WIPO logo
Mobile | Deutsch | English | Español | 日本語 | 한국어 | Português | Русский | 中文 | العربية |
PATENTSCOPE

Recherche dans les collections de brevets nationales et internationales
World Intellectual Property Organization
Recherche
 
Options de navigation
 
Traduction
 
Options
 
Quoi de neuf
 
Connexion
 
Aide
 
Traduction automatique
1. (WO2008012724) SUIVI OPTIQUE ET DÉTERMINATION DE POSITION POUR PROCÉDÉS ET SYSTÈMES DE DÉTECTION
Dernières données bibliographiques dont dispose le Bureau international   

N° de publication :    WO/2008/012724    N° de la demande internationale :    PCT/IB2007/052800
Date de publication : 31.01.2008 Date de dépôt international : 13.07.2007
CIB :
G01N 21/64 (2006.01)
Déposants : KONINKLIJKE PHILIPS ELECTRONICS N.V. [NL/NL]; Groenewoudseweg 1, NL-5621 BA Eindhoven (NL) (Tous Sauf US).
BOAMFA, Marius, I. [NL/NL]; (NL) (US Seulement).
VAN DIJK, Erik, M., H., P. [NL/NL]; (NL) (US Seulement).
WIMBERGER-FRIEDL, Reinhold [AT/NL]; (NL) (US Seulement).
DE WITZ, Christianne, R., M. [BE/BE]; (NL) (US Seulement)
Inventeurs : BOAMFA, Marius, I.; (NL).
VAN DIJK, Erik, M., H., P.; (NL).
WIMBERGER-FRIEDL, Reinhold; (NL).
DE WITZ, Christianne, R., M.; (NL)
Mandataire : SCHOUTEN, Marcus, M.; High Tech Campus Building 44, NL-5656 AE Eindhoven (NL)
Données relatives à la priorité :
06117543.6 20.07.2006 EP
Titre (EN) OPTICAL TRACKING AND POSITION DETERMINATION FOR DETECTION METHODS AND SYSTEMS
(FR) SUIVI OPTIQUE ET DÉTERMINATION DE POSITION POUR PROCÉDÉS ET SYSTÈMES DE DÉTECTION
Abrégé : front page image
(EN)A tracking system (106) is described for tracking areas on a substrate (104) using an irradiation beam. The irradiation beam typically has an irradiation beam projection (202) on the substrate (104) whereby at least one dimension of the irradiation beam projection (202) is substantially larger than a wavelength of the irradiation beam. The tracking system (106) typically comprises a detecting means (108) adapted for detecting a variation of an optical characteristic of at least part of the irradiation beam induced by interaction with different regions (204, 206) of the substrate having different irradiation modulating properties, for locating said irradiation beam with respect to said substrate (104). The tracking system typically is adapted to cooperate with a substrate. The invention also relates to a position determination system for obtaining position related information from a modulation of the irradiation beam induced by the substrate, a corresponding method and substrates for use therewith.
(FR)Le système de suivi (106) décrit permet de suivre des zones sur un substrat (104) à l'aide d'un faisceau d'irradiation. Le faisceau d'irradiation a généralement une projection de faisceau d'irradiation (202) sur le substrat (104) de manière que au moins une dimension de la projection de faisceau d'irradiation (202) soit sensiblement supérieure à une longueur d'ondes du faisceau d'irradiation. Le système de suivi (106) comprend généralement un moyen de détection (108) adapté pour détecter une variation d'une caractéristique optique d'au moins une partie du faisceau d'irradiation induit par interaction avec différentes régions (204, 206) du substrat ayant différentes propriétés de modulation de l'irradiation, pour localiser ledit faisceau d'irradiation par rapport audit substrat (104). Le système de suivi est généralement adapté pour coopérer avec un substrat. L'invention concerne également un système de détermination de position pour obtenir des informations associées à la position à partir d'une modulation du faisceau d'irradiation induit par le substrat, un procédé correspondant et des substrats à utiliser avec celui-ci.
États désignés : AE, AG, AL, AM, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IS, JP, KE, KG, KM, KN, KP, KR, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LT, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PG, PH, PL, PT, RO, RS, RU, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, SV, SY, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW.
Organisation régionale africaine de la propriété intellectuelle (ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LS, MW, MZ, NA, SD, SL, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Office eurasien des brevets (OEAB) (AM, AZ, BY, KG, KZ, MD, RU, TJ, TM)
Office européen des brevets (OEB) (AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MT, NL, PL, PT, RO, SE, SI, SK, TR)
Organisation africaine de la propriété intellectuelle (OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
Langue de publication : anglais (EN)
Langue de dépôt : anglais (EN)