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1. (WO2008001871) PROCÉDÉ DE MAINTENANCE, PROCÉDÉ D'EXPOSITION ET PROCÉDÉ DE FABRICATION D'APPAREIL ET DE DISPOSITIF
Dernières données bibliographiques dont dispose le Bureau international   

N° de publication :    WO/2008/001871    N° de la demande internationale :    PCT/JP2007/063049
Date de publication : 03.01.2008 Date de dépôt international : 28.06.2007
CIB :
H01L 21/027 (2006.01), G03F 7/20 (2006.01)
Déposants : NIKON CORPORATION [JP/JP]; 2-3 Marunouchi 3-chome, Chiyoda-ku Tokyo 1008331 (JP) (Tous Sauf US).
YODA, Yasushi [JP/JP]; (JP) (US Seulement)
Inventeurs : YODA, Yasushi; (JP)
Mandataire : OMORI, Satoshi; Omori Patent Office 2075-2-501, Noborito Tama-ku, Kawasaki-shi Kanagawa 2140014 (JP)
Données relatives à la priorité :
2006-182561 30.06.2006 JP
Titre (EN) MAINTENANCE METHOD, EXPOSURE METHOD AND APPARATUS AND DEVICE MANUFACTURING METHOD
(FR) PROCÉDÉ DE MAINTENANCE, PROCÉDÉ D'EXPOSITION ET PROCÉDÉ DE FABRICATION D'APPAREIL ET DE DISPOSITIF
(JA) メンテナンス方法、露光方法及び装置、並びにデバイス製造方法
Abrégé : front page image
(EN)Provided is a maintenance method for efficiently maintaining an exposure apparatus which performs exposure by immersion method. The method for maintaining the exposure apparatus which exposes a substrate with an exposure light through a projection optical system (PL) and a liquid (1) in an immersion area (AR2) is provided with a moving step wherein a measuring table (MTB) is arranged to face a nozzle member (30) which forms the immersion area (AR2); an accumulation step wherein the liquid (1) is supplied over the measuring table (MTB) by using a nozzle member (30), and the supplied liquid is accumulated in a cylinder section (91); and a cleaning step wherein the liquid (1) accumulated in the accumulating step is jetted through a jet nozzle section (90) to an area including at least a part of a section which has a possibility of making contact with the liquid (1) during exposure by the immersion method.
(FR)La présente invention fournit un procédé de maintenance destiné à maintenir de façon efficace un appareil d'exposition qui effectue une exposition par un procédé d'immersion. Le procédé de maintenance de l'appareil d'exposition qui expose un substrat à une lumière d'exposition au moyen d'un système optique de projection (PL) et d'un liquide (1) dans une zone d'immersion (AR2) est pourvu d'une étape de déplacement dans laquelle une table à mesurer (MTB) est agencée de manière à faire face à un élément de tuyère (30) qui forme la zone d'immersion (AR2) ; d'une étape d'accumulation dans laquelle le liquide (1) est fourni sur la table à mesurer (MTB) en utilisant un élément de tuyère (30), et le liquide fourni est accumulé dans une section de cylindre (91) ; et d'une étape de nettoyage dans laquelle le liquide (1) accumulé lors de l'étape d'accumulation est giclé à travers une section de tuyère d'éjection (90) vers une zone incluant au moins une partie d'une section qui a la possibilité d'entrer en contact avec le liquide (1) au cours de l'exposition par le procédé d'immersion.
(JA) 液浸法で露光を行う露光装置のメンテナンスを効率的に行うことができるメンテナンス方法である。投影光学系(PL)と液浸領域(AR2)の液体(1)とを介して露光光で基板を露光する露光装置のメンテナンス方法において、液浸領域(AR2)を形成するノズル部材(30)と対向して計測テーブル(MTB)を配置する移動工程と、ノズル部材(30)を用いて計測テーブル(MTB)上に液体(1)を供給し、この供給された液体をシリンダー部(91)内に蓄積する蓄積工程と、液浸法による露光時に液体(1)と接する可能性のある接液部の少なくとも一部を含む領域に向けて、その蓄積工程で蓄積された液体(1)をジェットノズル部(90)から噴出する洗浄工程とを有する。
États désignés : AE, AG, AL, AM, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IS, JP, KE, KG, KM, KN, KP, KR, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LT, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PG, PH, PL, PT, RO, RS, RU, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, SV, SY, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW.
Organisation régionale africaine de la propriété intellectuelle (ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LS, MW, MZ, NA, SD, SL, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Office eurasien des brevets (OEAB) (AM, AZ, BY, KG, KZ, MD, RU, TJ, TM)
Office européen des brevets (OEB) (AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MT, NL, PL, PT, RO, SE, SI, SK, TR)
Organisation africaine de la propriété intellectuelle (OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
Langue de publication : japonais (JA)
Langue de dépôt : japonais (JA)