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1. WO2008007782 - PROCÉDÉ DE FABRICATION D'UNE FEUILLE D'ISOLATION À LA LUMIÈRE POLARISÉE CIRCULAIREMENT, ET APPAREIL DE FORMATION DU FILM DE REVÊTEMENT

Numéro de publication WO/2008/007782
Date de publication 17.01.2008
N° de la demande internationale PCT/JP2007/064013
Date du dépôt international 13.07.2007
CIB
G02B 5/30 2006.01
GPHYSIQUE
02OPTIQUE
BÉLÉMENTS, SYSTÈMES OU APPAREILS OPTIQUES
5Eléments optiques autres que les lentilles
30Eléments polarisants
B05C 9/12 2006.01
BTECHNIQUES INDUSTRIELLES; TRANSPORTS
05PULVÉRISATION OU ATOMISATION EN GÉNÉRAL; APPLICATION DE LIQUIDES OU D'AUTRES MATÉRIAUX FLUIDES AUX SURFACES, EN GÉNÉRAL
CAPPAREILLAGES POUR L'APPLICATION DE LIQUIDES OU D'AUTRES MATÉRIAUX FLUIDES AUX SURFACES, EN GÉNÉRAL
9Appareillages ou installations pour appliquer des liquides ou d'autres matériaux fluides aux surfaces par des moyens non prévus dans l'un des groupes B05C1/-B05C7/202
08pour appliquer un liquide ou autre matériau fluide et exécuter une opération auxiliaire
12l'opération auxiliaire étant exécutée après l'application
B05C 9/14 2006.01
BTECHNIQUES INDUSTRIELLES; TRANSPORTS
05PULVÉRISATION OU ATOMISATION EN GÉNÉRAL; APPLICATION DE LIQUIDES OU D'AUTRES MATÉRIAUX FLUIDES AUX SURFACES, EN GÉNÉRAL
CAPPAREILLAGES POUR L'APPLICATION DE LIQUIDES OU D'AUTRES MATÉRIAUX FLUIDES AUX SURFACES, EN GÉNÉRAL
9Appareillages ou installations pour appliquer des liquides ou d'autres matériaux fluides aux surfaces par des moyens non prévus dans l'un des groupes B05C1/-B05C7/202
08pour appliquer un liquide ou autre matériau fluide et exécuter une opération auxiliaire
14l'opération auxiliaire nécessitant un chauffage
B05D 3/06 2006.01
BTECHNIQUES INDUSTRIELLES; TRANSPORTS
05PULVÉRISATION OU ATOMISATION EN GÉNÉRAL; APPLICATION DE LIQUIDES OU D'AUTRES MATÉRIAUX FLUIDES AUX SURFACES, EN GÉNÉRAL
DPROCÉDÉS POUR APPLIQUER DES LIQUIDES OU D'AUTRES MATÉRIAUX FLUIDES AUX SURFACES, EN GÉNÉRAL
3Traitement préalable des surfaces sur lesquelles des liquides ou d'autres matériaux fluides doivent être appliqués; Traitement ultérieur des revêtements appliqués, p.ex. traitement intermédiaire d'un revêtement déjà appliqué, pour préparer les applications ultérieures de liquides ou d'autres matériaux fluides
06par exposition à des rayonnements
G02F 1/1335 2006.01
GPHYSIQUE
02OPTIQUE
FDISPOSITIFS OU SYSTÈMES DONT LE FONCTIONNEMENT OPTIQUE EST MODIFIÉ PAR CHANGEMENT DES PROPRIÉTÉS OPTIQUES DU MILIEU CONSTITUANT CES DISPOSITIFS OU SYSTÈMES ET DESTINÉS À LA COMMANDE DE L'INTENSITÉ, DE LA COULEUR, DE LA PHASE, DE LA POLARISATION OU DE LA DIRECTION DE LA LUMIÈRE, p.ex. COMMUTATION, OUVERTURE DE PORTE, MODULATION OU DÉMODULATION; TECHNIQUES NÉCESSAIRES AU FONCTIONNEMENT DE CES DISPOSITIFS OU SYSTÈMES; CHANGEMENT DE FRÉQUENCE; OPTIQUE NON LINÉAIRE; ÉLÉMENTS OPTIQUES LOGIQUES; CONVERTISSEURS OPTIQUES ANALOGIQUES/NUMÉRIQUES
1Dispositifs ou systèmes pour la commande de l'intensité, de la couleur, de la phase, de la polarisation ou de la direction de la lumière arrivant d'une source lumineuse indépendante, p.ex. commutation, ouverture de porte ou modulation; Optique non linéaire
01pour la commande de l'intensité, de la phase, de la polarisation ou de la couleur
13basés sur des cristaux liquides, p.ex. cellules d'affichage individuelles à cristaux liquides
133Dispositions relatives à la structure; Excitation de cellules à cristaux liquides; Dispositions relatives aux circuits
1333Dispositions relatives à la structure
1335Association structurelle de cellules avec des dispositifs optiques, p.ex. des polariseurs ou des réflecteurs
CPC
G02B 5/3016
GPHYSICS
02OPTICS
BOPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS, OR APPARATUS
5Optical elements other than lenses
30Polarising elements
3016involving passive liquid crystal elements
G02B 5/3033
GPHYSICS
02OPTICS
BOPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS, OR APPARATUS
5Optical elements other than lenses
30Polarising elements
3025Polarisers, i.e. arrangements capable of producing a definite output polarisation state from an unpolarised input state
3033in the form of a thin sheet or foil, e.g. Polaroid
Déposants
  • 日本ゼオン株式会社 ZEON CORPORATION [JP]/[JP] (AllExceptUS)
  • 株式会社フューチャービジョン FUTURE VISION INC. [JP]/[JP] (AllExceptUS)
  • 菅野 寛 KANNO, Hiroshi [JP]/[JP] (UsOnly)
  • 羽根田 努 HANEDA, Tsutomu [JP]/[JP] (UsOnly)
  • 高井 広和 TAKAI, Hirokazu [JP]/[JP] (UsOnly)
  • 五十嵐 寛雄 IGARASHI, Hiroo [JP]/[JP] (UsOnly)
  • 齊藤 昌和 SAITO, Masakazu [JP]/[JP] (UsOnly)
Inventeurs
  • 菅野 寛 KANNO, Hiroshi
  • 羽根田 努 HANEDA, Tsutomu
  • 高井 広和 TAKAI, Hirokazu
  • 五十嵐 寛雄 IGARASHI, Hiroo
  • 齊藤 昌和 SAITO, Masakazu
Mandataires
  • 酒井 宏明 SAKAI, Hiroaki
Données relatives à la priorité
2006-19280413.07.2006JP
Langue de publication japonais (JA)
Langue de dépôt japonais (JA)
États désignés
Titre
(EN) METHOD FOR PRODUCING CIRCULARLY POLARIZED LIGHT ISOLATION SHEET, AND APPARATUS FOR COATING FILM FORMATION
(FR) PROCÉDÉ DE FABRICATION D'UNE FEUILLE D'ISOLATION À LA LUMIÈRE POLARISÉE CIRCULAIREMENT, ET APPAREIL DE FORMATION DU FILM DE REVÊTEMENT
(JA) 円偏光分離シートの製造方法および塗膜形成装置
Abrégé
(EN)
This invention provides a method for producing a circularly polarized light isolation sheet, which can simply produce a circularly polarized light isolation sheet capable of realizing selective reflection in the whole visible light region, and an apparatus for coating film formation. The method for producing a circularly polarized light isolation sheet comprises the steps of providing a coating film of a liquid crystal compound-containing photopolymerizable composition onto a base material, and forming the above coating film in a resin layer having cholesteric regularity. The resin layer formation step is characterized by comprising (1) a selective ultraviolet light irradiation step of applying selective ultraviolet light to the coating film at an illuminance of less than 10 mW/cm2 at a temperature of 20 to 40°C for 0.1 to 6 sec, (2) a cholesteric regularity regulation step of varying the cycle of the cholesteric regularity of the coating film, and (3) a coating film curing step of curing the coating film to form a resin layer having cholesteric regularity, the selective ultraviolet irradiation step (1) and the cholesteric regularity regulation step (2) being repeated a plurality of times.
(FR)
La présente invention concerne un procédé de fabrication d'une feuille d'isolation à la lumière polarisée circulairement, qui permet de produire simplement une feuille d'isolation à la lumière polarisée circulairement capable de réaliser une réflexion sélective dans l'ensemble de la zone de lumière visible, et un appareil de formation du film de revêtement. Le procédé de fabrication d'une feuille d'isolation à la lumière polarisée circulairement comprend les étapes consistant à fournir un film de revêtement d'une composition photopolymérisable contenant un composé de cristal liquide sur un matériau de base, et à former le film de revêtement ci-dessus dans une couche de résine ayant une régularité cholestérique. L'étape consistant à former la couche de résine est caractérisée en ce qu'elle comprend (1) une étape de rayonnement à la lumière ultraviolette sélective consistant à appliquer une lumière ultraviolette sélective sur le film de revêtement à un éclairement de moins de 10 mW/cm2 à une température de 20 à 40 °C pendant 0,1 à 6 secondes, (2) une étape de régulation de régularité cholestérique consistant à modifier le cycle de la régularité cholestérique du film de revêtement, et (3) une étape de durcissement du film de revêtement consistant à durcir le film de revêtement pour former une couche de résine ayant une régularité cholestérique, l'étape de rayonnement aux ultraviolets sélectif (1) et l'étape de régulation de régularité cholestérique (2) étant répétées une pluralité de fois.
(JA)
 可視光全域で選択反射する円偏光分離シートを簡易に得る円偏光分離シートの製造方法と塗膜形成装置を提供する。液晶化合物を含む光重合性組成物の塗膜を基材上得る工程と、前記塗膜をコレステリック規則性を有する樹脂層に形成する工程とを有する円偏光分離シートの製造方法において、前記樹脂層形成工程が、前記塗膜に、20~40°Cの温度下で、10mW/cm未満の照度の選択紫外線を0.1~6秒間照射する選択紫外線照射工程(1)と、前記塗膜のコレステリック規則性の周期を変化させるコレステリック規則性調整工程(2)と、前記塗膜を硬化させてコレステリック規則性を有する樹脂層を形成する塗膜硬化工程(3)とを有し、前記選択紫外線照射工程(1)およびコレステリック規則性調整工程(2)を複数回繰り返すことを特徴とする。
Également publié en tant que
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