WIPO logo
Mobile | Deutsch | English | Español | 日本語 | 한국어 | Português | Русский | 中文 | العربية |
PATENTSCOPE

Recherche dans les collections de brevets nationales et internationales
World Intellectual Property Organization
Recherche
 
Options de navigation
 
Traduction
 
Options
 
Quoi de neuf
 
Connexion
 
Aide
 
Traduction automatique
1. (WO2008013024) FILTRE À PLIS POUR UN COLLECTEUR DE POUSSIÈRE ET COLLECTEUR DE POUSSIÈRE
Dernières données bibliographiques dont dispose le Bureau international   

N° de publication :    WO/2008/013024    N° de la demande internationale :    PCT/JP2007/063010
Date de publication : 31.01.2008 Date de dépôt international : 28.06.2007
CIB :
B01D 46/52 (2006.01), B01D 39/16 (2006.01)
Déposants : SINTOKOGIO, LTD. [JP/JP]; 28-12, Meieki 3-chome, Nakamura-ku Nagoya-shi Aichi 4500002 (JP) (Tous Sauf US).
AMANO, Hiroyuki [JP/JP]; (JP) (US Seulement).
WATANABE, Hiroaki [JP/JP]; (JP) (US Seulement).
IKENO, Hidenori [JP/JP]; (JP) (US Seulement).
SUZUKI, Tomoyuki [JP/JP]; (JP) (US Seulement)
Inventeurs : AMANO, Hiroyuki; (JP).
WATANABE, Hiroaki; (JP).
IKENO, Hidenori; (JP).
SUZUKI, Tomoyuki; (JP)
Mandataire : YAMASAKI, Yukuzo; Yamasaki & Partners Sogo Nagatacho Bldg. 11-28, Nagatacho 1-chome Chiyoda-ku, Tokyo 1000014 (JP)
Données relatives à la priorité :
2006-200471 24.07.2006 JP
2006-226667 23.08.2006 JP
2006-229646 25.08.2006 JP
2007-056543 07.03.2007 JP
Titre (EN) PLEAT TYPE FILTER FOR DUST COLLECTOR AND DUST COLLECTOR
(FR) FILTRE À PLIS POUR UN COLLECTEUR DE POUSSIÈRE ET COLLECTEUR DE POUSSIÈRE
(JA) 集塵機用プリーツ型フィルタおよび集塵機
Abrégé : front page image
(EN)A pleat type filter for a dust collector equipped with an optimal design feature for reducing the installation area of the pleat type filter as much as possible while keeping a low ventilation resistance when the pleat type filter for a dust collector is arranged while the pleat is directed in the vertical direction. While employing a dirty filter cloth resistance as the resistance coefficient by residual dust not shaken off by a shaking operation and a filtering material, the aperture value (P/H) which is the ratio between the interval P between two crests in the pleat of the pleat type filter and the height H of the crest is 0.1-0.3 from the relation between the installation area of the pleat type filter and the aperture value (P/H).
(FR)Filtre à plis pour un collecteur de poussière équipé d'une fonction de conception optimale destinée à réduire l'aire d'installation du filtre à plis le plus possible, tout en maintenant une résistance de ventilation faible quand le filtre à plis pour un collecteur de poussière est agencé alors que le pli est dirigé suivant la direction verticale. En employant une résistance de toile filtrante sale comme coefficient de résistance par de la poussière résiduelle qui ne part pas avec une opération de secousse et un matériau filtrant, la valeur d'ouverture (P/H), qui est le rapport entre l'intervalle P entre deux crêtes dans le pli du filtre à plis et la hauteur H de la crête est de 0,1 à 0,3 à partir du rapport entre l'aire d'installation du filtre à plis et la valeur d'ouverture (P/H).
(JA) プリーツを上下方向へ指向させて集塵機用プリーツ型フィルタを配設した際に、通気抵抗を低く保ちつつ、そのプリーツ型ろ過体の設置面積を可及的に小さくすることができる最適設計点を備えた集塵機用プリーツ型フィルタを提供する。  払落し操作で払い落とされない残留粉塵とろ材による抵抗係数としての汚れろ布抵抗を用いて、前記プリーツ型ろ過体の設置面積と、前記プリーツ型ろ過体のプリーツにおける2個の山部の間隔Pとこの山部の高さHとの比である目開き値(P/H)との関係から、該目開き値(P/H)が0.1~0.3である。
États désignés : AE, AG, AL, AM, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IS, KE, KG, KM, KN, KP, KR, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LT, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PG, PH, PL, PT, RO, RS, RU, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, SV, SY, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW.
Organisation régionale africaine de la propriété intellectuelle (ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LS, MW, MZ, NA, SD, SL, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Office eurasien des brevets (OEAB) (AM, AZ, BY, KG, KZ, MD, RU, TJ, TM)
Office européen des brevets (OEB) (AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MT, NL, PL, PT, RO, SE, SI, SK, TR)
Organisation africaine de la propriété intellectuelle (OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
Langue de publication : japonais (JA)
Langue de dépôt : japonais (JA)