WIPO logo
Mobile | Deutsch | English | Español | 日本語 | 한국어 | Português | Русский | 中文 | العربية |
PATENTSCOPE

Recherche dans les collections de brevets nationales et internationales
World Intellectual Property Organization
Recherche
 
Options de navigation
 
Traduction
 
Options
 
Quoi de neuf
 
Connexion
 
Aide
 
Traduction automatique
1. (WO2008004470) PROCÉDÉ DE FABRICATION D'UN SUBSTRAT DE VERRE POUR SUPPORT D'ENREGISTREMENT D'INFORMATIONS
Dernières données bibliographiques dont dispose le Bureau international   

N° de publication :    WO/2008/004470    N° de la demande internationale :    PCT/JP2007/062866
Date de publication : 10.01.2008 Date de dépôt international : 27.06.2007
CIB :
G11B 5/84 (2006.01), B08B 3/08 (2006.01), C03C 19/00 (2006.01), C03C 23/00 (2006.01)
Déposants : Konica Minolta Opto, Inc. [JP/JP]; 2970, Ishikawa-machi, Hachioji-shi, Tokyo 1928505 (JP) (Tous Sauf US).
KAWAI, Hideki [JP/JP]; (JP) (US Seulement).
NAKATSUJI, Yukitoshi [JP/JP]; (JP) (US Seulement).
SAWADA, Hiroaki [JP/JP]; (JP) (US Seulement).
SAEKI, Shinichi [JP/JP]; (JP) (US Seulement)
Inventeurs : KAWAI, Hideki; (JP).
NAKATSUJI, Yukitoshi; (JP).
SAWADA, Hiroaki; (JP).
SAEKI, Shinichi; (JP)
Mandataire : SANO, Shizuo; Tenmabashi-Yachiyo Bldg. Bekkan 2-6, Tenmabashi-Kyomachi, Chuo-Ku Osaka-Shi, Osaka 5400032 (JP)
Données relatives à la priorité :
2006-183087 03.07.2006 JP
Titre (EN) METHOD FOR MANUFACTURING GLASS SUBSTRATE FOR INFORMATION RECORDING MEDIUM
(FR) PROCÉDÉ DE FABRICATION D'UN SUBSTRAT DE VERRE POUR SUPPORT D'ENREGISTREMENT D'INFORMATIONS
(JA) 情報記録媒体用ガラス基板の製造方法
Abrégé : front page image
(EN)In a method for manufacturing a glass substrate for an information recording medium, an abrasive and foreign materials adhered on the glass substrate after a polishing step are surely removed without making a cleaning step complicated. The manufacturing method is characterized in that the surface of the glass substrate is brought into contact with a liquid for 10 minutes or longer prior to a scrub cleaning step after the polishing step. From the viewpoint of surely removing the abrasive and the foreign materials firmly adhered on the glass substrate by scrub cleaning, the glass substrate is preferably immersed in the retained liquid and the surface of the glass substrate is brought into contact with the liquid.
(FR)Au cours du procédé de fabrication d'un substrat de verre pour un support d'enregistrement d'informations, il est possible d'éliminer complètement des matières adhésives et étrangères, ayant fortement adhérées au substrat de verre après une étape de polissage, sans effectuer d'étape de nettoyage compliquée. Ce procédé de fabrication est caractérisé en ce que la surface du substrat de verre est mise en contact avec un liquide pendant 10 minutes au moins avant une étape de désincrustation et après l'étape de polissage. Lorsqu'on procède à une élimination complète, par désincrustation, des matières abrasives et étrangères ayant fortement adhéré au substrat de verre, le substrat de verre est de préférence immergé dans le liquide avec lequel sa surface est mise en contact.
(JA) 研磨工程後のガラス基板に付着した研磨剤や異物を、洗浄工程を複雑化させることなく確実に除去する、情報記録媒体用ガラス基板の製造方法は、研磨工程後スクラブ洗浄工程前に、ガラス基板の表面を液体と10分間以上接触させることを特徴とする。スクラブ洗浄によって、ガラス基板上に強固に付着している研磨剤や異物を確実に除去できるようにする観点から、貯溜された該液体中にガラス基板を浸漬させて、該ガラス基板の表面を該液体に接触させるようにするのが好ましい。
États désignés : AE, AG, AL, AM, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IS, JP, KE, KG, KM, KN, KP, KR, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LT, LU, LY, MA, MD, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PG, PH, PL, PT, RO, RS, RU, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, SV, SY, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW.
Organisation régionale africaine de la propriété intellectuelle (ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LS, MW, MZ, NA, SD, SL, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Office eurasien des brevets (OEAB) (AM, AZ, BY, KG, KZ, MD, RU, TJ, TM)
Office européen des brevets (OEB) (AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MT, NL, PL, PT, RO, SE, SI, SK, TR)
Organisation africaine de la propriété intellectuelle (OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
Langue de publication : japonais (JA)
Langue de dépôt : japonais (JA)