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1. (WO2008012999) COMPOSITION DE RÉSERVE POSITIVE ET PROCÉDÉ DE FORMATION D'UN MOTIF DE RÉSERVE
Dernières données bibliographiques dont dispose le Bureau international   

N° de publication :    WO/2008/012999    N° de la demande internationale :    PCT/JP2007/061648
Date de publication : 31.01.2008 Date de dépôt international : 08.06.2007
CIB :
G03F 7/039 (2006.01), G03F 7/004 (2006.01), H01L 21/027 (2006.01)
Déposants : TOKYO OHKA KOGYO CO., LTD. [JP/JP]; 150, Nakamaruko, Nakahara-ku, Kawasaki-shi, Kanagawa 2110012 (JP) (Tous Sauf US).
MIMURA, Takeyoshi [JP/JP]; (JP) (US Seulement).
KAWAUE, Akiya [JP/JP]; (JP) (US Seulement).
TAKASU, Ryoichi [JP/JP]; (JP) (US Seulement)
Inventeurs : MIMURA, Takeyoshi; (JP).
KAWAUE, Akiya; (JP).
TAKASU, Ryoichi; (JP)
Mandataire : TANAI, Sumio; 2-3-1, Yaesu Chuo-ku Tokyo 1048453 (JP)
Données relatives à la priorité :
2006-201008 24.07.2006 JP
2006-203629 26.07.2006 JP
2006-203630 26.07.2006 JP
Titre (EN) POSITIVE RESIST COMPOSITION AND METHOD OF FORMING RESIST PATTERN
(FR) COMPOSITION DE RÉSERVE POSITIVE ET PROCÉDÉ DE FORMATION D'UN MOTIF DE RÉSERVE
(JA) ポジ型レジスト組成物およびレジストパターン形成方法
Abrégé : front page image
(EN)A positive resist composition containing resin component (A) and acid generator component (B), characterized in that the component (A) contains structural unit (a1) derived from hydroxystyrene and structural unit (a2) having an acetal based acid dissociative dissolution inhibiting group while the component (B) contains acid generator (B1-i) having at least one anion moiety selected from the group represented by the general formulae (b-3), (b-4) and (b-5), or acid generator (B1-ii) having an anion moiety represented by the general formula (b-6), or acid generator (B1-iii) having a cation moiety represented by the general formula (b'-3). (b-3), (b-4), (b-5) (b-6) (b'-3)
(FR)Composition de réserve positive contenant un composant résine (A) et un composant générateur d'acide (B), caractérisée en ce que le composant (A) contient une unité de structure (a1) dérivée de l'hydroxystyrène et une unité de structure (a2) ayant un groupe inhibant la dissolution dissociative acide à base d'acétal alors que le composant (B) contient un générateur d'acide (B1-i) ayant au moins une entité anionique sélectionnée dans le groupe des entités représentées par les formules générales (b-3), (b-4) et (b-5), un générateur d'acide (B1-ii) ayant une entité anionique représentée par la formule générale (b-6) ou un générateur d'acide (B1-iii) ayant une entité cationique représentée par la formule générale (b'-3). (b-3), (b-4), (b-5) (b-6) (b'-3)
(JA)figure
États désignés : AE, AG, AL, AM, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IS, KE, KG, KM, KN, KP, KR, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LT, LU, LY, MA, MD, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PG, PH, PL, PT, RO, RS, RU, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, SV, SY, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW.
Organisation régionale africaine de la propriété intellectuelle (ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LS, MW, MZ, NA, SD, SL, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Office eurasien des brevets (OEAB) (AM, AZ, BY, KG, KZ, MD, RU, TJ, TM)
Office européen des brevets (OEB) (AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MT, NL, PL, PT, RO, SE, SI, SK, TR)
Organisation africaine de la propriété intellectuelle (OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
Langue de publication : japonais (JA)
Langue de dépôt : japonais (JA)