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1. (WO2008001595) DISPOSITIF D'AFFICHAGE À CRISTAUX LIQUIDES ET PROCÉDÉ DE FABRICATION DU DISPOSITIF D'AFFICHAGE À CRISTAUX LIQUIDES
Dernières données bibliographiques dont dispose le Bureau international   

N° de publication :    WO/2008/001595    N° de la demande internationale :    PCT/JP2007/061632
Date de publication : 03.01.2008 Date de dépôt international : 08.06.2007
CIB :
G02F 1/1335 (2006.01), G02F 1/1333 (2006.01), G02F 1/1368 (2006.01)
Déposants : SHARP KABUSHIKI KAISHA [JP/JP]; 22-22, Nagaike-cho, Abeno-ku, Osaka-shi, Osaka 5458522 (JP) (Tous Sauf US).
HARA, Yoshihito; (US Seulement).
KIKUCHI, Tetsuo; (US Seulement).
KITAGAWA, Hideki; (US Seulement).
IMAI, Hajime; (US Seulement)
Inventeurs : HARA, Yoshihito; .
KIKUCHI, Tetsuo; .
KITAGAWA, Hideki; .
IMAI, Hajime;
Mandataire : OKUDA, Seiji; OKUDA & ASSOCIATES, 10th Floor Osaka Securities Exchange Bldg. 8-16, Kitahama 1-chome, Chuo-ku Osaka-shi, Osaka 5410041 (JP)
Données relatives à la priorité :
2006-182264 30.06.2006 JP
Titre (EN) LIQUID CRYSTAL DISPLAY AND METHOD FOR MANUFACTURING LIQUID CRYSTAL DISPLAY
(FR) DISPOSITIF D'AFFICHAGE À CRISTAUX LIQUIDES ET PROCÉDÉ DE FABRICATION DU DISPOSITIF D'AFFICHAGE À CRISTAUX LIQUIDES
(JA) 液晶表示装置および液晶表示装置の製造方法
Abrégé : front page image
(EN)The present invention aims to provide a semi-transmissive liquid crystal display and a semi-reflective liquid crystal display each having high image quality at low cost. Specifically disclosed is a liquid crystal display comprising a reflective unit for reflecting incident light toward the display surface. The reflective unit comprises an insulating layer, a semiconductor layer formed on the insulating layer, and a reflective layer formed on the semiconductor layer. The surface of the reflective layer is provided with a first recess and a second recess formed within the first recess. Further, the reflective unit comprises a first region and a second region which are different from each other in the total thickness of the insulating layer and the semiconductor layer. The first recess and the second recess are formed according to the cross sectional shape of at least one of the insulating layer and the semiconductor layer.
(FR)La présente invention vise à proposer un dispositif d'affichage à cristaux liquides semi-transmittif et un dispositif d'affichage à cristaux liquides semi-réfléchissant, ayant chacun une qualité d'image élevée à bas coût. L'invention concerne de façon spécifique un dispositif d'affichage à cristaux liquides comprenant une unité réfléchissante pour réfléchir la lumière incidente vers la surface d'affichage. L'unité réfléchissante comprend une couche isolante, une couche semi-conductrice formée sur la couche isolante et une couche réfléchissante formée sur la couche semi-conductrice. La surface de la couche réfléchissante comporte une première cavité et une seconde cavité formée à l'intérieur de la première cavité. De plus, l'unité réfléchissante comprend une première région et une seconde région qui sont différentes l'une de l'autre dans l'épaisseur totale de la couche isolante de la couche semi-conductrice. La première cavité et la seconde cavité sont formées conformément à la forme en coupe d'au moins une des couches isolante et semi-conductrice.
(JA) 本発明は、高画質の半透過型液晶表示装置および反射型液晶表示装置を低コストで提供することを目的としている。本発明の液晶表示装置は、入射光を表示面に向けて反射させる反射部を備えた液晶表示装置であって、反射部は、絶縁層と、絶縁層の上に形成された半導体層と、半導体層の上に形成された反射層とを備え、反射層の表面には、第1凹部、および第1凹部の内側に位置する第2凹部が形成されており、反射部は、絶縁層の厚さと半導体層の厚さとの合計の厚さが互いに異なる第1領域と第2領域とを含み、前記第1凹部及び前記第2凹部が、前記絶縁層及び前記半導体層の少なくとも一方の断面形状に応じて形成されている。
États désignés : AE, AG, AL, AM, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IS, JP, KE, KG, KM, KN, KP, KR, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LT, LU, LY, MA, MD, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PG, PH, PL, PT, RO, RS, RU, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, SV, SY, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW.
Organisation régionale africaine de la propriété intellectuelle (ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LS, MW, MZ, NA, SD, SL, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Office eurasien des brevets (OEAB) (AM, AZ, BY, KG, KZ, MD, RU, TJ, TM)
Office européen des brevets (OEB) (AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MT, NL, PL, PT, RO, SE, SI, SK, TR)
Organisation africaine de la propriété intellectuelle (OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
Langue de publication : japonais (JA)
Langue de dépôt : japonais (JA)