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1. (WO2008010455) PROCÉDÉ DE FABRICATION D'UN COMPOSÉ SUBSTITUÉ PAR UN GROUPEMENT &bgr;-DIARYLE ACCEPTEUR D'ÉLECTRONS
Dernières données bibliographiques dont dispose le Bureau international   

N° de publication :    WO/2008/010455    N° de la demande internationale :    PCT/JP2007/063966
Date de publication : 24.01.2008 Date de dépôt international : 13.07.2007
CIB :
C07C 45/68 (2006.01), C07C 49/213 (2006.01), C07C 49/255 (2006.01), C07C 49/35 (2006.01), C07C 67/343 (2006.01), C07C 69/734 (2006.01), C07C 221/00 (2006.01), C07C 225/22 (2006.01), C07D 213/55 (2006.01), C07D 317/60 (2006.01), C07D 319/10 (2006.01), C07D 405/06 (2006.01), C07B 53/00 (2006.01), C07B 61/00 (2006.01)
Déposants : JAPAN SCIENCE AND TECHNOLOGY AGENCY [JP/JP]; 4-1-8, Honcho, Kawaguchi-shi, Saitama 3320012 (JP) (Tous Sauf US).
NATIONAL UNIVERSITY CORPORATION HOKKAIDO UNIVERSITY [JP/JP]; 8, Kita 8-jyo Nishi 5-chome, Kita-ku, Sapporo-shi Hokkaido 0600808 (JP) (Tous Sauf US).
BANYU PHARMACEUTICAL CO., LTD. [JP/JP]; 1-13-12, Kitanomaru-Squire, Kudankita, Chiyoda-ku Tokyo 1028667 (JP) (Tous Sauf US).
MIYAURA, Norio [JP/JP]; (JP) (US Seulement).
YAMAMOTO, Yasunori [JP/JP]; (JP) (US Seulement).
NISHIKATA, Takashi [JP/JP]; (JP) (US Seulement).
ITOH, Takahiro [JP/JP]; (JP) (US Seulement)
Inventeurs : MIYAURA, Norio; (JP).
YAMAMOTO, Yasunori; (JP).
NISHIKATA, Takashi; (JP).
ITOH, Takahiro; (JP)
Mandataire : AKAO, Kenichiro; 4kai, Kyobashi-Nichiei Biru, 3-4 Kyobashi 3-chome, Chuo-ku, Tokyo 1040031 (JP)
Données relatives à la priorité :
2006-196491 19.07.2006 JP
Titre (EN) METHOD FOR PRODUCING &bgr;-DIARYL ELECTRON-WITHDRAWING GROUP SUBSTITUTED COMPOUND
(FR) PROCÉDÉ DE FABRICATION D'UN COMPOSÉ SUBSTITUÉ PAR UN GROUPEMENT &bgr;-DIARYLE ACCEPTEUR D'ÉLECTRONS
(JA) β‐ジアリール電子吸引性基置換化合物の製造方法
Abrégé : front page image
(EN)Disclosed is a method for producing a &bgr;-diaryl electron-withdrawing group substituted compound at high yield with high selectivity. Specifically, an optically active &bgr;-diaryl electron-withdrawing group substituted compound represented by the general formula (V) below is produced by reacting an electron-withdrawing group substituted-&bgr;-arylolefin derivative represented by the general formula (I) below with an arylboron represented by the following general formula (II): Ar2-BXmMn in the presence of a compound represented by the following general formula (IV): RhYoL1p(Chiraphos)q (wherein Y represents ClO4, BF4, PF6, SbF6, OTf, a halogen atom, a hydroxy group, an alkoxy group or an acyloxy group, and L1 represents an organic ligand). [chemical formula 1] (I) (In the formula, Ar1 represents an aryl group, and E represents a formyl group, an acyl group or the like.) [chemical formula 3] (V)
(FR)L'invention concerne un procédé de fabrication d'un composé substitué par un groupement &bgr;-diaryle accepteur d'électrons avec un rendement et une sélectivité élevés. Plus précisément, un composé optiquement actif substitué par un groupement &bgr;-diaryle accepteur d'électrons représenté par la formule générale (V) ci-dessous est obtenu par réaction d'un dérivé de &bgr;-aryloléfine substitué par un groupement accepteur d'électrons représenté par la formule générale (I) ci-dessous avec un arylbore représenté par la formule générale (II) suivante : Ar2-BXmMn en présence d'un composé représenté par la formule générale (IV) suivante : RhYoL1p(Chiraphos)q (dans laquelle Y représente ClO4, BF4, PF6, SbF6, OTf, un atome d'halogène, un groupement hydroxy, un groupement alcoxy ou un groupement acyloxy et L1 représente un ligand organique). [formule chimique 1] (I) (Dans la formule, Ar1 représente un groupement aryle et E représente un groupement formyle, un groupement acyle ou analogue.) [formule chimique 3] (V)
(JA)figure
États désignés : AE, AG, AL, AM, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IS, JP, KE, KG, KM, KN, KP, KR, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LT, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PG, PH, PL, PT, RO, RS, RU, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, SV, SY, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW.
Organisation régionale africaine de la propriété intellectuelle (ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LS, MW, MZ, NA, SD, SL, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Office eurasien des brevets (OEAB) (AM, AZ, BY, KG, KZ, MD, RU, TJ, TM)
Office européen des brevets (OEB) (AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MT, NL, PL, PT, RO, SE, SI, SK, TR)
Organisation africaine de la propriété intellectuelle (OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
Langue de publication : japonais (JA)
Langue de dépôt : japonais (JA)