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1. (WO2008001723) DISPOSITIF DE FABRICATION D'UN FILM MINCE ET PROCÉDÉ DE FABRICATION D'UN FILM MINCE
Dernières données bibliographiques dont dispose le Bureau international   

N° de publication :    WO/2008/001723    N° de la demande internationale :    PCT/JP2007/062701
Date de publication : 03.01.2008 Date de dépôt international : 25.06.2007
CIB :
C23C 16/455 (2006.01), C23C 16/509 (2006.01), H05H 1/24 (2006.01)
Déposants : Konica Minolta Holdings, Inc. [JP/JP]; 6-1, Marunouchi 1-chome, Chiyoda-ku, Tokyo 1000005 (JP) (Tous Sauf US).
MAMIYA, Chikao [JP/JP]; (JP) (US Seulement).
KUDO, Ichiro [JP/JP]; (JP) (US Seulement).
SUZUKI, Masanobu [JP/JP]; (JP) (US Seulement).
OISHI, Kiyoshi [JP/JP]; (JP) (US Seulement).
YAMASHITA, Daishi [JP/JP]; (JP) (US Seulement)
Inventeurs : MAMIYA, Chikao; (JP).
KUDO, Ichiro; (JP).
SUZUKI, Masanobu; (JP).
OISHI, Kiyoshi; (JP).
YAMASHITA, Daishi; (JP)
Données relatives à la priorité :
2006-177813 28.06.2006 JP
Titre (EN) THIN FILM FORMING APPARATUS AND THIN FILM FORMING METHOD
(FR) DISPOSITIF DE FABRICATION D'UN FILM MINCE ET PROCÉDÉ DE FABRICATION D'UN FILM MINCE
(JA) 薄膜形成装置、及び、薄膜形成方法
Abrégé : front page image
(EN)Disclosed is a thin film forming apparatus which is a plasma discharge processing apparatus for performing a plasma discharge processing on the surface of a continuously transported base at or near atmospheric pressure, wherein a reverse flow of the processing gas is prevented and thus a thin film having good quality is formed by a uniform gas flow. The thin film forming apparatus is characterized by having an auxiliary gas discharge means for discharging an auxiliary gas for preventing a reverse flow of the processing gas. Also disclosed are a thin film forming method, and a thin film.
(FR)L'invention concerne un dispositif de fabrication d'un film mince correspondant à un dispositif de traitement par décharge plasma en vue de la mise en œuvre d'un traitement par décharge plasma sur la surface d'une base transportée en continu sous pression atmosphérique ou quasiment, tout retour en arrière du gaz de traitement étant évité, avec pour résultat l'obtention d'un film mince de qualité supérieure grâce à un courant gazeux constant. Le dispositif de fabrication du film mince est caractérisé en ce qu'il possède un dispositif de décharge de gaz auxiliaire en vue de la décharge d'un gaz auxiliaire afin d'éviter un retour en arrière du gaz de traitement. L'invention concerne également un procédé de fabrication d'un film mince et un film mince.
(JA) 本発明は、連続的に移送する基材の表面を大気圧もしくはその近傍の圧力下でプラズマ放電処理するプラズマ放電処理装置であって、処理ガスの逆流を抑止し、均一なガス流れにより良好な膜質を有する薄膜形成装置、薄膜形成方法薄及び薄膜を提供する。このために処理ガスの逆流を抑止する補助ガスを吐出させる補助ガス吐出手段を有することを特徴とする。
États désignés : AE, AG, AL, AM, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IS, JP, KE, KG, KM, KN, KP, KR, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LT, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PG, PH, PL, PT, RO, RS, RU, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, SV, SY, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW.
Organisation régionale africaine de la propriété intellectuelle (ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LS, MW, MZ, NA, SD, SL, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Office eurasien des brevets (OEAB) (AM, AZ, BY, KG, KZ, MD, RU, TJ, TM)
Office européen des brevets (OEB) (AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MT, NL, PL, PT, RO, SE, SI, SK, TR)
Organisation africaine de la propriété intellectuelle (OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
Langue de publication : japonais (JA)
Langue de dépôt : japonais (JA)