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1. (WO2008007952) DÉGAZEUR ET AGENCEMENT DE NETTOYAGE DESTINÉS À UN APPAREIL LITHOGRAPHIQUE ET PROCÉDÉ DE NETTOYAGE DE SURFACE ASSOCIÉ
Dernières données bibliographiques dont dispose le Bureau international   

N° de publication :    WO/2008/007952    N° de la demande internationale :    PCT/NL2007/050318
Date de publication : 17.01.2008 Date de dépôt international : 28.06.2007
CIB :
G03F 7/20 (2006.01), B08B 7/00 (2006.01)
Déposants : ASML NETHERLANDS B.V. [NL/NL]; De Run 6501, NL-5504 DR Veldhoven (NL) (Tous Sauf US).
VAN HERPEN, Maarten, Marinus, Johannes, Wilhelmus [NL/NL]; (NL) (US Seulement).
BANINE, Vadim, Yevgenyevich [NL/NL]; (NL) (US Seulement).
MOORS, Johannes, Hubertus, Josephina [NL/NL]; (NL) (US Seulement).
SOER, Wouter, Anthon [NL/NL]; (NL) (US Seulement)
Inventeurs : VAN HERPEN, Maarten, Marinus, Johannes, Wilhelmus; (NL).
BANINE, Vadim, Yevgenyevich; (NL).
MOORS, Johannes, Hubertus, Josephina; (NL).
SOER, Wouter, Anthon; (NL)
Mandataire : VAN WESTENBRUGGE, Andries; Postbus 29720, NL-2502 LS Den Haag (NL)
Données relatives à la priorité :
11/486,386 14.07.2006 US
Titre (EN) GETTER AND CLEANING ARRANGEMENT FOR A LITHOGRAPHIC APPARATUS
(FR) DÉGAZEUR ET AGENCEMENT DE NETTOYAGE DESTINÉS À UN APPAREIL LITHOGRAPHIQUE ET PROCÉDÉ DE NETTOYAGE DE SURFACE ASSOCIÉ
Abrégé : front page image
(EN)A lithographic apparatus includes a radiation source and an object (301) with a first surface (302) which is configured to retain metal contaminants. This surface has the function of a getter. The first surface is arranged substantially outside the region traversed by the radiation beam generated by the radiation source during lithographic processing. The first surface may further be used to retain volatile contaminants generated in a cleaning method.
(FR)L'invention concerne un appareil lithographique comprenant une source de rayonnement et un objet présentant une première surface conçue pour retenir des contaminants métalliques. Cette surface présente la fonction de dégazeur. La première surface est agencée sensiblement à l'extérieur de la zone traversée par le faisceau de rayonnement généré par la source de rayonnement pendant un traitement lithographique. La première surface peut également être utilisée pour retenir des contaminants volatils générés dans un procédé de nettoyage.
États désignés : AE, AG, AL, AM, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IS, JP, KE, KG, KM, KN, KP, KR, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LT, LU, LY, MA, MD, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PG, PH, PL, PT, RO, RS, RU, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, SV, SY, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW.
Organisation régionale africaine de la propriété intellectuelle (ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LS, MW, MZ, NA, SD, SL, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Office eurasien des brevets (OEAB) (AM, AZ, BY, KG, KZ, MD, RU, TJ, TM)
Office européen des brevets (OEB) (AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MT, NL, PL, PT, RO, SE, SI, SK, TR)
Organisation africaine de la propriété intellectuelle (OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
Langue de publication : anglais (EN)
Langue de dépôt : anglais (EN)