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1. (WO2008010943) SOURCE DE PLASMA À COUPLAGE CAPACITIF ET INDUCTIF RF HYBRIDE UTILISANT DES PUISSANCES RF MULTIFRÉQUENCES ET SON PROCÉDÉ D'UTILISATION
Dernières données bibliographiques dont dispose le Bureau international   

N° de publication :    WO/2008/010943    N° de la demande internationale :    PCT/US2007/015928
Date de publication : 24.01.2008 Date de dépôt international : 13.07.2007
CIB :
H01L 21/306 (2006.01), C23C 16/00 (2006.01)
Déposants : LAM RESEARCH CORPORATION [US/US]; 4650 Cushing Parkway, Fremont, California 94538-6470 (US) (Tous Sauf US).
MARAKHTANOV, Alexei [RU/US]; (US) (US Seulement).
DHINDSA, Rajinder [US/US]; (US) (US Seulement).
HUDSON, Eric [US/US]; (US) (US Seulement).
FISCHER, Andreas [DE/US]; (US) (US Seulement)
Inventeurs : MARAKHTANOV, Alexei; (US).
DHINDSA, Rajinder; (US).
HUDSON, Eric; (US).
FISCHER, Andreas; (US)
Mandataire : SKIFF, Peter, K.; BUCHANAN INGERSOLL & ROONEY PC, P.O. Box 1404, Alexandria, Virginia 22313-1404 (US)
Données relatives à la priorité :
11/487,999 18.07.2006 US
Titre (EN) HYBRID RF CAPACITIVELY AND INDUCTIVELY COUPLED PLASMA SOURCE USING MULTIFREQUENCY RF POWERS AND METHODS OF USE THEREOF
(FR) SOURCE DE PLASMA À COUPLAGE CAPACITIF ET INDUCTIF RF HYBRIDE UTILISANT DES PUISSANCES RF MULTIFRÉQUENCES ET SON PROCÉDÉ D'UTILISATION
Abrégé : front page image
(EN)A device for inductively confining capacitively coupled RF plasma formed in a plasma processing apparatus. The apparatus includes an upper electrode and a lower electrode that is adapted to support a substrate and to generate the plasma between the substrate and the upper electrode. The device includes a dielectric support ring that concentrically surrounds the upper electrode and a plurality of coil units mounted on the dielectric support ring. Each coil unit includes a ferromagnetic core positioned along a radial direction of the dielectric support ring and at least one coil wound around each ferromagnetic core. The coil units generate, upon receiving RF power from an RF power source, electric and magnetic fields that reduce the number of charged particles of the plasma diffusing away from the plasma.
(FR)La présente invention concerne un dispositif permettant un confinement inductif d'un plasma RF à couplage capacitif réalisé dans un appareil de traitement plasma. L'appareil comprend une électrode supérieure et une électrode inférieure qui est conçue pour supporter un substrat et générer un plasma entre le substrat et l'électrode supérieure. Le dispositif comprend un anneau de support diélectrique qui entoure concentriquement l'électrode supérieure et une pluralité d'unités de bobines montées sur l'anneau de support diélectrique. Chaque unité de bobine comprend un noyau ferromagnétique positionné le long d'une direction radiale de l'anneau de support diélectrique, et au moins une bobine enroulée autour de chaque noyau ferromagnétique. L'unité de bobines génère, en recevant une puissance RF depuis une source d'énergie RF, des champs électriques et magnétiques qui réduisent le nombre de particules chargées du plasma qui se diffusent hors du plasma.
États désignés : AE, AG, AL, AM, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IS, JP, KE, KG, KM, KN, KP, KR, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LT, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PG, PH, PL, PT, RO, RS, RU, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, SV, SY, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW.
Organisation régionale africaine de la propriété intellectuelle (ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LS, MW, MZ, NA, SD, SL, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Office eurasien des brevets (OEAB) (AM, AZ, BY, KG, KZ, MD, RU, TJ, TM)
Office européen des brevets (OEB) (AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MT, NL, PL, PT, RO, SE, SI, SK, TR)
Organisation africaine de la propriété intellectuelle (OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
Langue de publication : anglais (EN)
Langue de dépôt : anglais (EN)