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1. (WO2008004584) PROCÉDÉ DE POST-TRAITEMENT DESTINÉ À UN FILM DE CARBONE AMORPHE
Dernières données bibliographiques dont dispose le Bureau international   

N° de publication :    WO/2008/004584    N° de la demande internationale :    PCT/JP2007/063376
Date de publication : 10.01.2008 Date de dépôt international : 04.07.2007
CIB :
H01L 21/316 (2006.01)
Déposants : TOKYO ELECTRON LIMITED [JP/JP]; 3-6, Akasaka 5-chome, Minato-ku, Tokyo 1078481 (JP) (Tous Sauf US).
ISHIKAWA, Hiraku [JP/JP]; (JP) (US Seulement)
Inventeurs : ISHIKAWA, Hiraku; (JP)
Mandataire : YOSHITAKE, Kenji; Kyowa Patent & Law Office Room 323, Fuji Bldg. 2-3, Marunouchi 3-chome Chiyoda-ku Tokyo 1000005 (JP)
Données relatives à la priorité :
2006-185327 05.07.2006 JP
Titre (EN) AFTERTREATMENT METHOD FOR AMORPHOUS CARBON FILM
(FR) PROCÉDÉ DE POST-TRAITEMENT DESTINÉ À UN FILM DE CARBONE AMORPHE
(JA) アモルファスカーボン膜の後処理方法
Abrégé : front page image
(EN)Provided is a further aftertreatment method to be performed to an amorphous carbon film to which treatment including heating has been performed after a film is formed on a substrate. The treatment for preventing oxidation of the amorphous carbon film is performed immediately after the treatment including heating.
(FR)La présente invention concerne un autre procédé de post-traitement destiné à un film de carbone amorphe qui a subi un traitement, comprenant une étape de chauffage, à la suite de la formation d'un film sur un substrat. Le traitement destiné à empêcher l'oxydation du film de carbone amorphe est effectué juste après le traitement comprenant l'étape de chauffage.
(JA) 本発明は、基板上に成膜された後で、加熱をともなう処理が施されたアモルファスカーボン膜の更なる後処理方法であって、加熱をともなう処理の直後に、アモルファスカーボン膜の酸化を防止する処理が行われることを特徴とするアモルファスカーボン膜の後処理方法である。
États désignés : AE, AG, AL, AM, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IS, KE, KG, KM, KN, KP, KR, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LT, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PG, PH, PL, PT, RO, RS, RU, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, SV, SY, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW.
Organisation régionale africaine de la propriété intellectuelle (ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LS, MW, MZ, NA, SD, SL, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Office eurasien des brevets (OEAB) (AM, AZ, BY, KG, KZ, MD, RU, TJ, TM)
Office européen des brevets (OEB) (AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MT, NL, PL, PT, RO, SE, SI, SK, TR)
Organisation africaine de la propriété intellectuelle (OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
Langue de publication : japonais (JA)
Langue de dépôt : japonais (JA)