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1. WO2008008922 - APPAREIL, SYSTÈME ET PROCÉDÉ POUR TRAITER UN SUBSTRAT QUI EMPÊCHE UN ÉCOULEMENT D'AIR CONTENANT DES CONTAMINANTS ET/OU DES RÉSIDUS DE SE DÉPOSER SUR LE SUBSTRAT

Numéro de publication WO/2008/008922
Date de publication 17.01.2008
N° de la demande internationale PCT/US2007/073403
Date du dépôt international 12.07.2007
CIB
B08B 3/04 2006.01
BTECHNIQUES INDUSTRIELLES; TRANSPORTS
08NETTOYAGE
BNETTOYAGE EN GÉNÉRAL; PROTECTION CONTRE LA SALISSURE EN GÉNÉRAL
3Nettoyage par des procédés impliquant l'utilisation ou la présence d'un liquide ou de vapeur d'eau
04Nettoyage impliquant le contact avec un liquide
B08B 3/10 2006.01
BTECHNIQUES INDUSTRIELLES; TRANSPORTS
08NETTOYAGE
BNETTOYAGE EN GÉNÉRAL; PROTECTION CONTRE LA SALISSURE EN GÉNÉRAL
3Nettoyage par des procédés impliquant l'utilisation ou la présence d'un liquide ou de vapeur d'eau
04Nettoyage impliquant le contact avec un liquide
10avec traitement supplémentaire du liquide ou de l'objet en cours de nettoyage, p.ex. par la chaleur, par l'électricité, par des vibrations
B08B 3/12 2006.01
BTECHNIQUES INDUSTRIELLES; TRANSPORTS
08NETTOYAGE
BNETTOYAGE EN GÉNÉRAL; PROTECTION CONTRE LA SALISSURE EN GÉNÉRAL
3Nettoyage par des procédés impliquant l'utilisation ou la présence d'un liquide ou de vapeur d'eau
04Nettoyage impliquant le contact avec un liquide
10avec traitement supplémentaire du liquide ou de l'objet en cours de nettoyage, p.ex. par la chaleur, par l'électricité, par des vibrations
12par des vibrations soniques ou ultrasoniques
CPC
H01L 21/67028
HELECTRICITY
01BASIC ELECTRIC ELEMENTS
LSEMICONDUCTOR DEVICES; ELECTRIC SOLID STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
21Processes or apparatus adapted for the manufacture or treatment of semiconductor or solid state devices or of parts thereof
67Apparatus specially adapted for handling semiconductor or electric solid state devices during manufacture or treatment thereof; Apparatus specially adapted for handling wafers during manufacture or treatment of semiconductor or electric solid state devices or components ; ; Apparatus not specifically provided for elsewhere
67005Apparatus not specifically provided for elsewhere
67011Apparatus for manufacture or treatment
67017Apparatus for fluid treatment
67028for cleaning followed by drying, rinsing, stripping, blasting or the like
H01L 21/67051
HELECTRICITY
01BASIC ELECTRIC ELEMENTS
LSEMICONDUCTOR DEVICES; ELECTRIC SOLID STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
21Processes or apparatus adapted for the manufacture or treatment of semiconductor or solid state devices or of parts thereof
67Apparatus specially adapted for handling semiconductor or electric solid state devices during manufacture or treatment thereof; Apparatus specially adapted for handling wafers during manufacture or treatment of semiconductor or electric solid state devices or components ; ; Apparatus not specifically provided for elsewhere
67005Apparatus not specifically provided for elsewhere
67011Apparatus for manufacture or treatment
67017Apparatus for fluid treatment
67028for cleaning followed by drying, rinsing, stripping, blasting or the like
6704for wet cleaning or washing
67051using mainly spraying means, e.g. nozzles
Déposants
  • AKRION TECHNOLOGIES, INC. [US]/[US] (AllExceptUS)
  • LIU, Zhi (Lewis) [US]/[US] (UsOnly)
Inventeurs
  • LIU, Zhi (Lewis)
Mandataires
  • BELLES, Brian, L.
Données relatives à la priorité
60/830,22312.07.2006US
Langue de publication anglais (EN)
Langue de dépôt anglais (EN)
États désignés
Titre
(EN) A SPLASH SHEILD FOR A ROTARY SUBSTRATE SUPPORT TO PREVENT SPLASH BACK
(FR) APPAREIL, SYSTÈME ET PROCÉDÉ POUR TRAITER UN SUBSTRAT QUI EMPÊCHE UN ÉCOULEMENT D'AIR CONTENANT DES CONTAMINANTS ET/OU DES RÉSIDUS DE SE DÉPOSER SUR LE SUBSTRAT
Abrégé
(EN)
A method and system for preventing the deposit of residues on a substrate Aspects of the system are modified in order to prevent deposit of residue of substrates In particular, gaps located within the system between the splash guard and the process chamber wall are closed, minimized and/or given non-linear shape so as to prevent the deposit of materials back onto the substrate In one aspect, the invention is a system for processing a substrate comprising a rotary support (322) for supporting a substrate in a substantially horizontal orientation, the rotary support (322) adapted to rotate about an axis o rotation, a wall (314) circumferentially surrounding the rotary support (322) about the axis of rotation, the wall extending above and below a top surface of a substrate positioned on the rotary support (322), a splash guard (312) circumferentially surrounding the rotary support (322) about the axis of rotation, the splash guard (312) positioned between the rotary support (322) and the wall (314) so that an annular gap (370) exists between an outer surface of the splash guard (312) and an inner surface of the wall structure (314), a structure extending upward from the outer surface of the splash guard (312) the structure (318a) adapted to prohibit droplets carried upward through the gap (370) by air flow from depositing on a substrate on the rotary support (322)
(FR)
L'invention concerne un procédé et un système pour empêcher le dépôt de résidus sur un substrat. Des aspects du système sont modifiés afin d'empêcher le dépôt de résidus sur des substrats. En particulier, des espaces situés à l'intérieur du système entre la protection contre les projections et la paroi de chambre de traitement sont fermés, rendus minimaux et/ou se voient donner une forme non linéaire de façon à empêcher le dépôt de matières à nouveau sur le substrat. Sous un aspect, l'invention est un système pour le traitement d'un substrat comprenant : un support tournant pour supporter un substrat dans une orientation sensiblement horizontale, le support tournant étant apte à tourner autour d'un axe de rotation; une paroi entourant de façon périphérique le support tournant autour de l'axe de rotation, la paroi s'étendant au-dessus et au-dessous d'une surface supérieure d'un substrat positionné sur le support tournant; une protection contre les projections entourant de façon périphérique le support tournant autour de l'axe de rotation, la protection contre les projections étant positionnée entre le support tournant et la paroi de telle sorte qu'un espace annulaire existe entre une surface externe de la protection contre les projections et une surface interne de la structure de paroi; une structure s'étendant vers le haut à partir de la surface externe de la protection contre les projections, la structure étant apte à empêcher des gouttelettes transportées vers le haut à travers l'espace par l'écoulement d'air de se déposer sur un substrat sur le support tournant.
Également publié en tant que
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