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1. (WO2008005448) masquage à l'échelle nanomÉTRIQUE et impression à l'aide de substrats mis en motifs
Dernières données bibliographiques dont dispose le Bureau international   

N° de publication :    WO/2008/005448    N° de la demande internationale :    PCT/US2007/015379
Date de publication : 10.01.2008 Date de dépôt international : 03.07.2007
CIB :
G01N 33/543 (2006.01), G01N 33/551 (2006.01), G01N 33/553 (2006.01), G01N 33/53 (2006.01), C12M 1/00 (2006.01), C12M 1/34 (2006.01), C12M 3/00 (2006.01)
Déposants : ARRYX, INC. [US/US]; 316 North Michigan Avenue Suite CL20 Chicago, IL 60602 (US) (Tous Sauf US).
KNUTSON, Christopher [US/US]; (US) (US Seulement)
Inventeurs : KNUTSON, Christopher; (US)
Mandataire : EDWARDS, Jean, C.; Akerman Senterfitt, 801 Pennsylvania Avenue, NW Suite 600, Washington, DC 20004 (US)
Données relatives à la priorité :
60/817,699 03.07.2006 US
Titre (EN) NANOSCALE MASKING AND PRINTING USING PATTERNED SUBSTRATES
(FR) masquage à l'échelle nanomÉTRIQUE et impression à l'aide de substrats mis en motifs
Abrégé : front page image
(EN)Nanoscale masking using particles patterned on a substrate include assembling particles into a pattern on a first substrate; contacting the particles with a second substrate; adding blocking molecules while the particles are in contact, such that blocking molecules bind to portions of the second substrate not in contact with the particles; and separating the substrates, yielding a functionalized substrate having blocking molecules bound thereto. Nanoscale printing methods include assembling particles into a desired pattern on a first substrate; contacting a print material with the particles such that at least a portion of the print material binds to the particles on the first substrate; removing the first substrate having particles thereon from unbound print material; contacting the particles having print material bound thereto with a second substrate such that at least a portion of the print material binds to the second substrate; and separating the substrates, yielding a printed substrate.
(FR)L'invention concerne un masquage à l'échelle nanométrique à l'aide de particules mises en motifs sur un substrat consistant à assembler des particules dans un motif sur un premier substrat ; à mettre en contact les particules avec un second substrat ; à ajouter des molécules blocantes tandis que les particules sont en contact, de telle sorte que les molécules blocantes se lient aux parties du second substrat qui ne sont pas au contact des particules ; et à séparer les substrats, à produire un substrat fonctionnalisé possédant des molécules blocantes collées à celui-ci. Des procédés d'impression à l'échelle nanométrique consistent à assembler des particules dans un motif souhaité sur un premier substrat ; à mettre en contact un matériau d'impression avec les particules de telle sorte qu'au moins une partie du matériau d'impression se colle aux particules sur le premier substrat ; à extraire le premier substrat présentant des particules sur celui-ci à partir du matériau d'impression non collé ; à mettre en contact les particules présentant un matériau d'impression collé sur celles-ci avec un second substrat de telle sorte qu'au moins une partie du matériau d'impression se colle au second substrat ; et à séparer les substrats, pour laisser un substrat imprimé.
États désignés : AE, AG, AL, AM, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IS, JP, KE, KG, KM, KN, KP, KR, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LT, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PG, PH, PL, PT, RO, RS, RU, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, SV, SY, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW.
Organisation régionale africaine de la propriété intellectuelle (ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LS, MW, MZ, NA, SD, SL, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Office eurasien des brevets (OEAB) (AM, AZ, BY, KG, KZ, MD, RU, TJ, TM)
Office européen des brevets (OEB) (AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MT, NL, PL, PT, RO, SE, SI, SK, TR)
Organisation africaine de la propriété intellectuelle (OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
Langue de publication : anglais (EN)
Langue de dépôt : anglais (EN)