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1. (WO2008002046) APPAREIL ET PROCÉDÉ DE GÉNÉRATION DE FAISCEAU DE PARTICULES NEUTRE D'ÉLÉMENTS SOLIDES
Dernières données bibliographiques dont dispose le Bureau international   

N° de publication :    WO/2008/002046    N° de la demande internationale :    PCT/KR2007/003070
Date de publication : 03.01.2008 Date de dépôt international : 25.06.2007
CIB :
H01L 21/203 (2006.01)
Déposants : KOREA BASIC SCIENCE INSTITUTE [KR/KR]; #52, Eoeun-dong, Yuseong-gu, Daejeon 305-333 (KR) (Tous Sauf US).
YOO, Suk-Jae [KR/KR]; (KR) (US Seulement).
LEE, Bong-Ju [KR/KR]; (KR) (US Seulement)
Inventeurs : YOO, Suk-Jae; (KR).
LEE, Bong-Ju; (KR)
Mandataire : KIM, Jin-Hak; #1106, Kumsan Bldg., 17-1, Youido-dong, Youngdeungpo-ku, Seoul 150-727 (KR)
Données relatives à la priorité :
10-2006-0059196 29.06.2006 KR
Titre (EN) APPARATUS AND METHOD FOR GENERATING SOLID ELEMENT NEUTRAL PARTICLE BEAM
(FR) APPAREIL ET PROCÉDÉ DE GÉNÉRATION DE FAISCEAU DE PARTICULES NEUTRE D'ÉLÉMENTS SOLIDES
Abrégé : front page image
(EN)There is provided an apparatus for generating solid element neutral particle beam. The apparatus comprises a) a plasma discharging space inside which a plasma discharge takes places to produce plasma, b) a solid element coating layer positioned at side of the plasma discharging space to which a first bias voltage is applied to drive plasma ions to the solid element coating layer, c) a first magnetron unit that applies magnetic field across the solid element coating layer, and d) a metal plate positioned at top of the of the plasma discharging space to which a second bias voltage is applied to drive solid element cations to the metal plate. Preferably, the apparatus further comprises a second magnetron unit that applies magnetic field across the metal plate. Par¬ ticularly preferable is that each of the first and second magnetron units comprises a central pole and a side pole having a race track arrangement. The apparatus is useful for surface treatment.
(FR)La présente invention concerne un appareil permettant de générer un faisceau de particules neutres d'éléments solides. Cet appareil comprend : (a) un espace de décharge de plasma à l'intérieur duquel une décharge de plasma prend place afin de produire un plasma, (b) une couche de recouvrement d'éléments solides placée à côté de l'espace de décharge de plasma sur laquelle une première tension polarisée est appliquée de façon à attaquer les ions du plasma sur la couche de revêtement d'éléments solides, (c) une première unité magnétron qui applique un champ magnétique à travers la couche de revêtement d'éléments solides, et (d) une plaque métallique placée au-dessus de l'espace de décharge de plasma sur laquelle une seconde tension polarisée est appliquée de façon à attaquer les cations d'éléments solides sur cette plaque métallique. De préférence, l'appareil comprend aussi une seconde unité magnétron qui applique un champ magnétique à travers la plaque métallique. Dans un mode de réalisation particulièrement préféré, chacune des première et seconde unités magnétron comprend un pôle central et un pôle latéral possédant un agencement en anneau de vitesse. Cet appareil convient pour le traitement de surface.
États désignés : AE, AG, AL, AM, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IS, JP, KE, KG, KM, KN, KP, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LT, LU, LY, MA, MD, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PG, PH, PL, PT, RO, RS, RU, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, SV, SY, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW.
Organisation régionale africaine de la propriété intellectuelle (ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LS, MW, MZ, NA, SD, SL, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Office eurasien des brevets (OEAB) (AM, AZ, BY, KG, KZ, MD, RU, TJ, TM)
Office européen des brevets (OEB) (AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MT, NL, PL, PT, RO, SE, SI, SK, TR)
Organisation africaine de la propriété intellectuelle (OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
Langue de publication : anglais (EN)
Langue de dépôt : coréen (KO)