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1. (WO2008013030) COMPOSÉ, GÉNÉRATEUR D'ACIDE, COMPOSITION DE RÉSERVE ET PROCÉDÉ POUR FORMER UN MOTIF DE RÉSERVE
Dernières données bibliographiques dont dispose le Bureau international   

N° de publication :    WO/2008/013030    N° de la demande internationale :    PCT/JP2007/063290
Date de publication : 31.01.2008 Date de dépôt international : 03.07.2007
CIB :
C07D 333/54 (2006.01), C07C 309/06 (2006.01), C07D 333/56 (2006.01), G03F 7/004 (2006.01), G03F 7/039 (2006.01), H01L 21/027 (2006.01)
Déposants : TOKYO OHKA KOGYO CO., LTD. [JP/JP]; 150, Nakamaruko, Nakahara-ku, Kawasaki-shi, Kanagawa 2110012 (JP) (Tous Sauf US).
IWAI, Takeshi [JP/JP]; (JP) (US Seulement).
IRIE, Makiko [JP/JP]; (JP) (US Seulement)
Inventeurs : IWAI, Takeshi; (JP).
IRIE, Makiko; (JP)
Mandataire : TANAI, Sumio; 2-3-1, Yaesu, Chuo-ku Tokyo 1048453 (JP)
Données relatives à la priorité :
2006-201007 24.07.2006 JP
Titre (EN) COMPOUND, ACID GENERATOR, RESIST COMPOSITION AND METHOD FOR FORMING RESIST PATTERN
(FR) COMPOSÉ, GÉNÉRATEUR D'ACIDE, COMPOSITION DE RÉSERVE ET PROCÉDÉ POUR FORMER UN MOTIF DE RÉSERVE
(JA) 化合物、酸発生剤、レジスト組成物及びレジストパターン形成方法
Abrégé : front page image
(EN)Disclosed is a resist composition containing a base component (A) whose alkali solubility is varied by the action of an acid, and an acid generator component (B) which generates an acid when exposed to light. The acid generator component (B) contains an acid generator (B1) composed of a compound represented by the general formula (b1-3) below. In the formula, R41, R42 and R43 independently represent an alkyl group, an acetyl group, an alkoxy group, a carboxy group or a hydroxyalkyl group; n1 represents an integer of 0-3, n2 represents an integer of 0-3 and n3 represents an integer of 0-2, provided that n1, n2 and n3 are not 0 at the same time; and X- represent an anion.
(FR)L'invention concerne une composition de réserve contenant un composant de base (A), dont la solubilité en milieu alcalin varie par l'action d'un acide, et un composant générateur d'acide (B), qui génère un acide lorsqu'il est exposé à la lumière. Le composant générateur d'acide (B) contient un générateur d'acide (B1) composé d'un composé représenté par la formule générale (b1-3) ci-dessous. Dans la formule, R41, R42 et R43 représentent indépendamment un groupe alkyle, un groupe acétyle, un groupe alcoxy, un groupe carboxy ou un groupe hydroxyalkyle; n1 représente un entier allant de 0 à 3, n2 représente un entier allant de 0 à 3 et n3 représente un entier allant de 0 à 2, pourvu que n1, n2 et n3 ne sont pas égaux à 0 en même temps; et X-* représente un anion.
(JA)figure
États désignés : AE, AG, AL, AM, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IS, KE, KG, KM, KN, KP, KR, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LT, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PG, PH, PL, PT, RO, RS, RU, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, SV, SY, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW.
Organisation régionale africaine de la propriété intellectuelle (ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LS, MW, MZ, NA, SD, SL, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Office eurasien des brevets (OEAB) (AM, AZ, BY, KG, KZ, MD, RU, TJ, TM)
Office européen des brevets (OEB) (AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MT, NL, PL, PT, RO, SE, SI, SK, TR)
Organisation africaine de la propriété intellectuelle (OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
Langue de publication : japonais (JA)
Langue de dépôt : japonais (JA)