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1. (WO2008010415) MATÉRIAU À INDICE DE RÉFRACTION ÉLEVÉ
Dernières données bibliographiques dont dispose le Bureau international   

N° de publication :    WO/2008/010415    N° de la demande internationale :    PCT/JP2007/063364
Date de publication : 24.01.2008 Date de dépôt international : 04.07.2007
CIB :
C08G 77/04 (2006.01), G02B 6/13 (2006.01)
Déposants : TOKYO OHKA KOGYO CO., LTD. [JP/JP]; 150, Nakamaruko, Nakahara-ku, Kawasaki-shi, Kanagawa 2110012 (JP) (Tous Sauf US).
TAKEUCHI, Yoshiyuki [JP/JP]; (JP) (US Seulement)
Inventeurs : TAKEUCHI, Yoshiyuki; (JP)
Mandataire : SHOBAYASHI, Masayuki; Takase Bldg., 25-8, Higashi-ikebukuro 1-chome Toshima-ku, Tokyo 1700013 (JP)
Données relatives à la priorité :
2006-199237 21.07.2006 JP
Titre (EN) HIGH REFRACTIVE INDEX MATERIAL
(FR) MATÉRIAU À INDICE DE RÉFRACTION ÉLEVÉ
(JA) 高屈折率材料
Abrégé : front page image
(EN)Disclosed is a high refractive index material having a high refractive index, which enables to form a waveguide by a simpler method. Also disclosed are a high refractive index member made from the high refractive index material, and an image sensor. The high refractive index material contains a resin (A) having a structural unit represented by the following general formula (a-1). (a-1) [In the formula, R1 represents a hydrocarbon group, R2 represents a hydrogen or a hydrocarbon group, and m represents 0 or 1.]
(FR)L'invention concerne un matériau à indice de réfraction élevé, ledit matériau permettant de former un guide d'ondes par un procédé simplifié. L'invention concerne également un élément à indice de réfraction élevé fabriqué à partir du matériau à indice de réfraction élevé, et un capteur d'image. Le matériau à indice de réfraction élevé contient une résine (A) ayant une unité structurale représentée par la formule générale (a-1) suivante. (a-1) [Dans la formule, R1 représente un groupement hydrocarboné, R2 représente un hydrogène ou un groupement hydrocarboné et m représente 0 ou 1.]
(JA)figure
États désignés : AE, AG, AL, AM, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IS, KE, KG, KM, KN, KP, KR, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LT, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PG, PH, PL, PT, RO, RS, RU, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, SV, SY, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW.
Organisation régionale africaine de la propriété intellectuelle (ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LS, MW, MZ, NA, SD, SL, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Office eurasien des brevets (OEAB) (AM, AZ, BY, KG, KZ, MD, RU, TJ, TM)
Office européen des brevets (OEB) (AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MT, NL, PL, PT, RO, SE, SI, SK, TR)
Organisation africaine de la propriété intellectuelle (OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
Langue de publication : japonais (JA)
Langue de dépôt : japonais (JA)