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1. (WO2008002313) ENROBAGE POUR ENTRETOISES DANS ÉCRANS À ÉMISSION
Dernières données bibliographiques dont dispose le Bureau international   

N° de publication :    WO/2008/002313    N° de la demande internationale :    PCT/US2006/025229
Date de publication : 03.01.2008 Date de dépôt international : 28.06.2006
CIB :
H05B 33/10 (2006.01), H05B 33/12 (2006.01), H05B 33/22 (2006.01), H01L 51/50 (2006.01)
Déposants : THOMSON LICENSING [FR/FR]; 46, Quai A. Le Gallo, F-92100 Boulogne-Billancourt (FR) (Tous Sauf US).
EDWARDS, Jame, Francis [US/US]; (US) (US Seulement).
RITT, Peter, Michael [US/US]; (US) (US Seulement)
Inventeurs : EDWARDS, Jame, Francis; (US).
RITT, Peter, Michael; (US)
Mandataire : LAKS, Joseph, J.; Thomson Licensing Inc., Two Independence Way, Suite 200, Princeton, New Jersey 08540 (US)
Données relatives à la priorité :
Titre (EN) COATING FOR SPACERS IN EMISSION DISPLAYS
(FR) ENROBAGE POUR ENTRETOISES DANS ÉCRANS À ÉMISSION
Abrégé : front page image
(EN)A resistive spacer coating for a carbon nanotube (CNT)/ field emission device (FED) display is described. The resistive spacer coating reduces electrostatic charging of the spacer during operation of the display while maintaining the field potential between the cathode and the phosphor screen. The resistive coating includes one or more resistive materials which are combined with binders that are then applied to the spacer.
(FR)Cette invention concerne un enrobage pour entretoises résistives pour un écran à nanotubes de carbone (CNT)/à émission de champ (FED). L'enrobage pour entretoises résistives susmentionné permet de réduire la charge électrostatique de l'entretoise pendant le fonctionnement de l'écran tout en maintenant le potentiel du champ entre la cathode et l'enduit fluorescent. L'enrobage résistive comprend un ou plusieurs matériaux résistifs qui sont combinés avec des liants qui sont ensuite appliqués sur l'entretoise.
États désignés : AE, AG, AL, AM, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IS, JP, KE, KG, KM, KN, KP, KR, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LT, LU, LV, LY, MA, MD, MG, MK, MN, MW, MX, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PG, PH, PL, PT, RO, RS, RU, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, SY, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW.
Organisation régionale africaine de la propriété intellectuelle (ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LS, MW, MZ, NA, SD, SL, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Office eurasien des brevets (OEAB) (AM, AZ, BY, KG, KZ, MD, RU, TJ, TM)
Office européen des brevets (OEB) (AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, NL, PL, PT, RO, SE, SI, SK, TR)
Organisation africaine de la propriété intellectuelle (OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
Langue de publication : anglais (EN)
Langue de dépôt : anglais (EN)