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1. (WO2008011981) SYSTÈME D'ÉCLAIRAGE POUR LA MICROLITHOGRAPHIE ET INSTALLATION ASSOCIÉE D'EXPOSITION PAR PROJECTION
Dernières données bibliographiques dont dispose le Bureau international   

N° de publication :    WO/2008/011981    N° de la demande internationale :    PCT/EP2007/006090
Date de publication : 31.01.2008 Date de dépôt international : 10.07.2007
CIB :
G03F 7/20 (2006.01)
Déposants : CARL ZEISS SMT AG [DE/DE]; Rudof-Eber-Strasse 2, 73447 Oberkochen (DE) (Tous Sauf US).
DEGÜNTHER, Markus [DE/DE]; (DE) (US Seulement)
Inventeurs : DEGÜNTHER, Markus; (DE)
Mandataire : HOFMANN, Matthias; Königstrasse 2, 90402 Nürnberg (DE)
Données relatives à la priorité :
10 2006 034 709.9 27.07.2006 DE
Titre (DE) BELEUCHTUNGSSYSTEM FUR DIE MIKRO-LITH0GRAPHIE UND PROJEKTIONSBELICHTUNGSANLAGE DAMIT
(EN) ILLUMINATION SYSTEM FOR MICROLITHOGRAPHY AND PROJECTION EXPOSURE APPARATUS THEREWITH
(FR) SYSTÈME D'ÉCLAIRAGE POUR LA MICROLITHOGRAPHIE ET INSTALLATION ASSOCIÉE D'EXPOSITION PAR PROJECTION
Abrégé : front page image
(DE)Ein Beleuchtungssystem (5) für die Mikro-Lithographie hat eine Lichtverteilungseinrichtung (9, 10) zur Erzeugung einer vorgegebenen zweidimensionalen Intensitätsverteilung sowie ein optisches Rastermodul (12). Letzteres hat eine erste Rasteranordnung mit ersten, rechteckigen Rasterelementen (20), die gerastert angeordnete sekundäre Lichtquellen erzeugt. Das Rastermodul (12) hat weiterhin eine im Beleuchtungs-Lichtweg nach der ersten Rasteranordnung (19) angeordnete zweite Rasteranordnung (34). Eine Übertragungsoptik (13, 15, 16) dient zur überlagernden Übertragung von Beleuchtungslicht (8) der sekundären Lichtquellen (23) in ein Beleuchtungsfeld (3). Mindestens eine weitere optische Bildfeldformungs- Rastereinrichtung mit rechteckigen Bildfeldformungs-Rasterelementen beeinflusst das Beleuchtungslicht (8) zur Erzeugung von gebogenen sekundären Lichtquellen (33). Es resultiert ein Beleuchtungssystem, bei dem ein gebogenes Beleuchtungsfeld mit optischen Komponenten erzeugt werden kann, deren Herstellungsaufwand vertretbar ist. Das Beleuchtungssystem ist Teil einer Projektionsbelichtungsanlage (1), mit der mikrostrukturierte Bauelemente hergestellt werden können.
(EN)An illumination system (5) for microlithography has a light distribution device (9, 10) for generating a predefined two-dimensional intensity distribution and an optical raster module (12). The latter has a first raster arrangement having first rectangular raster elements (20), which generates secondary light sources that are disposed in a raster pattern. The raster module (12) further has a second raster arrangement (34) that is disposed in the illumination path after the first raster arrangement (19). A transmission lens (13, 15, 16) serves for the overlapping transmission of illumination light (8) of the secondary light sources (23) in an illumination field (3). At least one further optical image field forming raster device having rectangular image field forming raster elements influences the illumination light (8) for generating curved secondary light sources (33). The result is an illumination system, wherein a curved illumination field can be generated using optical components, the production efforts of which is justifiable. The illumination system is part of a projection exposure apparatus (1) for producing micro-structured components.
(FR)L'invention concerne un système d'éclairage (5) pour la microlithographie qui comprend un dispositif de répartition de la lumière (9, 10) pour produire une répartition d'intensité bidimensionnelle définie, ainsi qu'un module de trame optique (12). Ce dernier présente un premier ensemble de trames avec des premiers éléments de trame (20) rectangulaires produisant des sources lumineuses secondaires disposées en trame. Le module de trame (12) comprend en outre un second ensemble de trame (34) disposé dans la trajectoire lumineuse d'éclairage après le premier ensemble de trame (19). Une optique de transmission (13, 15, 16) sert à transmettre par superposition la lumière d'éclairage (8) des sources lumineuses secondaires (23) dans un champ d'éclairage (3). Au moins un autre dispositif de trame de mise en forme de champ de visée optique avec éléments rectangulaires de trame de mise en forme de champ de visée influence la lumière d'éclairage (8) pour produire des sources lumineuses secondaires (33) courbes. Il en résulte un système d'éclairage dans lequel un champ d'éclairage courbe avec des composants optiques peut être produit, dont les dépenses de fabrication sont quantifiables. Le système d'éclairage fait partie d'une installation d'exposition par projection (1) avec laquelle des composants microstructurés peuvent être fabriqués.
États désignés : AE, AG, AL, AM, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IS, JP, KE, KG, KM, KN, KP, KR, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LT, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PG, PH, PL, PT, RO, RS, RU, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, SV, SY, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW.
Organisation régionale africaine de la propriété intellectuelle (ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LS, MW, MZ, NA, SD, SL, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Office eurasien des brevets (OEAB) (AM, AZ, BY, KG, KZ, MD, RU, TJ, TM)
Office européen des brevets (OEB) (AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MT, NL, PL, PT, RO, SE, SI, SK, TR)
Organisation africaine de la propriété intellectuelle (OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
Langue de publication : allemand (DE)
Langue de dépôt : allemand (DE)