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1. (WO2008005327) NANOSTRUCTURES ET MATÉRIAUX POUR DES DISPOSITIFS PHOTOVOLTAÏQUES
Dernières données bibliographiques dont dispose le Bureau international   

N° de publication :    WO/2008/005327    N° de la demande internationale :    PCT/US2007/015115
Date de publication : 10.01.2008 Date de dépôt international : 27.06.2007
CIB :
H01L 23/28 (2006.01), H01L 23/29 (2006.01), H01L 23/31 (2006.01)
Déposants : LIQUIDIA TECHNOLOGIES, INC. [US/US]; P.O. Box 110085, Research Triangle Park, NC 27709 (US) (Tous Sauf US).
ROTHROCK, Ginger, D. [US/US]; (US) (US Seulement).
ROLLAND, Jason, P. [US/US]; (US) (US Seulement).
DESIMONE, Joseph, M. [US/US]; (US) (US Seulement)
Inventeurs : ROTHROCK, Ginger, D.; (US).
ROLLAND, Jason, P.; (US).
DESIMONE, Joseph, M.; (US)
Mandataire : DAVIS, Kenneth, J.; Morgan Lewis & Bockius, LLP, 1701 Market Street, Philadelphia, PA 19103-2921 (US)
Données relatives à la priorité :
60/817,231 27.06.2006 US
Titre (EN) NANOSTRUCTURES AND MATERIALS FOR PHOTOVOLTAIC DEVICES
(FR) NANOSTRUCTURES ET MATÉRIAUX POUR DES DISPOSITIFS PHOTOVOLTAÏQUES
Abrégé : front page image
(EN)A photovoltaic device includes an encapsulation layer fabricated from an elastomeric material, such as for example a perfluoropolyether having favorable optical properties, gas permeable, scratch resistant, conformal liquid material. The encapsulation layer can also include a structured surface for manipulating and trapping light incident on the photovoltaic device.
(FR)L'invention concerne un dispositif photovoltaïque qui inclut une couche d'encapsulation produite à partir d'une matière élastomère, telle que par exemple un perfluoropolyéther ayant de bonnes propriétés optiques, perméable aux gaz, résistant aux éraflures, conforme à une matière liquide. La couche d'encapsulation peut également inclure une surface structurée pour manipuler et piéger la lumière incidente sur le dispositif photovoltaïque.
États désignés : AE, AG, AL, AM, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IS, JP, KE, KG, KM, KN, KP, KR, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LT, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PG, PH, PL, PT, RO, RS, RU, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, SV, SY, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW.
Organisation régionale africaine de la propriété intellectuelle (ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LS, MW, MZ, NA, SD, SL, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Office eurasien des brevets (OEAB) (AM, AZ, BY, KG, KZ, MD, RU, TJ, TM)
Office européen des brevets (OEB) (AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MT, NL, PL, PT, RO, SE, SI, SK, TR)
Organisation africaine de la propriété intellectuelle (OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
Langue de publication : anglais (EN)
Langue de dépôt : anglais (EN)