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1. (WO2008006856) PROCÉDÉ ET DISPOSITIF DE SÉPARATION CHIMIQUE EN PHASE GAZEUSE ASSISTÉE PAR PLASMA SUR LA PAROI INTÉRIEURE D'UN CORPS CREUX
Dernières données bibliographiques dont dispose le Bureau international   

N° de publication :    WO/2008/006856    N° de la demande internationale :    PCT/EP2007/057117
Date de publication : 17.01.2008 Date de dépôt international : 11.07.2007
CIB :
C23C 16/04 (2006.01)
Déposants : STEIN, Ralf [DE/DE]; (DE) (Tous Sauf US).
NÖLL, Oliver [DE/DE]; (DE) (US Seulement)
Inventeurs : NÖLL, Oliver; (DE)
Mandataire : MICHALSKI, Stefan; Michalski Hüttermann Patentanwälte GBR, Zusammenschluss-Nr. 289, Neuer Zollhof 2, 40221 Düsseldorf (DE)
Données relatives à la priorité :
10 2006 032 568.0 12.07.2006 DE
Titre (DE) VERFAHREN UND VORRICHTUNG ZUR PLASMAGESTÜTZTEN CHEMISCHEN GASPHASENABSCHEIDUNG AN DER INNENWAND EINES HOHLKÖRPERS
(EN) METHOD AND DEVICE FOR PLASMA-ASSISTED CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION ON THE INNER WALL OF A HOLLOW BODY
(FR) PROCÉDÉ ET DISPOSITIF DE SÉPARATION CHIMIQUE EN PHASE GAZEUSE ASSISTÉE PAR PLASMA SUR LA PAROI INTÉRIEURE D'UN CORPS CREUX
Abrégé : front page image
(DE)Gegenstand der Erfindung ist ein Verfahren zur plasmagestützten chemischen Gasphasenabscheidung zur Beschichtung bzw. Materialabtragung an der Innenwand eines Hohlkörpers (42). Dabei wird eine Gaslanze (44) in den Hohlkörper (42) eingeführt und ein Hohlraumplasma (45) unter Ausbildung einer an der Spitze der Gaslanze angeordneten Plasmawolke durch Anlegen eines elektrischen Hochfrequenzfeldes an einer HF-Elektrode (41) ausgebildet.
(EN)The invention relates to a method for plasma-assisted chemical vapour deposition for coating, or removing material from, the inner wall of a hollow body (42). A gas lance (44) is introduced into the hollow body (42), and a cavity plasma (45) is formed by applying an electrical high-frequency field to a high-frequency electrode (41), forming a plasma cloud arranged on the tip of the gas lance.
(FR)La présente invention concerne un procédé de séparation chimique en phase gazeuse assistée par plasma permettant le revêtement ou l'enlèvement de matière sur la paroi intérieure d'un corps creux (42). Selon l'invention, une lance à gaz (44) est introduite dans le corps creux (42) et un plasma de corps creux (45) est formé par application d'un champ électrique haute fréquence à une électrode HF (41), par formation d'un nuage de plasma au niveau de la pointe de la lance à gaz.
États désignés : AE, AG, AL, AM, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CN, CO, CR, CU, CZ, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IS, JP, KE, KG, KM, KN, KP, KR, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LT, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PG, PH, PL, PT, RO, RS, RU, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, SV, SY, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW.
Organisation régionale africaine de la propriété intellectuelle (ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LS, MW, MZ, NA, SD, SL, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Office eurasien des brevets (OEAB) (AM, AZ, BY, KG, KZ, MD, RU, TJ, TM)
Office européen des brevets (OEB) (AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MT, NL, PL, PT, RO, SE, SI, SK, TR)
Organisation africaine de la propriété intellectuelle (OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
Langue de publication : allemand (DE)
Langue de dépôt : allemand (DE)