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1. (WO2008009715) PROCEDE DE DEPOT DE REVETEMENTS CERAMIQUES NON OXYDES
Dernières données bibliographiques dont dispose le Bureau international   

N° de publication :    WO/2008/009715    N° de la demande internationale :    PCT/EP2007/057463
Date de publication : 24.01.2008 Date de dépôt international : 19.07.2007
CIB :
C23C 16/32 (2006.01), C23C 16/34 (2006.01), C23C 16/36 (2006.01), C23C 16/448 (2006.01)
Déposants : INSTITUT NATIONAL POLYTECHNIQUE DE TOULOUSE (I.N.P.T) [FR/FR]; 6 allée Emile Monso, BP 34 038, F-31029 Toulouse Cedex 4 (FR) (Tous Sauf US).
MAURY, Francis [FR/FR]; (FR) (US Seulement).
DOUARD, Aurélia [FR/FR]; (FR) (US Seulement)
Inventeurs : MAURY, Francis; (FR).
DOUARD, Aurélia; (FR)
Mandataire : RAVINA, Bernard; 8, rue des Briquetiers, ZA de Font Grasse - BP 10077, F-31703 Blagnac Cedex (FR)
Données relatives à la priorité :
0606660 21.07.2006 FR
Titre (EN) METHOD FOR DEPOSITING NON-OXIDE CERAMIC COATINGS
(FR) PROCEDE DE DEPOT DE REVETEMENTS CERAMIQUES NON OXYDES
Abrégé : front page image
(EN)The invention relates to a method for depositing a non-oxide ceramic-type coating based on chrome carbides, nitrides or carbonitrides, by means of DLI-CVD carried out at a low temperature and atmospheric pressure on a metallic substrate, said method essentially comprising the following steps: a) a solution is prepared, containing a molecular compound which is a precursor of the metal to be deposited, belongs to the bis(arene) family, and has a decomposition temperature of between 300°C and 550°C, said compound being dissolved in a solvent which is depleted of oxygen atoms; b) said solution is introduced in the form of an aerosol into a heated evaporator (3) at a temperature between the boiling temperature of the solvent and the decomposition temperature of the precursor; and c) the precursor and the vapourised solvent are driven by a neutral gas flow from the evaporator (3) towards a CVD reactor (10) having cold walls and comprising a susceptor (13) carrying the substrate to be covered and heated to a temperature higher than the decomposition temperature of the precursor but to a maximum temperature of 550°C, the evaporator (3) and the CVD reactor (10) being subjected to the atmospheric pressure.
(FR)L'invention a pour objet un procédé de dépôt d'un revêtement de type céramique non oxyde à base de carbures, nitrures ou carbonitrures de chrome par DLI-CVD réalisée à basse température et pression atmosphérique sur un substrat métallique comprenant essentiellement les étapes consistant à : a) se munir d'une solution contenant un composé moléculaire précurseur du métal à déposer appartenant à la famille des bis (arène) et dont la température de décomposition est comprise entre 300 -C et 550 -C, ledit composé étant dissous dans un solvant dépourvu d'atome d'oxygène, b) introduire ladite solution de précurseur sous forme d'aérosol dans un évaporateur (3) chauffé à une température comprise entre la température d' ébullition du solvant et la température de décomposition du précurseur, c) entra*ner le précurseur et le solvant vaporisés par un flux de gaz neutre de l ' évaporateur (3) vers un réacteur CVD (10) à parois froides comprenant un suscepteur (13) supportant le substrat à recouvrir, chauffé à une température supérieure à la température de décomposition du précurseur et d'au plus 550 -C, l ' évaporateur (3) et le réacteur CVD (10) étant soumis à la pression atmosphérique.
États désignés : AE, AG, AL, AM, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IS, JP, KE, KG, KM, KN, KP, KR, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LT, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PG, PH, PL, PT, RO, RS, RU, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, SV, SY, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW.
Organisation régionale africaine de la propriété intellectuelle (ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LS, MW, MZ, NA, SD, SL, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Office eurasien des brevets (OEAB) (AM, AZ, BY, KG, KZ, MD, RU, TJ, TM)
Office européen des brevets (OEB) (AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MT, NL, PL, PT, RO, SE, SI, SK, TR)
Organisation africaine de la propriété intellectuelle (OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
Langue de publication : français (FR)
Langue de dépôt : français (FR)