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1. (WO2008001935) STRUCTURE ANTIREFLET ET PROCÉDÉ DE PRODUCTION DE CETTE DERNIÈRE
Dernières données bibliographiques dont dispose le Bureau international   

N° de publication :    WO/2008/001935    N° de la demande internationale :    PCT/JP2007/063242
Date de publication : 03.01.2008 Date de dépôt international : 02.07.2007
CIB :
G02B 1/11 (2006.01)
Déposants : PANASONIC CORPORATION [JP/JP]; 1006, Oaza Kadoma, Kadoma-shi, Osaka 5718501 (JP) (Tous Sauf US).
TAMURA, Takamasa; (US Seulement).
UMETANI, Makoto; (US Seulement).
ISHIMARU, Kazuhiko; (US Seulement)
Inventeurs : TAMURA, Takamasa; .
UMETANI, Makoto; .
ISHIMARU, Kazuhiko;
Mandataire : MAEDA, Hiroshi; Osaka-Marubeni Bldg. 5-7, Hommachi 2-chome Chuo-ku, Osaka-shi Osaka 5410053 (JP)
Données relatives à la priorité :
2006-181471 30.06.2006 JP
Titre (EN) ANTIREFLECTION STRUCTURE AND METHOD FOR PRODUCING THE SAME
(FR) STRUCTURE ANTIREFLET ET PROCÉDÉ DE PRODUCTION DE CETTE DERNIÈRE
(JA) 反射防止構造体及びその製造方法
Abrégé : front page image
(EN)Disclosed are an antireflection structure and a production method thereof. Specifically disclosed is an antireflection structure which can be easily mass-produced at low cost. The antireflection structure has a surface which is provided with an antireflection arrangement for suppressing reflection of incident light wherein a plurality of fine projections are arranged. This antireflection structure is characterized in that the inverted shape wherein the recesses and projections of the antireflection arrangement are reversed is generally identical with the shape of the antireflection arrangement.
(FR)L'invention concerne une structure antireflet et un procédé de production de cette dernière. Plus spécifiquement, l'invention concerne une structure antireflet qui peut être facilement produite en série à faible coût. La structure antireflet présente une surface qui est pourvue d'un système antireflet destiné à supprimer la réflexion de lumire incidente, une pluralité de parties saillantes fines étant formée sur ladite surface. Ladite structure antireflet est caractérisée en ce que la forme inversée selon laquelle les creux et les parties saillantes du système antireflet sont inversés est généralement identique à la forme du système antireflet.
(JA) 本発明は反射防止構造体及びその製造方法に関する。  安価且つ容易に量産可能な反射防止構造体を提供する。  微細な凸部が複数配列されてなり、入射光の反射を抑制する反射防止構造が表面に形成された反射防止構造体であって、反射防止構造の凹凸を反転させた形状と、反射防止構造の形状とが略同一であることを特徴とする。
États désignés : AE, AG, AL, AM, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IS, JP, KE, KG, KM, KN, KP, KR, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LT, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PG, PH, PL, PT, RO, RS, RU, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, SV, SY, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW.
Organisation régionale africaine de la propriété intellectuelle (ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LS, MW, MZ, NA, SD, SL, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Office eurasien des brevets (OEAB) (AM, AZ, BY, KG, KZ, MD, RU, TJ, TM)
Office européen des brevets (OEB) (AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MT, NL, PL, PT, RO, SE, SI, SK, TR)
Organisation africaine de la propriété intellectuelle (OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
Langue de publication : japonais (JA)
Langue de dépôt : japonais (JA)