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1. (WO2008007676) substrat de verre sans alcalin, son processus de fabrication et panneaux d'affichage à cristaux liquides
Dernières données bibliographiques dont dispose le Bureau international   

N° de publication :    WO/2008/007676    N° de la demande internationale :    PCT/JP2007/063758
Date de publication : 17.01.2008 Date de dépôt international : 10.07.2007
CIB :
C03C 3/091 (2006.01), C03B 18/18 (2006.01), G02F 1/1333 (2006.01)
Déposants : ASAHI GLASS COMPANY, LIMITED [JP/JP]; 12-1, Yurakucho 1-chome, Chiyoda-ku, Tokyo 1008405 (JP) (Tous Sauf US).
MAEHARA, Terutaka [JP/JP]; (JP) (US Seulement).
NISHIZAWA, Manabu [JP/JP]; (JP) (US Seulement).
KASE, Junichiro [JP/JP]; (JP) (US Seulement).
MATSUMOTO, Syuji [JP/JP]; (JP) (US Seulement)
Inventeurs : MAEHARA, Terutaka; (JP).
NISHIZAWA, Manabu; (JP).
KASE, Junichiro; (JP).
MATSUMOTO, Syuji; (JP)
Mandataire : SENMYO, Kenji; 4th Floor, SIA Kanda Square, 17, Kanda-konyacho, Chiyoda-ku, Tokyo 1010035 (JP)
Données relatives à la priorité :
2006-193278 13.07.2006 JP
2006-301674 07.11.2006 JP
2006-356287 28.12.2006 JP
Titre (EN) ALKALI-FREE GLASS SUBSTRATE, PROCESS FOR PRODUCTION OF THE SAME AND LIQUID CRYSTAL DISPLAY PANELS
(FR) substrat de verre sans alcalin, son processus de fabrication et panneaux d'affichage à cristaux liquides
(JA) 無アルカリガラス基板及びその製造方法並びに液晶ディスプレイパネル
Abrégé : front page image
(EN)An alkali-free glass substrate which exhibits a high Young's modulus, a low coefficient of linear expansion, a high strain point, a low density, and a low viscosity and which is freed from the devitrification in float forming and is excellent in acid resistance. An alkali-free glass substrate which is substantially free from alkalis and BaO and comprises by mole SiO2: 57.0 to 65.0%, Al2O3: 10.0 to 12.0%, B2O3: 6.0 to 9.0%, MgO: 5.0 to 10.0%, CaO: 5.0 to 10.0%, and SrO: 2.5 to 5.5% based on the oxides and which satisfies the relationships: MgO + CaO + SrO = 16.0 to 19.0%, MgO/(MgO + CaO + SrO) ≥ 0.40, and B2O3/(SiO2 + Al2O3 + B2O3) ≤ 0.12 and exhibits a Young's modulus of 75GPa or above, a coefficient of linear expansion at 50 to 350°C of 30 x 10-7 to 40 x 10-7/°C, a strain point of 640°C or above, T2 (at which viscosity (η) satisfies the relationship: log η = 2) of 1620°C or below, T4 (at which viscosity (η) satisfies the relationship: log η = 4) of 1245°C or below, a devitrification temperature equal to or lower than T4, and a mass loss per unit area after the immersion in 0.1N HCl at 90°C for 20 hours of 0.6mg/cm2 or below.
(FR)L'invention concerne un substrat de verre sans alcalin qui présente un module de Young élevé, un faible coefficient d'expansion linéaire, un point de trempe élevé, une faible densité, et une faible viscosité, sans dévitrification dans la formation de float et avec une excellente résistance à l'acide. Le substrat de verre sans alcalin est sensiblement exempt d'alcalins et de BaO et comprend, en moles, SiO2 : 57,0 à 65,0 %, Al2O3: 10,0 à 12,0 %, B2O3: 6,0 à 9,0 %, MgO: 5,0 à 10,0 %, CaO: 5,0 à 10,0 %, et SrO: 2,5 à 5,5 % sur la base des oxydes et satisfait aux relations : MgO + CaO + SrO = 16,0 à 19,0 %, MgO/(MgO + CaO + SrO) ≥ 0,40, et B2O3/(SiO2 + Al2O3 + B2O3) ≤ 0,12 et présente un module de Young supérieur ou égal à 75 GPa, un coefficient d'expansion linéaire à 50 - 350°C de 30 x 10-7 à 40 x 10-7/°C, un point de trempe supérieur ou égal à 640°C, T2 (à laquelle la viscosité (η) satisfait à la relation : log η = 2) inférieur ou égal à 1620°C, T4 (à laquelle la viscosité (η) satisfait à la relation : log η = 4) inférieur ou égal à 1245°C, une température de dévitrification inférieure ou égale à T4, et une perte massique par surface unitaire après immersion dans 0,1N HCl à 90°C pendant 20 heures inférieure ou égale à 0,6 mg/cm2.
(JA) ヤング率が高く、線膨張係数が低く、歪点が高く、密度が低く、粘度が低く、フロート成形で失透せず、耐酸性に優れた無アルカリガラス基板の提供。  下記酸化物基準のモル%表示で、実質的に、アルカリ成分及びBaOを含まず、各成分の含有率が、SiO2:57.0~65.0%、Al23:10.0~12.0%、B23:6.0~9.0%、MgO:5.0~10.0%、CaO:5.0~10.0%、SrO:2.5~5.5%であり、かつ、MgO+CaO+SrO:16.0~19.0%、MgO/(MgO+CaO+SrO)≧0.40、B23/(SiO2+Al23+B23)≦0.12であって、ヤング率≧75GPa、50~350°Cの線膨張係数:30×10-7~40×10-7/°C、歪点≧640°C、粘度ηがlogη=2を満たす温度であるT2≦1620°C、粘度ηがlogη=4を満たす温度であるT4≦1245°C、失透温度≦T4、90°C、0.1NのHCl中に20時間浸漬後の単位面積当たりの質量減少量が0.6mg/cm2以下である無アルカリガラス基板。
États désignés : AE, AG, AL, AM, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IS, JP, KE, KG, KM, KN, KP, KR, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LT, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PG, PH, PL, PT, RO, RS, RU, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, SV, SY, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW.
Organisation régionale africaine de la propriété intellectuelle (ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LS, MW, MZ, NA, SD, SL, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Office eurasien des brevets (OEAB) (AM, AZ, BY, KG, KZ, MD, RU, TJ, TM)
Office européen des brevets (OEB) (AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MT, NL, PL, PT, RO, SE, SI, SK, TR)
Organisation africaine de la propriété intellectuelle (OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
Langue de publication : japonais (JA)
Langue de dépôt : japonais (JA)