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1. (WO2008005894) ALIGNEMENT AU NIVEAU D'UNE TRANCHE D'ÉLÉMENTS OPTIQUES
Dernières données bibliographiques dont dispose le Bureau international   

N° de publication :    WO/2008/005894    N° de la demande internationale :    PCT/US2007/072582
Date de publication : 10.01.2008 Date de dépôt international : 29.06.2007
CIB :
G02B 6/12 (2006.01), G02B 6/26 (2006.01), G02B 6/30 (2006.01), G02B 6/42 (2006.01)
Déposants : APPLIED MATERIALS, INC. [US/US]; P.O. Box 450A, Santa Clara, California 95052 (US) (Tous Sauf US).
GOEBEL, Andreas [DE/US]; (US) (US Seulement).
WEST, Lawrence, C. [US/US]; (US) (US Seulement).
WOJCIK, Gregory, L. [US/US]; (US) (US Seulement)
Inventeurs : GOEBEL, Andreas; (US).
WEST, Lawrence, C.; (US).
WOJCIK, Gregory, L.; (US)
Mandataire : BOUCHER, Patrick; Townsend and Townsend and Crew LLP, 1200 17th Street, Suite 2700, Denver, Colorado 80202, (US)
Données relatives à la priorité :
60/806,339 30.06.2006 US
Titre (EN) WAFER-LEVEL ALIGNMENT OF OPTICAL ELEMENTS
(FR) ALIGNEMENT AU NIVEAU D'UNE TRANCHE D'ÉLÉMENTS OPTIQUES
Abrégé : front page image
(EN)Methods are disclosed of fabricating an optical assembly An active optical element is disposed near or on a first surface of a slab of optical material (104) A passive optical element is formed on a second surface of the slab, with the second surface being substantially parallel to the first surface (108) An optical axis of the passive optical element is aligned with an optical path between the passive optical element and an active region of the active optical element using a lithographic alignment process (112).
(FR)La présente invention concerne des procédés de fabrication d'un ensemble optique. Un élément optique actif est disposé près ou sur une première surface d'un bloc de matériau optique. Un élément optique passif est formé sur une seconde surface du bloc, avec la seconde surface pratiquement parallèle à la première surface. Un axe optique de l'élément optique passif est aligné sur un trajet optique entre l'élément optique passif et une région active de l'élément optique actif utilisant un processus d'alignement lithographique.
États désignés : AE, AG, AL, AM, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IS, JP, KE, KG, KM, KN, KP, KR, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LT, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PG, PH, PL, PT, RO, RS, RU, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, SV, SY, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW.
Organisation régionale africaine de la propriété intellectuelle (ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LS, MW, MZ, NA, SD, SL, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Office eurasien des brevets (OEAB) (AM, AZ, BY, KG, KZ, MD, RU, TJ, TM)
Office européen des brevets (OEB) (AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MT, NL, PL, PT, RO, SE, SI, SK, TR)
Organisation africaine de la propriété intellectuelle (OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
Langue de publication : anglais (EN)
Langue de dépôt : anglais (EN)