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1. (WO2008005173) RÉSINE PHOTOPOLYMÉRISABLE ET PHOTOCLIVABLE ET COMPOSITIONS PERMETTANT D'OBTENIR DES COMPOSITES À FAIBLE CONTRAINTE
Dernières données bibliographiques dont dispose le Bureau international   

N° de publication :    WO/2008/005173    N° de la demande internationale :    PCT/US2007/014158
Date de publication : 10.01.2008 Date de dépôt international : 14.06.2007
CIB :
C08F 2/48 (2006.01), C08F 8/50 (2006.01), A61K 6/08 (2006.01), C08F 20/00 (2006.01), C08G 18/00 (2006.01)
Déposants : DENTSPLY INTERNATIONAL INC. [US/US]; 570 West College Avenue, P.O.box 872, York, PA 17405-0872 (US) (Tous Sauf US).
JIN, Xiaoming [CN/US]; (US) (US Seulement).
HAMMESFAHR, Paul, D. [US/US]; (US) (US Seulement)
Inventeurs : JIN, Xiaoming; (US).
HAMMESFAHR, Paul, D.; (US)
Mandataire : HURA, Douglas, J.; Dentsply International Inc., 570 West College Avenue, P.O.Box 872, York, PA 17405-0872 (US)
Données relatives à la priorité :
60/814,594 16.06.2006 US
Titre (EN) PHOTOPOLYMERIZABLE AND PHOTOCLEAVABLE RESIN AND LOW STRESS COMPOSITE COMPOSITIONS
(FR) RÉSINE PHOTOPOLYMÉRISABLE ET PHOTOCLIVABLE ET COMPOSITIONS PERMETTANT D'OBTENIR DES COMPOSITES À FAIBLE CONTRAINTE
Abrégé : front page image
(EN)This invention relates to photopolymerizable & photocleavable resin monomers and resin composite compositions, which feature by its unique balanced overall performance including very low polymerization shrinkage and very low shrinkage stress as well. The photoreactive moiety incorporated into such new resin's main frame enable to make the resin and/or the cured resin networks that are based upon such resin photocleavable. Thus the polymerization rate of free radical reaction for (meth)acrylate-based resin systems should be substantially reduced since it alter the network formation process and consequently allow the shrinkage stress getting relief significantly. In addition, it is expected that radically polymerizable resin systems containing such P&P resin would find wide range application in microelectronic, special coating and restorative dentistry where the dimensional stability and contraction stress within cured materials are critical to the total performance.
(FR)La présente invention concerne des monomères de résine photopolymérisable et photoclivable et des compositions permettant d'obtenir des composites à base de résine, qui sont caractérisés par une performance globale unique et équilibrée, et notamment par un très faible retrait de polymérisation et une très faible contrainte de retrait. La fraction photoréactive incorporée dans la structure principale d'une telle résine permet de fabriquer une résine et/ou des réseaux de résine durcis à partir d'une telle résine photoclivable. Ainsi, l'invention permet de réduire sensiblement la vitesse de polymérisation de la réaction radicalaire pour des systèmes de résines à base de (méth)acrylate, étant donné qu'elle modifie le processus de formation de réseaux et permet par conséquent de réduire sensiblement la contrainte de retrait. En outre, les systèmes de résine polymérisable contenant une telle résine photopolymérisable et photoclivable peuvent être appliqués dans des domaines aussi divers que la micro-électronique, les revêtements spéciaux et la médecine dentaire restauratrice, des domaines dans lesquels la stabilité dimensionnelle et la contrainte de contraction dans des matériaux durcis sont déterminants pour la performance globale.
États désignés : AE, AG, AL, AM, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IS, JP, KE, KG, KM, KN, KP, KR, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LT, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PG, PH, PL, PT, RO, RS, RU, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, SV, SY, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW.
Organisation régionale africaine de la propriété intellectuelle (ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LS, MW, MZ, NA, SD, SL, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Office eurasien des brevets (OEAB) (AM, AZ, BY, KG, KZ, MD, RU, TJ, TM)
Office européen des brevets (OEB) (AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MT, NL, PL, PT, RO, SE, SI, SK, TR)
Organisation africaine de la propriété intellectuelle (OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
Langue de publication : anglais (EN)
Langue de dépôt : anglais (EN)