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1. (WO2008004594) PLATEAU DE SUBSTRAT ET APPAREIL DE FORMATION DE FILM
Dernières données bibliographiques dont dispose le Bureau international   

N° de publication :    WO/2008/004594    N° de la demande internationale :    PCT/JP2007/063391
Date de publication : 10.01.2008 Date de dépôt international : 04.07.2007
CIB :
C23C 14/50 (2006.01), C23C 14/04 (2006.01)
Déposants : CANON ANELVA CORPORATION [JP/JP]; 2-5-1, Kurigi, Asao-ku, Kawasaki-shi, Kanagawa 2158550 (JP) (Tous Sauf US).
HAGI, Seiji [JP/JP]; (JP) (US Seulement).
HATAYAMA, Seiji [JP/JP]; (JP) (US Seulement).
NISHIO, Kazutoshi [JP/JP]; (JP) (US Seulement)
Inventeurs : HAGI, Seiji; (JP).
HATAYAMA, Seiji; (JP).
NISHIO, Kazutoshi; (JP)
Mandataire : OHTSUKA, Yasunori; 7th Fl., Shuwa Kioicho Park Bldg. 3-6, Kioicho Chiyoda-ku, Tokyo 102-0094 (JP)
Données relatives à la priorité :
2006-188522 07.07.2006 JP
Titre (EN) SUBSTRATE TRAY AND FILM FORMING APPARATUS
(FR) PLATEAU DE SUBSTRAT ET APPAREIL DE FORMATION DE FILM
(JA) 基板トレイ及び成膜装置
Abrégé : front page image
(EN)Provided is a substrate tray arranged to face a thin film material source with a substrate held on the tray. The substrate tray is characterized in having a holding member, which holds the substrate, and has an opening for passing through thin film material particles to be deposited on the substrate from the thin film material source; a first mask, which is arranged between the holding member and the substrate, for making a thin film on the substrate in a prescribed shape, by blocking the thin film material particles passed through the opening from depositing on the substrate; and a second mask, which is arranged between the holding member and the first mask and at least partially covers the first mask to block the thin film material particles from depositing on the first mask.
(FR)L'invention concerne un plateau de substrat disposé pour être tourné vers une source de matière de film mince comportant un substrat maintenu sur le plateau. Le plateau de substrat est caractérisé par le fait qu'il comporte un élément de support qui supporte le substrat et une ouverture à travers laquelle passent des particules de matière de film mince à déposer sur le substrat à partir de la source de matière de film mince ; un premier masque est disposé entre l'élément de support et le substrat pour réaliser un film mince sur le substrat, dans une forme prescrite, en empêchant les particules de matière de film mince qui sont passées à travers l'ouverture de se déposer sur le substrat ; et un second masque est disposé entre l'élément de support et le premier masque et recouvre au moins partiellement le premier masque pour empêcher les particules de matière de film mince de se déposer sur le premier masque.
(JA) 基板を保持して薄膜材料源と対向配置される基板トレイであって、基板を保持し、薄膜材料源から出て基板に堆積される薄膜材料粒子が通過する開口が設けられた保持部材と、保持部材と基板との間に配置され、開口を通過した薄膜材料粒子が基板上に堆積することを遮ることにより基板上の薄膜を所定形状とするための第1マスクと、保持部材と第1マスクとの間に配置され、第1マスクへの薄膜材料粒子の堆積を遮るように、第1マスクの少なくとも一部を覆う第2マスクと、を備えることを特徴としている。
États désignés : AE, AG, AL, AM, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IS, KE, KG, KM, KN, KP, KR, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LT, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PG, PH, PL, PT, RO, RS, RU, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, SV, SY, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW.
Organisation régionale africaine de la propriété intellectuelle (ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LS, MW, MZ, NA, SD, SL, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Office eurasien des brevets (OEAB) (AM, AZ, BY, KG, KZ, MD, RU, TJ, TM)
Office européen des brevets (OEB) (AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MT, NL, PL, PT, RO, SE, SI, SK, TR)
Organisation africaine de la propriété intellectuelle (OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
Langue de publication : japonais (JA)
Langue de dépôt : japonais (JA)