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1. (WO2008007441) procédé de fabrication d'un écran plasma à l'aide d'un substrat en résine
Dernières données bibliographiques dont dispose le Bureau international   

N° de publication :    WO/2008/007441    N° de la demande internationale :    PCT/JP2006/314091
Date de publication : 17.01.2008 Date de dépôt international : 14.07.2006
CIB :
H01J 9/02 (2006.01), H01J 9/227 (2006.01)
Déposants : HITACHI PLASMA DISPLAY LIMITED [JP/JP]; 1815-1, Oaza Tajiri Kunitomi-cho, Higashimorokata-gun Miyazaki 880-1194 (JP) (Tous Sauf US).
KANAE, Tatsutoshi [JP/JP]; (JP) (US Seulement).
SASAKI, Takashi [JP/JP]; (JP) (US Seulement).
YAMANAKA, Hiroshi [JP/JP]; (JP) (US Seulement).
SHIMOYOSHI, Akira [JP/JP]; (JP) (US Seulement).
FUJIMOTO, Akihiro [JP/JP]; (JP) (US Seulement)
Inventeurs : KANAE, Tatsutoshi; (JP).
SASAKI, Takashi; (JP).
YAMANAKA, Hiroshi; (JP).
SHIMOYOSHI, Akira; (JP).
FUJIMOTO, Akihiro; (JP)
Mandataire : DOI, Kenji; Hayashi, Doi & Associates, 3rd Floor, Toshou-Bldg. No.3, 3-9-5, Shin-yokohama, Kohoku-ku, Yokohama-shi, Kanagawa 2220033 (JP)
Données relatives à la priorité :
Titre (EN) METHOD FOR MANUFACTURING PLASMA DISPLAY PANEL USING RESIN SUBSTRATE
(FR) procédé de fabrication d'un écran plasma à l'aide d'un substrat en résine
(JA) 樹脂基板を使用したプラズマディスプレイパネルの製造方法
Abrégé : front page image
(EN)A front plate (10) on which display electrodes (12, 13), a dielectric layer and a protective layer are formed, and a back plate (20) on which an address electrode (24), a partition wall (23) and a phosphor (28) are formed, are respectively composed of a heat-resistant resin substrate. An ultraviolet absorbing layer or an ultraviolet reflecting layer is formed on the front plate and the back plate for preventing a discharge of an impurity gas from the heat-resistant resin substrate due to irradiation of ultraviolet light generated with the plasma discharges. The protective layer formed on the front plate may have an ultraviolet absorbing function or an ultraviolet reflecting function.
(FR)La présente invention concerne une plaque avant (10) sur laquelle des électrodes d'affichage (12, 13), une couche diélectrique et une couche protectrice sont formées, et une plaque arrière (20) sur laquelle une électrode d'adressage (24), une paroi de séparation (23) et un luminophore (28) sont formés ; lesdites plaques sont respectivement composées d'un substrat en résine résistant à la chaleur. Une couche absorbant les ultraviolets ou une couche réfléchissant les ultraviolets est formée sur la plaque avant et la plaque arrière pour éviter une décharge d'un gaz d'impuretés en provenance du substrat en résine résistant à la chaleur en raison d'un rayonnement d'une lumière ultraviolette générée avec les décharges de plasma. La couche protectrice formée sur la plaque avant peut avoir une fonction d'absorption ou de réflexion des ultraviolets.
(JA)figure
États désignés : AE, AG, AL, AM, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IS, JP, KE, KG, KM, KN, KP, KR, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LT, LU, LV, LY, MA, MD, MG, MK, MN, MW, MX, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PG, PH, PL, PT, RO, RS, RU, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, SY, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW.
Organisation régionale africaine de la propriété intellectuelle (ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LS, MW, MZ, NA, SD, SL, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Office eurasien des brevets (OEAB) (AM, AZ, BY, KG, KZ, MD, RU, TJ, TM)
Office européen des brevets (OEB) (AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, NL, PL, PT, RO, SE, SI, SK, TR)
Organisation africaine de la propriété intellectuelle (OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
Langue de publication : japonais (JA)
Langue de dépôt : japonais (JA)