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1. (WO2008010710) CORRECTION D'INSTABILITÉ SPATIALE D'UNE SOURCE D'ULTRAVIOLET EXTRÊME PAR ORIENTATION DE FAISCEAU LASER
Dernières données bibliographiques dont dispose le Bureau international   

N° de publication :    WO/2008/010710    N° de la demande internationale :    PCT/NL2007/050328
Date de publication : 24.01.2008 Date de dépôt international : 04.07.2007
CIB :
G03F 7/20 (2006.01), H05G 2/00 (2006.01)
Déposants : ASML Netherlands B.V. [NL/NL]; De Run 6501, NL-5504 DR Veldhoven (NL) (Tous Sauf US).
FRIJNS, Olav, Waldemar, Vladimir [NL/NL]; (NL) (US Seulement)
Inventeurs : FRIJNS, Olav, Waldemar, Vladimir; (NL)
Mandataire : VAN WESTENBRUGGE, Andries; Postbus 29720, NL-2502 LS Den Haag (NL)
Données relatives à la priorité :
11/488,918 19.07.2006 US
Titre (EN) CORRECTION OF SPATIAL INSTABILITY OF AN EUV SOURCE BY LASER BEAM STEERING
(FR) CORRECTION D'INSTABILITÉ SPATIALE D'UNE SOURCE D'ULTRAVIOLET EXTRÊME PAR ORIENTATION DE FAISCEAU LASER
Abrégé : front page image
(EN)A method to align a discharge axis of a discharge radiation source with respect to optics of the lithographic apparatus includes creating a discharge in a substance in a discharge space between an anode and a cathode to form a plasma so as to generate electromagnetic radiation. The discharge is triggered by irradiating an area on a surface proximate the discharge space with an energetic beam. The position of the area is controlled in response to a property of the radiation in the lithographic apparatus and/or the temperature of a collector of the lithographic apparatus. Controlling the position of the area which is irradiated improves alignment of the discharge axis with the different lithographic modules, such as the contamination barrier, the illumination system, the substrate table and/or the projection system.
(FR)L'invention concerne un procédé permettant d'aligner un axe de décharge d'une source de rayonnements de décharge par rapport à un dispositif optique d'un appareil lithographique. Ce procédé consiste à créer une décharge dans une substance dans un espace de décharge situé entre une anode et une cathode afin de former un plasma pour générer un rayonnement électromagnétique. La décharge est déclenchée par émission de rayonnements sur une zone se trouvant sur une surface proche de l'espace de décharge avec un faisceau énergétique. La position de la zone est maîtrisée en réponse à une propriété du rayonnement dans l'appareil lithographique et/ou la température d'un collecteur dudit appareil. La maîtrise de la position de la zone qui reçoit les rayonnements permet d'améliorer l'alignement de l'axe de décharge avec les différents modules lithographiques, tels que la barrière de contamination, le système d'éclairage, la table de substrat et/ou le système de projection.
États désignés : AE, AG, AL, AM, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IS, JP, KE, KG, KM, KN, KP, KR, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LT, LU, LY, MA, MD, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PG, PH, PL, PT, RO, RS, RU, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, SV, SY, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW.
Organisation régionale africaine de la propriété intellectuelle (ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LS, MW, MZ, NA, SD, SL, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Office eurasien des brevets (OEAB) (AM, AZ, BY, KG, KZ, MD, RU, TJ, TM)
Office européen des brevets (OEB) (AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MT, NL, PL, PT, RO, SE, SI, SK, TR)
Organisation africaine de la propriété intellectuelle (OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
Langue de publication : anglais (EN)
Langue de dépôt : anglais (EN)