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1. (WO2008009353) Système d'éclairage d'un équipement d'éclairage par projection microlithographique
Dernières données bibliographiques dont dispose le Bureau international   

N° de publication :    WO/2008/009353    N° de la demande internationale :    PCT/EP2007/005943
Date de publication : 24.01.2008 Date de dépôt international : 05.07.2007
CIB :
G03F 7/20 (2006.01)
Déposants : CARL ZEISS SMT AG [DE/DE]; Rudolf-Eber-Str. 2, 73447 Oberkochen (DE) (Tous Sauf US).
FIOLKA, Damian [DE/DE]; (DE) (US Seulement)
Inventeurs : FIOLKA, Damian; (DE)
Mandataire : SCHWANHÄUSSER, Gernot; Ostertag & Partner, Epplestr. 14, 70597 Stuttgart (DE)
Données relatives à la priorité :
10 2006 032 878.7 15.07.2006 DE
Titre (DE) BELEUCHTUNGSSYSTEM EINER MIKROLITHOGRAPHISCHEN PROJEKTIONSBELICHTUNGSANLAGE
(EN) ILLUMINATION SYSTEM OF A MICROLITHOGRAPHIC PROJECTION EXPOSURE APPARATUS
(FR) Système d'éclairage d'un équipement d'éclairage par projection microlithographique
Abrégé : front page image
(DE)Ein Beleuchtungssystem (12) einer mikrolithographischen Projektionsbelichtungsanlage (10) weist eine erste optische Anordnung (26, 32; 132) zur Erzeugung eines Lichtbündels auf. Das Licht des Lichtbündels hat wenigstens über einen Teil des Querschnitts des Lichtbündels hinweg unterschiedliche Polarisationszustände hat und ist räumlich wenigstens teilweise kohärent. Ferner weist das Beleuchtungssystem (12) eine zweite optische Anordnung (36, 38), auf, die zwischen der ersten optischen Anordnung (26, 32; 132) und einer Pupillenebene (42) angeordnet ist. Die zweite optische Anordnung (36, 38) teilt das Lichtbündel auf wenigstens zwei unterschiedliche Orte (Px P-x PY P-Y) in der Pupillenebene (42) auf und überlagert dabei die von der ersten optischen Anordnung er- zeugten Polarisationszustände zu Pupillenpolarisationszuständen überlagert, die an den wenigstens zwei Orten (Px P-X PY P-Y) unterschiedlich sind.
(EN)An illumination system (12) of a microlithographic projection exposure apparatus (10) has a first optical arrangement (26, 32; 132) for generating a light bundle. The light of the light bundle has different polarization states at least across part of the cross section of the light bundle and is spatially at least partly coherent. Furthermore, the illumination system (12) has a second optical arrangement (36, 38), which is arranged between the first optical arrangement (26, 32; 132) and a pupil plane (42). The second optical arrangement (36, 38) splits the light bundle between at least two different locations (Px P-x PY P-Y) in the pupil plane (42) and in this case superimposes the polarization states generated by the first optical arrangement to form pupil polarization states which are different at the at least two locations (Px P-X PY P-Y).
(FR)Système (12) d'éclairage d'un équipement (10) d'éclairage par projection microlithographique, présentant un premier arrangement (26, 32 ; 132) optique pour générer un faisceau lumineux. La lumière du faisceau lumineux présente des états de polarisation différents sur au moins une partie de la section transversale du faisceau lumineux et elle est au moins partiellement cohérente dans l'espace. De plus, le système (12) d'éclairage présente un deuxième arrangement (36, 38) optique qui est disposé entre le premier arrangement (26, 32 ; 132) optique et un plan (42) de pupille. Le deuxième arrangement (36, 38) optique distribue le faisceau lumineux sur au moins deux endroits (Px P-x PY P-Y) différents dans le plan (42) de pupille et superpose ici les états de polarisation générés par le premier arrangement optique aux états de polarisation de la pupille, lesquels sont différents en au moins deux endroits (Px P-X PY P-Y).
États désignés : AE, AG, AL, AM, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IS, JP, KE, KG, KM, KN, KP, KR, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LT, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PG, PH, PL, PT, RO, RS, RU, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, SV, SY, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW.
Organisation régionale africaine de la propriété intellectuelle (ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LS, MW, MZ, NA, SD, SL, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Office eurasien des brevets (OEAB) (AM, AZ, BY, KG, KZ, MD, RU, TJ, TM)
Office européen des brevets (OEB) (AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MT, NL, PL, PT, RO, SE, SI, SK, TR)
Organisation africaine de la propriété intellectuelle (OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
Langue de publication : allemand (DE)
Langue de dépôt : allemand (DE)