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1. (WO2008002407) recuit de surface dynamique utilisant un réseau DE laserS adressable avec retour de pyrométrie
Dernières données bibliographiques dont dispose le Bureau international   

N° de publication :    WO/2008/002407    N° de la demande internationale :    PCT/US2007/014160
Date de publication : 03.01.2008 Date de dépôt international : 14.06.2007
CIB :
B23K 26/42 (2006.01), B23K 26/04 (2006.01)
Déposants : APPLIED MATERIALS, INC. [US/US]; 3050 Bowers Avenue, Santa Clara, CA 95054 (US)
Inventeurs : THOMAS, Timothy, N.; (US).
JENNINGS, Dean; (US).
ADAMS, Bruce, E.; (US).
MAYUR, Abhilash, J.; (US)
Mandataire : WALLACE, Robert; Law Office Of Robert M. Wallace, 2112 Eastman Avenue, Suite 102, Ventura, CA 93003 (US)
Données relatives à la priorité :
60/817,131 27.06.2006 US
11/469,684 01.09.2006 US
Titre (EN) DYNAMIC SURFACE ANNEALING USING ADDRESSABLE LASER ARRAY WITH PYROMETRY FEEDBACK
(FR) recuit de surface dynamique utilisant un réseau DE laserS adressable avec retour de pyrométrie
Abrégé : front page image
(EN)Apparatus for dynamic surface annealing of a semiconductor wafer includes a source of laser radiation emitting at a laser wavelength and comprising an array of lasers arranged in rows and columns, the optical power of each the laser being individual adjustable and optics for focusing the radiation from the array of lasers into a narrow line beam in a workpiece plane corresponding to a workpiece surface, whereby the optics images respective columns of the laser array onto respective sections of the narrow line beam. A pyrometer sensor is provided that is sensitive to a pyrometer wavelength. An optical element in an optical path of the optics is tuned to divert radiation emanating from the workpiece plane to the pyrometry sensor. As a result, the optics images each of the respective section of the narrow line beam onto a corresponding portion of the pyrometer sensor. The apparatus further includes a controller responsive to the pyrometry sensor and coupled to adjust individual optical outputs of respective columns of the laser array in accordance with outputs of corresponding portions of the pyrometry sensor.
(FR)L'invention concerne un appareil pour recuit de surface dynamique d'une galette semi-conductrice englobant une source de rayonnement laser émettant à une longueur d'onde de laser et comprenant un réseau de lasers disposés en rangées et colonnes, la puissance optique de chacun des lasers étant réglable individuellement, et des circuits optiques permettant de focaliser le rayonnement provenant du réseau de lasers en un faisceau rectiligne étroit dans un plan de pièce d'usinage correspondant à une surface de pièce d'usinage, les circuits optiques imageant des colonnes respectives du réseau de lasers sur des sections respectives du faisceau rectiligne étroit. Un capteur pyrométrique sensible à une longueur d'onde pyrométrique est installé. Un élément optique dans un trajet optique des circuits optiques est syntonisé pour dévier le rayonnement émanant du plan de la pièce d'usinage vers le capteur de pyrométrie. En conséquence, les circuits optiques imagent chacune des sections respectives du faisceau rectiligne étroit sur une partie correspondante du capteur pyrométrique. L'appareil comporte en outre une unité de commande réagissant au capteur de pyrométrie et couplée pour régler des sorties optiques individuelles de colonnes respectives du réseau de lasers selon les sorties de parties correspondantes du capteur de pyrométrie.
États désignés : AE, AG, AL, AM, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IS, JP, KE, KG, KM, KN, KP, KR, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LT, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PG, PH, PL, PT, RO, RS, RU, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, SV, SY, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW.
Organisation régionale africaine de la propriété intellectuelle (ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LS, MW, MZ, NA, SD, SL, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Office eurasien des brevets (OEAB) (AM, AZ, BY, KG, KZ, MD, RU, TJ, TM)
Office européen des brevets (OEB) (AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MT, NL, PL, PT, RO, SE, SI, SK, TR)
Organisation africaine de la propriété intellectuelle (OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
Langue de publication : anglais (EN)
Langue de dépôt : anglais (EN)