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1. (WO2008012215) PROCÉDÉ ET DISPOSITIF POUR PRÉPARER UN FRAGMENT DE SILICIUM POLYCRISTALLIN CALIBRÉ DE HAUTE PURETÉ
Dernières données bibliographiques dont dispose le Bureau international   

N° de publication :    WO/2008/012215    N° de la demande internationale :    PCT/EP2007/057238
Date de publication : 31.01.2008 Date de dépôt international : 13.07.2007
CIB :
C30B 29/06 (2006.01), C01B 33/037 (2006.01), C01B 33/02 (2006.01)
Déposants : WACKER CHEMIE AG [DE/DE]; Hanns-Seidel-Platz 4, 81737 München (DE) (Tous Sauf US).
SCHÄFER, Marcus [DE/DE]; (DE) (US Seulement).
PECH, Reiner [DE/DE]; (DE) (US Seulement).
WOCHNER, Hanns [DE/DE]; (DE) (US Seulement)
Inventeurs : SCHÄFER, Marcus; (DE).
PECH, Reiner; (DE).
WOCHNER, Hanns; (DE)
Mandataire : POTTEN, Holger; Wacker Chemie AG, Hanns-Seidel-Platz 4, 81737 München (DE)
Données relatives à la priorité :
10 2006 035 081.2 28.07.2006 DE
Titre (DE) VERFAHREN UND VORRICHTUNG ZUR HERSTELLUNG VON KLASSIERTEM POLYKRISTALLINEN SILICIUMBRUCH IN HOHER REINHEIT
(EN) METHOD AND DEVICE FOR PRODUCING CLASSIFIED HIGH-PURITY POLYCRYSTALLINE SILICON FRAGMENTS
(FR) PROCÉDÉ ET DISPOSITIF POUR PRÉPARER UN FRAGMENT DE SILICIUM POLYCRISTALLIN CALIBRÉ DE HAUTE PURETÉ
Abrégé : front page image
(DE)Die Erfindung betrifft ein Verfahren zur Herstellung von hochreinem klassierten Polysilicium-Bruch, bei dem ein Polysilicium aus dem Siemens-Verfahren mittels einer Vorrichtung umfassend Zerkleinerungswerkzeuge und einer Siebvorrichtung zerkleinert und klassiert wird und der so erhaltene Polysilicium-Bruch mittels eines Reinigungsbades gereinigt wird, dadurch gekennzeichnet, dass die Zerkleinerungswerkzeuge und die Siebvorrichtung durchgängig eine mit dem Polysilicium in Kontakt kommende Oberfläche aus einem Werkstoff besitzen, welches den Polysilicium-Bruch nur mit solchen Fremdpartikeln verunreinigt, welche anschließend gezielt durch das Reinigungsbad entfernt werden.
(EN)The invention relates to a method for producing high-purity classified polysilicon fragments, wherein polysilicon from the Siemens process is pulverized and classified by means of a device comprising pulverizing tools and a screening device, and the resulting polysilicon fragments are purified by a purification bath, characterized in that the pulverizing tools and screening device generally have a surface that comes into contact with the polysilicon that is made of a material that contaminates the polysilicon fragments only with foreign particles that are subsequently removed selectively by the purification bath.
(FR)L'invention concerne un procédé pour la préparation d'un fragment de polysilicium calibré, très pur, un polysilicium provenant du procédé Siemens étant broyé et calibré à l'aide d'un dispositif comprenant unoutillage de broyage et un dispositif de tamisage, le fragment de polysilicium ainsi obtenu étant purifié à l'aide d'un bain de purification. Le procédé est caractérisé en ce que l'outillage de broyage et le dispositif de tamisage possèdent tous une surface entrant en contact avec le polysilicium et constituée d'un matériau qui n'encrasse le fragment de polysilicium qu'avec des particules étrangères qui sont ensuite éliminées de manière ciblée par le bain de purification.
États désignés : AE, AG, AL, AM, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IS, JP, KE, KG, KM, KN, KP, KR, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LT, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PG, PH, PL, PT, RO, RS, RU, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, SV, SY, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW.
Organisation régionale africaine de la propriété intellectuelle (ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LS, MW, MZ, NA, SD, SL, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Office eurasien des brevets (OEAB) (AM, AZ, BY, KG, KZ, MD, RU, TJ, TM)
Office européen des brevets (OEB) (AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MT, NL, PL, PT, RO, SE, SI, SK, TR)
Organisation africaine de la propriété intellectuelle (OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
Langue de publication : allemand (DE)
Langue de dépôt : allemand (DE)