY, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW.
Organisation régionale africaine de la propriété intellectuelle (ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LS, MW, MZ, NA, SD, SL, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Office eurasien des brevets (OEAB) (AM, AZ, BY, KG, KZ, MD, RU, TJ, TM)
Office européen des brevets (OEB) (AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MT, NL, PL, PT, RO, SE, SI, SK, TR)
Organisation africaine de la propriété intellectuelle (OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
Langue de publication : japonais (JA)
Langue de dépôt : japonais (JA)